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1. 发明专利

TWI454319B 塗佈裝置及使用該塗佈裝置以形成塗佈層之方法有权
简体标题：涂布设备及使用该涂布设备以形成涂布层之方法
公开(公告)号：TWI454319B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW099145872
申请日：2010-12-24
申请人： LG顯示器股份有限公司 , LG DISPLAY CO., LTD.
发明人：鄭泰均 , JEONG, TAE-KYUN , 鄭景得 , JEONG, KYONG-DEUK , 朴鍾翼 , PARK, JONG-IK , 金明植 , KIM, MYUNG-SHIK , 金炯元 , KIM, HYOUNG-WON , 申東起 , SHIN, DONG-KI , 崔丁學 , CHOI, JEONG-HAK
IPC分类号： B05C5/00 , B05B15/02
CPC分类号： B05B15/52 , B05B3/12 , B05B15/5223 , B05B15/55 , B05B15/70 , B05C3/09 , B05C3/10 , B05C11/11 , B05C13/00 , B05D1/005 , B05D1/02 , B05D1/26 , B41J2/16547 , C03C17/002 , G03F7/16 , G11B7/266 , H01L21/67051 , Y10S134/902 , Y10S135/902

2. 发明专利

TW288108B 在處理溶液中均勻處理物品的方法和裝置失效
简体标题：在处理溶液中均匀处理物品的方法和设备
公开(公告)号：TW288108B
公开(公告)日：1996-10-11
申请号：TW084101568
申请日：1995-02-21
申请人：汽巴–嘉基股份有限公司
发明人：托瑪斯.E.尚克 , 芭芭拉.L.海爾 , 羅伯.A.簡森 , 羅杰丁.霍夫曼
IPC分类号： G02C
CPC分类号： B05C3/109 , B01F2215/0037 , B05C3/04 , B05C3/08 , B05C3/09 , B05D1/18
摘要：一種用於使物件與處理溶液均勻接觸之裝置與方法。其較佳實施例為將隱形眼鏡均勻著色的方法或將隱形眼鏡均勻地表面改質之方法。該方法包括將鏡片經由對物件施加停滯力（亦即，浮力和重力的和）方向相反的流體流，較佳者以波狀或脈動方式，使其懸浮在處理溶液中。該流體流可防止鏡片與容器構造接觸，其時間足以促成不均勻的處理狀況，同時連續地混合該處理溶液以維持整體的均勻濃度。（圖１）
简体摘要：一种用于使对象与处理溶液均匀接触之设备与方法。其较佳实施例为将隐形眼镜均匀着色的方法或将隐形眼镜均匀地表面改质之方法。该方法包括将镜片经由对对象施加停滞力（亦即，浮力和重力的和）方向相反的流体流，较佳者以波状或脉动方式，使其悬浮在处理溶液中。该流体流可防止镜片与容器构造接触，其时间足以促成不均匀的处理状况，同时连续地混合该处理溶液以维持整体的均匀浓度。（图１）

3. 发明专利

TWI526166B 用來對物品上色之總成及上色方法有权
简体标题：用来对物品上色之总成及上色方法
公开(公告)号：TWI526166B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW103108274
申请日：2014-03-10
申请人：耐克創新有限合夥公司 , NIKE INNOVATE C. V.
发明人：葉峰 , YE, FENG , 巴根亞瑞德S , BAGGEN, JARED S. , 修伯格安娜 , SCHOBORG, ANNA
IPC分类号： A43D8/22 , B05D1/18
CPC分类号： A43D95/06 , A43B1/0027 , A43B13/00 , B05C3/09 , B05C3/20 , B05C13/02

4. 发明专利

TWI492684B 用於處理待處理平面材料的方法與組件以及用於移除或延遲處理液的裝置有权
简体标题：用于处理待处理平面材料的方法与组件以及用于移除或延迟处理液的设备
公开(公告)号：TWI492684B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW099115101
申请日：2010-05-12
申请人：亞妥帖德國股份有限公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：庫茲漢瑞 , KUNZE, HENRY , 魏納佛帝納德 , WIENER, FERDINAND
IPC分类号： H05K3/00
CPC分类号： H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572

