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    • 6. 发明专利
    • 表面保護薄膜及光學構件
    • 表面保护薄膜及光学构件
    • TW201805159A
    • 2018-02-16
    • TW106123610
    • 2017-07-14
    • 日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 天野立巳AMANO, TATSUMI片岡賢一KATAOKA, KENICHI
    • B32B7/12C09J7/02G02B1/10
    • B32B27/00B32B27/18C08J7/04C09J11/06C09J121/00C09J133/00C09J175/04C09J183/04C09J201/00G02B1/16
    • 本發明課題在於提供一種表面保護薄膜及光學構件,該表面保護薄膜之表面電阻率之經時穩定性優異,且在貼合到具觸控感應器機能之光學構件的狀態下,可達成觸控感應器正常動作。解決手段上,本發明表面保護薄膜之特徵在於具備:具第一面及第二面之基材、設置在前述基材之前述第一面的抗靜電層、及在前述基材之前述第二面且由黏著劑組成物形成的黏著劑層;前述抗靜電層是由抗靜電劑組成物形成,該抗靜電劑組成物含有作為導電性聚合物成分的聚苯胺磺酸及以聚陰離子類摻雜之聚噻吩類、以及黏合劑;前述聚苯胺磺酸與前述以聚陰離子摻雜之聚噻吩類的摻合比例(質量比)為51:49~95:5。
    • 本发明课题在于提供一种表面保护薄膜及光学构件,该表面保护薄膜之表面电阻率之经时稳定性优异,且在贴合到具触摸感应器机能之光学构件的状态下,可达成触摸感应器正常动作。解决手段上,本发明表面保护薄膜之特征在于具备:具第一面及第二面之基材、设置在前述基材之前述第一面的抗静电层、及在前述基材之前述第二面且由黏着剂组成物形成的黏着剂层;前述抗静电层是由抗静电剂组成物形成,该抗静电剂组成物含有作为导电性聚合物成分的聚苯胺磺酸及以聚阴离子类掺杂之聚噻吩类、以及黏合剂;前述聚苯胺磺酸与前述以聚阴离子掺杂之聚噻吩类的掺合比例(质量比)为51:49~95:5。