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    • 4. 发明专利
    • 具備設計面淨化機構之液壓轉印方法以及其液壓轉印裝置
    • 具备设计面净化机构之液压转印方法以及其液压转印设备
    • TW201231307A
    • 2012-08-01
    • TW100145638
    • 2011-12-09
    • 塔壹卡股份有限公司
    • 吉井揚一郎鈴木榮次牛渡榮井柳克美
    • B41MB41F
    • B41F16/00B41F16/0006B41F16/0073B41M3/12B41M5/025B41M5/03B44C1/175
    • 本發明之課題在於開發一種雖為比較簡單之構造亦可使自轉印液中浮上之被轉印體之設計面上難以使轉印液面上之薄膜殘渣或泡等靠近的新穎液壓轉印手法。本發明係關於一種自轉印槽上方按壓被轉印體而於被轉印體之表面形成適宜之轉印圖案的液壓轉印手法,其特徵在於:於轉印槽上在被轉印體自轉印液中提起之出液區域內,藉由溢流槽等之設計面淨化機構而形成自出液中之被轉印體之設計面遠離的設計面背離流,使轉印液面上之泡或液中滯留的夾雜物遠離出液中之被轉印體之設計面而排出至轉印槽外。
    • 本发明之课题在于开发一种虽为比较简单之构造亦可使自转印液中浮上之被转印体之设计面上难以使转印液面上之薄膜残渣或泡等靠近的新颖液压转印手法。本发明系关于一种自转印槽上方按压被转印体而于被转印体之表面形成适宜之转印图案的液压转印手法,其特征在于:于转印槽上在被转印体自转印液中提起之出液区域内,借由溢流槽等之设计面净化机构而形成自出液中之被转印体之设计面远离的设计面背离流,使转印液面上之泡或液中滞留的夹杂物远离出液中之被转印体之设计面而排出至转印槽外。