5. 发明专利

TW201501663A 用來對物品上色之總成及上色方法审中-公开
简体标题：用来对物品上色之总成及上色方法
公开(公告)号：TW201501663A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103108274
申请日：2014-03-10
申请人：耐克創新有限合夥公司 , NIKE INNOVATE C. V.
发明人：葉峰 , YE, FENG , 巴根亞瑞德S , BAGGEN, JARED S. , 修伯格安娜 , SCHOBORG, ANNA
IPC分类号： A43D8/22 , B05D1/18
CPC分类号： A43D95/06 , A43B1/0027 , A43B13/00 , B05C3/09 , B05C3/20 , B05C13/02
摘要：本發明揭示一種上色系統，其包含用於夾持待上色之物品之一總成及用於移動該總成之一致動器。該總成可藉由該致動器水平平移、升高及降低及旋轉。該上色系統可包含在該總成之一容器浸入於一液體上色劑中時容許氣體自該容器移除之一流體控制系統。
简体摘要：本发明揭示一种上色系统，其包含用于夹持待上色之物品之一总成及用于移动该总成之一致动器。该总成可借由该致动器水平平移、升高及降低及旋转。该上色系统可包含在该总成之一容器浸入于一液体上色剂中时容许气体自该容器移除之一流体控制系统。

6. 发明专利

TW201323943A 用於控制偏光膜顏色之裝置及其控制方法审中-公开
简体标题：用于控制偏光膜颜色之设备及其控制方法
公开(公告)号：TW201323943A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101134412
申请日：2012-09-20
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：李昶松 , LEE, CHANG SONG , 李鎬敬 , LEE, HO KYUNG , 李應淇 , LEE, EUNGKI , 金大鉉 , KIM, DAEHYEON , 張應鎮 , JANG, EUNG JIN
IPC分类号： G02B5/30 , B29C55/02 , B29D7/01 , B29D11/00 , B29K29/00
CPC分类号： G02B5/3033 , B05C3/09 , B05D1/18 , G02B1/08 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/3041
摘要：本發明係提供一種用於控制一薄膜之顏色的裝置，其中該薄膜透過一連續製程藉由利用碘和鉀將一基材薄膜染色，然後將該經染色的薄膜進行定向，而呈現偏光性質(‘偏光膜’)其中該裝置包括一染色槽以將一清洗後的聚乙烯醇薄膜浸入一水性碘溶液以及一水性鉀溶液中然後隨即將該聚乙烯醇薄膜染色，該染色槽包括一碘密度計以及一鉀密度計測量碘和鉀的濃度；一互補槽以將該聚乙烯醇薄膜浸入一水性鉀溶液中，然後隨即將該聚乙烯醇薄膜染色，該互補槽包括一鉀密度計測量鉀的濃度；一裝置爐以乾燥該具有經定向之碘和鉀的聚乙烯醇薄膜，該裝置爐包括一裝置爐溫度計測量該裝置爐的溫度；一4階段爐以乾燥於該裝置爐中乾燥之該聚乙烯醇薄膜，該4階段爐包括一4階段爐溫度計測量該4階段爐的溫度；以及一中央控制器，依據關於透過該染色槽之該碘和鉀密度計、該互補槽之該制器，依據關於透過該染色槽之該碘和鉀密度計、該互補槽之該鉀密度計、以及該裝置爐及該4階段爐之該溫度計所測量之輸入資料特徵的訊息、以及依據導入該連續製程中之該聚乙烯醇薄膜之特徵的相關訊息，以預測該偏光膜的色值，並且用以控制該裝置爐及該4階段爐的溫度以及饋料至該染色槽及互補槽的組成物之用量。
简体摘要：本发明系提供一种用于控制一薄膜之颜色的设备，其中该薄膜透过一连续制程借由利用碘和钾将一基材薄膜染色，然后将该经染色的薄膜进行定向，而呈现偏光性质(‘偏光膜’)其中该设备包括一染色槽以将一清洗后的聚乙烯醇薄膜浸入一水性碘溶液以及一水性钾溶液中然后随即将该聚乙烯醇薄膜染色，该染色槽包括一碘密度计以及一钾密度计测量碘和钾的浓度；一互补槽以将该聚乙烯醇薄膜浸入一水性钾溶液中，然后随即将该聚乙烯醇薄膜染色，该互补槽包括一钾密度计测量钾的浓度；一设备炉以干燥该具有经定向之碘和钾的聚乙烯醇薄膜，该设备炉包括一设备炉温度计测量该设备炉的温度；一4阶段炉以干燥于该设备炉中干燥之该聚乙烯醇薄膜，该4阶段炉包括一4阶段炉温度计测量该4阶段炉的温度；以及一中央控制器，依据关于透过该染色槽之该碘和钾密度计、该互补槽之该制器，依据关于透过该染色槽之该碘和钾密度计、该互补槽之该钾密度计、以及该设备炉及该4阶段炉之该温度计所测量之输入数据特征的消息、以及依据导入该连续制程中之该聚乙烯醇薄膜之特征的相关消息，以预测该偏光膜的色值，并且用以控制该设备炉及该4阶段炉的温度以及馈料至该染色槽及互补槽的组成物之用量。

