会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 用於產生凹凸觸感之水壓轉印方法
    • 用于产生凹凸触感之水压转印方法
    • TW201612026A
    • 2016-04-01
    • TW103133596
    • 2014-09-26
    • 大勤化成股份有限公司DAIGIN CHEMICAL CO., LTD.
    • 吳盧漢檉WU LU, HAN CHENG黃朝鍵HUANG, CHAO CHEIN
    • B44C1/175
    • B44C1/1756B41M3/12
    • 一種水壓轉印方法,包含:(a)在一水溶性薄膜基材上以雷射凹版印刷形成一圖案層,該圖案層包括至少二相間隔且由油溶性塗料形成的圖案區;(b)形成一油溶性固定層,該油溶性固定層位在該水溶性薄膜基材及該圖案層上方且部分填充在該等圖案區之間;(c)在該油溶性固定層上形成一可固化的活化劑層,以得到該水壓轉印膜結構;及(d)將一物件接觸該水壓轉印膜結構之活化劑層並將該水壓轉印膜結構之水溶性薄膜壓入水中,使該水壓轉印膜結構覆蓋於該物件的表面。本發明水壓轉印方法可在物件上密著並形成具有明顯凹凸觸感的高解析立體圖案。
    • 一种水压转印方法,包含:(a)在一水溶性薄膜基材上以激光凹版印刷形成一图案层,该图案层包括至少二相间隔且由油溶性涂料形成的图案区;(b)形成一油溶性固定层,该油溶性固定层位在该水溶性薄膜基材及该图案层上方且部分填充在该等图案区之间;(c)在该油溶性固定层上形成一可固化的活化剂层,以得到该水压转印膜结构;及(d)将一对象接触该水压转印膜结构之活化剂层并将该水压转印膜结构之水溶性薄膜压入水中,使该水压转印膜结构覆盖于该对象的表面。本发明水压转印方法可在对象上密着并形成具有明显凹凸触感的高解析三維图案。
    • 5. 发明专利
    • 使用絹印法的陶瓷物品之浮雕裝飾
    • 使用绢印法的陶瓷物品之浮雕装饰
    • TW330897B
    • 1998-05-01
    • TW086113783
    • 1997-09-23
    • 查派克公司
    • 巴斯泰尼卡爾森
    • B44C
    • B41M1/12B41M3/12B44C1/1712
    • 一種陶瓷物品基礎浮雕裝飾之製法,取代習知人工應用浮雕特點,此法涉及在轉印貼花片表面絹印浮雕特點之特殊技術,典型上貼花片先印好習知二維度主要設計。新法包含非凡厚度的絹印模繪版,至少 0.015〞,可多達0.125〞,其特徵為具有無限制的不匯聚貫穿孔。陶瓷油墨調配至粘度大,可與花生奶油相比,粘度超過1百萬厘泊。油墨本性有抗流動性,利用慢動塗刷器強制通模繪版的通孔。塗刷器的作用是在提起模繪版之前。增加油墨在轉印貼花紙上的滯留時間。印刷設計即由貼花片轉印到陶瓷物品,再利用通常方式燃燒的窯,溶化在陶瓷物品。浮雕設計元件即以三維度突顯在陶瓷物品上。實施本發明可實現格外的生產經濟性。
    • 一种陶瓷物品基础浮雕装饰之制法,取代习知人工应用浮雕特点,此法涉及在转印贴花片表面绢印浮雕特点之特殊技术,典型上贴花片先印好习知二维度主要设计。新法包含非凡厚度的绢印模绘版,至少 0.015〞,可多达0.125〞,其特征为具有无限制的不汇聚贯穿孔。陶瓷油墨调配至粘度大,可与花生黃油相比,粘度超过1百万厘泊。油墨本性有抗流动性,利用慢动涂刷器强制通模绘版的通孔。涂刷器的作用是在提起模绘版之前。增加油墨在转印贴花纸上的滞留时间。印刷设计即由贴花片转印到陶瓷物品,再利用通常方式燃烧的窑,溶化在陶瓷物品。浮雕设计组件即以三维度突显在陶瓷物品上。实施本发明可实现格外的生产经济性。
    • 8. 发明专利
