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1. 发明专利

TW201323246A 轉印薄膜之液面活性化方法以及適用其之液壓轉印方法以及液壓轉印裝置审中-公开
简体标题：转印薄膜之液面活性化方法以及适用其之液压转印方法以及液压转印设备
公开(公告)号：TW201323246A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW100145637
申请日：2011-12-09
申请人：塔壹卡股份有限公司 , TAICA CORPORATION
发明人：吉井揚一郎 , YOSHII, YOUICHIRO , 鈴木榮次 , SUZUKI, EIJI , 井柳克美 , IYANAGI, KATSUMI , 牛渡榮 , USHIWATA, SAKAE
IPC分类号： B44C1/16 , B41M3/12 , B41F16/00
摘要：本發明之課題在於開發一種即便以向轉印液面上供給轉印薄膜而活性化為前提，亦可持續進行精緻之轉印的新穎活性化方法以及液壓轉印手法。本發明之特徵在於：自轉印槽之上方按壓被轉印體，而於被轉印體之表面形成適宜之轉印圖案時，於轉印槽上設置將與轉印槽中央呈中心對準而供給之轉印薄膜於轉印槽之左右均等位置保持薄膜兩側而向活性化區域導引的活性化前導引機構，藉此保持轉印薄膜之期間，促進薄膜向厚度方向之膨潤，且於活性化區域，於解除活性化前導引機構對轉印薄膜之導引作用的狀態下向轉印薄膜上塗佈活性劑。
简体摘要：本发明之课题在于开发一种即便以向转印液面上供给转印薄膜而活性化为前提，亦可持续进行精致之转印的新颖活性化方法以及液压转印手法。本发明之特征在于：自转印槽之上方按压被转印体，而于被转印体之表面形成适宜之转印图案时，于转印槽上设置将与转印槽中央呈中心对准而供给之转印薄膜于转印槽之左右均等位置保持薄膜两侧而向活性化区域导引的活性化前导引机构，借此保持转印薄膜之期间，促进薄膜向厚度方向之膨润，且于活性化区域，于解除活性化前导引机构对转印薄膜之导引作用的状态下向转印薄膜上涂布活性剂。

2. 发明专利

TWI545029B 具備設計面淨化機構之液壓轉印方法以及其液壓轉印裝置失效
简体标题：具备设计面净化机构之液压转印方法以及其液压转印设备
公开(公告)号：TWI545029B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW100145638
申请日：2011-12-09
申请人：塔壹卡股份有限公司 , TAICA CORPORATION
发明人：吉井揚一郎 , YOSHII, YOUICHIRO , 鈴木榮次 , SUZUKI, EIJI , 牛渡榮 , USHIWATA, SAKAE , 井柳克美 , IYANAGI, KATSUMI
IPC分类号： B41M3/12 , B41F16/00
CPC分类号： B41F16/00 , B41F16/0006 , B41F16/0073 , B41M3/12 , B41M5/025 , B41M5/03 , B44C1/175

3. 发明专利

TWI529071B 轉印薄膜之液面活性化方法以及適用其之液壓轉印方法以及液壓轉印裝置有权
简体标题：转印薄膜之液面活性化方法以及适用其之液压转印方法以及液压转印设备
公开(公告)号：TWI529071B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW100145637
申请日：2011-12-09
申请人：塔壹卡股份有限公司 , TAICA CORPORATION
发明人：吉井揚一郎 , YOSHII, YOUICHIRO , 鈴木榮次 , SUZUKI, EIJI , 井柳克美 , IYANAGI, KATSUMI , 牛渡榮 , USHIWATA, SAKAE
IPC分类号： B44C1/16 , B41M3/12 , B41F16/00

4. 发明专利

TWI510374B 液面殘留膜之回收方法及適用此之液壓轉印方法、其回收裝置及適用此之液壓轉印裝置失效
简体标题：液面残留膜之回收方法及适用此之液压转印方法、其回收设备及适用此之液压转印设备
公开(公告)号：TWI510374B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW099136277
申请日：2010-10-22
申请人：塔壹卡股份有限公司 , TAICA CORPORATION
发明人：吉井揚一郎 , YOSHII, YOUICHIRO , 鈴木榮次 , SUZUKI, EIJI , 牛渡榮 , USHIWATA, SAKAE
IPC分类号： B41F16/00 , B41M5/382
CPC分类号： B44C1/175 , B41F16/006 , B44C1/1758 , Y10T137/0318 , Y10T137/85978

