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    • 1. 发明专利
    • 三苯酚類及其單酯取代物之製造方法及4-醯基芳烷基苯酚衍生物 METHODS FOR PRODUCING TRISPHENOLS AND MONOESTERSUBSTITUTED COMPOUND THEREOF, AND A 4-ACYLARAKYLPHENOL DERIVATIVES
    • 三苯酚类及其单酯取代物之制造方法及4-酰基芳烷基苯酚衍生物 METHODS FOR PRODUCING TRISPHENOLS AND MONOESTERSUBSTITUTED COMPOUND THEREOF, AND A 4-ACYLARAKYLPHENOL DERIVATIVES
    • TW201105624A
    • 2011-02-16
    • TW099116045
    • 2010-05-19
    • 本州化學工業有限公司
    • 尾尻明彥辻上隆章丹波孝一
    • C07C
    • C07C49/82C07C37/0555C07C37/20C07C45/455C07C45/673C07C49/83C07C67/08C07C67/14C07C67/29C07C69/017C07C69/157C07C39/16
    • 為了提供於工業上容易地以高收率、高純度製造有用於作為環氧樹脂、聚碳酸酯樹脂等高分子化合物之原料或光阻劑之原料或添加劑的三苯酚類的方法以及4-醯基芳烷基苯酚衍生物,故本發明提供一種製造通式(1)所示之三苯酚類之製造方法,其係以通式(2)所示之4-芳烷基苯酚衍生物類作為起始原料;

      (式中,R1至R4各自獨立地表示氫原子、烷基、烷氧基、芳香族烴基、鹵原子、醯氧基或羥基,R5及R6各自獨立地表示氫原子或烷基,R7表示氫原子或烷基,R0表示烷基、烷氧基或鹵原子,n表示0或1至4之整數;惟,n為2以上時,R0可為相同或不同;R9至R11各自獨立地表示氫原子、烷基、烷氧基、芳香族烴基、鹵原子或羥基)

      (式中,R1至R4、R5及R6、R0及n係與通式(1)中之各者相同,X表示氫原子或可與氫原子置換之脫離基;惟,n為1以上時,R0不取代在苯基之4位);並且,本發明亦提供4-醯基芳烷基苯酚衍生物。
    • 为了提供于工业上容易地以高收率、高纯度制造有用于作为环氧树脂、聚碳酸酯树脂等高分子化合物之原料或光阻剂之原料或添加剂的三苯酚类的方法以及4-酰基芳烷基苯酚衍生物,故本发明提供一种制造通式(1)所示之三苯酚类之制造方法,其系以通式(2)所示之4-芳烷基苯酚衍生物类作为起始原料; (式中,R1至R4各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳香族烃基、卤原子、酰氧基或羟基,R5及R6各自独立地表示氢原子或烷基,R7表示氢原子或烷基,R0表示烷基、烷氧基或卤原子,n表示0或1至4之整数;惟,n为2以上时,R0可为相同或不同;R9至R11各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳香族烃基、卤原子或羟基) (式中,R1至R4、R5及R6、R0及n系与通式(1)中之各者相同,X表示氢原子或可与氢原子置换之脱离基;惟,n为1以上时,R0不取代在苯基之4位);并且,本发明亦提供4-酰基芳烷基苯酚衍生物。