    • 具備設計面淨化機構之液壓轉印方法以及其液壓轉印裝置
    • 具备设计面净化机构之液压转印方法以及其液压转印设备
    • TW201231307A
    • 2012-08-01
    • TW100145638
    • 2011-12-09
    • 塔壹卡股份有限公司
    • 吉井揚一郎鈴木榮次牛渡榮井柳克美
    • B41MB41F
    • B41F16/00B41F16/0006B41F16/0073B41M3/12B41M5/025B41M5/03B44C1/175
    • 本發明之課題在於開發一種雖為比較簡單之構造亦可使自轉印液中浮上之被轉印體之設計面上難以使轉印液面上之薄膜殘渣或泡等靠近的新穎液壓轉印手法。本發明係關於一種自轉印槽上方按壓被轉印體而於被轉印體之表面形成適宜之轉印圖案的液壓轉印手法,其特徵在於:於轉印槽上在被轉印體自轉印液中提起之出液區域內,藉由溢流槽等之設計面淨化機構而形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流,使轉印液面上之泡或液中滯留的夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面而排出至轉印槽外。
    • 本发明之课题在于开发一种虽为比较简单之构造亦可使自转印液中浮上之被转印体之设计面上难以使转印液面上之薄膜残渣或泡等靠近的新颖液压转印手法。本发明系关于一种自转印槽上方按压被转印体而于被转印体之表面形成适宜之转印图案的液压转印手法,其特征在于:于转印槽上在被转印体自转印液中提起之出液区域内,借由溢流槽等之设计面净化机构而形成自出液中之被转印体之设计面远离的设计面背离流,使转印液面上之泡或液中滞留的夹杂物远离出液中之被转印体之设计面而排出至转印槽外。
    • 9. 发明专利
    • 熱轉印遮片材料及其使用方法 HEAT TRANSFER MASKING SHEET MATERIALS AND METHOD OF USE THEREOF
    • 热转印遮片材料及其使用方法 HEAT TRANSFER MASKING SHEET MATERIALS AND METHOD OF USE THEREOF
    • TW200621529A
    • 2006-07-01
    • TW094117977
    • 2005-06-01
    • 里拿紙業有限公司 NEENAH PAPER, INC.
    • 法蘭西斯.J.喀隆澤 FRANCIS JOSEPH KRONZER
    • B41M
    • B41M3/12
    • 在一具體實施例中,將一圖樣應用到受印物的方法包括的步驟有:以一圖樣在可印製的表面上構成圖樣,來形成含有可印製區域和不可印製區域的圖樣表面;將一包含有外遮蔽層的遮蔽片定位鄰接在圖樣表面,使得外遮蔽層與圖樣表面接觸;轉印外側遮蔽層的對應部份到圖樣表面的受印區域,在遮蔽片上留下負片圖樣遮膜;轉印負片圖樣遮膜到熱轉印紙的轉印層,來形成一含有對應負片圖樣遮膜部份及非遮蔽部分的熱轉印紙;並且將對應於受印區域的非遮蔽部分轉印到受印物。其他製作和使用負片圖樣遮膜的方法也有所揭露。
    • 在一具体实施例中,将一图样应用到受印物的方法包括的步骤有:以一图样在可印制的表面上构成图样,来形成含有可印制区域和不可印制区域的图样表面;将一包含有外屏蔽层的屏蔽片定位邻接在图样表面,使得外屏蔽层与图样表面接触;转印外侧屏蔽层的对应部份到图样表面的受印区域,在屏蔽片上留下负片图样遮膜;转印负片图样遮膜到热转印纸的转印层,来形成一含有对应负片图样遮膜部份及非屏蔽部分的热转印纸;并且将对应于受印区域的非屏蔽部分转印到受印物。其他制作和使用负片图样遮膜的方法也有所揭露。