5. 发明专利

TW201231307A 具備設計面淨化機構之液壓轉印方法以及其液壓轉印裝置失效
简体标题：具备设计面净化机构之液压转印方法以及其液压转印设备
公开(公告)号：TW201231307A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100145638
申请日：2011-12-09
申请人：塔壹卡股份有限公司
发明人：吉井揚一郎 , 鈴木榮次 , 牛渡榮 , 井柳克美
IPC分类号： B41M , B41F
CPC分类号： B41F16/00 , B41F16/0006 , B41F16/0073 , B41M3/12 , B41M5/025 , B41M5/03 , B44C1/175
摘要：本發明之課題在於開發一種雖為比較簡單之構造亦可使自轉印液中浮上之被轉印體之設計面上難以使轉印液面上之薄膜殘渣或泡等靠近的新穎液壓轉印手法。本發明係關於一種自轉印槽上方按壓被轉印體而於被轉印體之表面形成適宜之轉印圖案的液壓轉印手法，其特徵在於：於轉印槽上在被轉印體自轉印液中提起之出液區域內，藉由溢流槽等之設計面淨化機構而形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流，使轉印液面上之泡或液中滯留的夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面而排出至轉印槽外。
简体摘要：本发明之课题在于开发一种虽为比较简单之构造亦可使自转印液中浮上之被转印体之设计面上难以使转印液面上之薄膜残渣或泡等靠近的新颖液压转印手法。本发明系关于一种自转印槽上方按压被转印体而于被转印体之表面形成适宜之转印图案的液压转印手法，其特征在于：于转印槽上在被转印体自转印液中提起之出液区域内，借由溢流槽等之设计面净化机构而形成自出液中之被转印体之设计面远离的设计面背离流，使转印液面上之泡或液中滞留的夹杂物远离出液中之被转印体之设计面而排出至转印槽外。

6. 发明专利

TW201127639A 液面殘留膜之回收方法及適用此之液壓轉印方法、其回收裝置及適用此之液壓轉印裝置失效
简体标题：液面残留膜之回收方法及适用此之液压转印方法、其回收设备及适用此之液压转印设备
公开(公告)号：TW201127639A
公开(公告)日：2011-08-16
申请号：TW099136277
申请日：2010-10-22
申请人：塔壹卡股份有限公司
发明人：吉井揚一郎 , 鈴木榮次 , 牛渡榮
IPC分类号： B41F , B41M
CPC分类号： B44C1/175 , B41F16/006 , B44C1/1758 , Y10T137/0318 , Y10T137/85978
摘要：本發明之課題在於開發一種新穎的液面殘留膜之回收方法與液壓轉印方法，不會對存在於轉印位置之轉印膜帶來不良影響，而且構造比較簡單且成本較低。本發明之特徵在於：其係將轉印後之浮游於液面上之液面殘留膜加以回收之方法，於轉印槽中，於左右兩側壁之內側，具備保持轉印膜之兩側並將其移送至浸沒區域為止之膜保持機構，又，為了將轉印後多餘之膜加以回收，而於直至使被轉印體出液為止之期間，藉由分割單元而將液面殘留膜以於轉印槽之長度方向分割之方式而加以分斷，並使經分斷之膜靠近轉印槽之兩側壁，又，於該側壁部分解除膜保持機構對膜之保持作用，自該解除部位將經分斷之液面殘留膜排出至轉印槽外。
简体摘要：本发明之课题在于开发一种新颖的液面残留膜之回收方法与液压转印方法，不会对存在于转印位置之转印膜带来不良影响，而且构造比较简单且成本较低。本发明之特征在于：其系将转印后之浮游于液面上之液面残留膜加以回收之方法，于转印槽中，于左右两侧壁之内侧，具备保持转印膜之两侧并将其移送至浸没区域为止之膜保持机构，又，为了将转印后多余之膜加以回收，而于直至使被转印体出液为止之期间，借由分割单元而将液面残留膜以于转印槽之长度方向分割之方式而加以分断，并使经分断之膜靠近转印槽之两侧壁，又，于该侧壁部分解除膜保持机构对膜之保持作用，自该解除部位将经分断之液面残留膜排出至转印槽外。

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