7. 发明专利

TW201015252A 浸漬塗覆方法和用於製造電子照相光敏構件的方法 DIP-COATING PROCESS AND METHOD FOR MAKING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MEMBER 审中-公开
简体标题：浸渍涂覆方法和用于制造电子照相光敏构件的方法 DIP-COATING PROCESS AND METHOD FOR MAKING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MEMBER
公开(公告)号：TW201015252A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW098134616
申请日：2009-10-13
申请人：佳能股份有限公司
发明人：川井康裕 , 加來賢一
IPC分类号： G03G
CPC分类号： B05D1/18 , B05C3/02 , B05C3/09 , B05C15/00 , B05D3/0406 , B05D3/0486 , G03G5/00 , G03G5/04 , G03G5/0525
摘要：一浸漬塗覆方法包括將一待塗覆構件浸漬在一塗覆容器內的塗覆溶液中，及舉升該待塗覆構件，同時以一可伸縮的滑動式套罩覆蓋該待塗覆構件的一側表面，以在該待塗覆構件的一表面上形成一塗覆薄膜。該可伸縮的滑動式套罩包括複數連接之管狀構件，以致它們的直徑於一浸漬塗覆方向中向上連續地減少，且能於該待塗覆構件之舉升期間藉由與該待塗覆構件的運動有關連之延伸來覆蓋該待塗覆構件之側表面。當該待塗覆構件被舉升時，該浸漬塗覆方向中之往下氣流係在該可伸縮的滑動式套罩之內表面及該待塗覆構件間之間隙中產生，以將溶劑蒸氣排出該可伸縮的滑動式套罩外側。
简体摘要：一浸渍涂覆方法包括将一待涂覆构件浸渍在一涂覆容器内的涂覆溶液中，及举升该待涂覆构件，同时以一可伸缩的滑动式套罩覆盖该待涂覆构件的一侧表面，以在该待涂覆构件的一表面上形成一涂覆薄膜。该可伸缩的滑动式套罩包括复数连接之管状构件，以致它们的直径于一浸渍涂覆方向中向上连续地减少，且能于该待涂覆构件之举升期间借由与该待涂覆构件的运动有关连之延伸来覆盖该待涂覆构件之侧表面。当该待涂覆构件被举升时，该浸渍涂覆方向中之往下气流系在该可伸缩的滑动式套罩之内表面及该待涂覆构件间之间隙中产生，以将溶剂蒸气排出该可伸缩的滑动式套罩外侧。

8. 发明专利

TWI487442B 用於處理待處理平面材料的方法、處理台與組件有权
简体标题：用于处理待处理平面材料的方法、处理台与组件
公开(公告)号：TWI487442B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW099115099
申请日：2010-05-12
申请人：亞妥帖德國股份有限公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：庫茲漢瑞 , KUNZE, HENRY
IPC分类号： H05K3/00
CPC分类号： H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572

9. 发明专利

TWI477658B 表面處理裝置及工件保持治具有权
简体标题：表面处理设备及工件保持治具
公开(公告)号：TWI477658B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW101123506
申请日：2012-06-29
申请人： ALMEX PE股份有限公司 , ALMEX PE INC.
发明人：野田朝裕 , NODA, TOMOHIRO , 渡邊重幸 , WATANABE, SHIGEYUKI , 石井勝己 , ISHII, KATSUMI
IPC分类号： C25D17/08 , C25D21/00
CPC分类号： C25D17/08 , B05C3/02 , B05C3/09 , B05C3/10 , B65G49/0477 , C25D17/005 , C25D17/02 , C25D17/06

10. 发明专利

TWI425648B 製膜系統及製膜方法有权
简体标题：制膜系统及制膜方法
公开(公告)号：TWI425648B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW098146226
申请日：2009-12-31
申请人：和椿科技股份有限公司
发明人：葉政果 , YEH, CHENG KUO
IPC分类号： H01L31/18
CPC分类号： B05C3/02 , B05C3/09 , B05D1/20 , B05D1/206 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H01L2933/0091

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