专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201523763A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201523763A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103123363
申请日：2014-07-07
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD. , 斯克林半導體科技有限公司 , SCREEN SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CO., LTD.
发明人：森岡一夫 , MORIOKA, KAZUO , 今村雅敬 , IMAMURA, MASANORI , 山本聰 , YAMAMOTO, SATOSHI , 清水英樹 , SHIMIZU, HIDEKI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G03F7/16 , B05B15/55 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B9/02 , G03F7/42 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67253
摘要：本發明之各藥液處理部包含藥液瓶、緩衝槽、泵、過濾器、噴出閥及噴出噴嘴。貯存於藥液瓶之藥液被導引至噴出噴嘴，並自噴出噴嘴噴出至基板。清洗處理部包含溶劑瓶、清洗液瓶、緩衝槽及泵。貯存於溶劑瓶之溶劑、貯存於清洗液瓶之清洗液、及自氣體供給源供給之氣體被選擇性地導引至各藥液處理部之噴出噴嘴。
简体摘要：本发明之各药液处理部包含药液瓶、缓冲槽、泵、过滤器、喷出阀及喷出喷嘴。贮存于药液瓶之药液被导引至喷出喷嘴，并自喷出喷嘴喷出至基板。清洗处理部包含溶剂瓶、清洗液瓶、缓冲槽及泵。贮存于溶剂瓶之溶剂、贮存于清洗液瓶之清洗液、及自气体供给源供给之气体被选择性地导引至各药液处理部之喷出喷嘴。

2. 发明专利

TW201513939A 螺旋塗佈裝置审中-公开
简体标题：螺旋涂布设备
公开(公告)号：TW201513939A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103129597
申请日：2014-08-27
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：貴志壽之 , KISHI, TOSHIYUKI , 淵上安彥 , FUCHIKAMI, YASUHIKO , 大城健一 , OOSHIRO, KENICHI
IPC分类号： B05C11/00
CPC分类号： B05B15/0266 , B05B15/55 , B05B15/555 , B05B15/557 , B05C5/0208 , G03F7/162
摘要：根據實施形態，提供一種螺旋塗佈裝置，其具有平台、噴嘴、移動單元、氣體供給部、洗淨液供給部、及噴嘴洗淨部。平台具有載置塗佈對象物之載置面。噴嘴向載置於平台之塗佈對象物噴出液體。移動單元使噴嘴相對於平台相對移動。氣體供給部供給氣體。洗淨液供給部供給洗淨液。噴嘴洗淨部具有氣體供給口與洗淨液供給口，將自氣體供給部供給之氣體自氣體供給口向噴嘴噴射，將自洗淨液供給部供給之洗淨液自洗淨液供給口向噴嘴噴出。
简体摘要：根据实施形态，提供一种螺旋涂布设备，其具有平台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部、及喷嘴洗净部。平台具有载置涂布对象物之载置面。喷嘴向载置于平台之涂布对象物喷出液体。移动单元使喷嘴相对于平台相对移动。气体供给部供给气体。洗净液供给部供给洗净液。喷嘴洗净部具有气体供给口与洗净液供给口，将自气体供给部供给之气体自气体供给口向喷嘴喷射，将自洗净液供给部供给之洗净液自洗净液供给口向喷嘴喷出。

3. 发明专利

TWI480104B 快速固定性材料噴灑設備之清潔方法有权
简体标题：快速固定性材料喷洒设备之清洁方法
公开(公告)号：TWI480104B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098109203
申请日：2009-03-20
申请人：格雷克明尼蘇達股份有限公司 , GRACO MINNESOTA INC.
发明人：堤克斯約瑟夫 , TIX, JOSEPH E. , 維喬斯狄克傑弗瑞 , VELGERSDYK, JEFFREY N. , 安德森理察 , ANDERSON, RICHARD D. , 威柏格馬克 , WEINBERGER, MARK T.
IPC分类号： B05B15/02 , B08B3/08
CPC分类号： C11D11/0041 , B05B7/2402 , B05B15/55 , C09D9/005 , C11D7/263 , C11D7/5009

4. 发明专利

TWI453070B 複數成分噴槍的自動溶劑噴射有权
简体标题：复数成分喷枪的自动溶剂喷射
公开(公告)号：TWI453070B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW097134698
申请日：2008-09-10
申请人：格雷克明尼蘇達股份有限公司 , GRACO MINNESOTA INC.
发明人：安德森理察 , ANDERSON, RICHARD D. , 堤克斯約瑟夫 , TIX, JOSEPH E. , 維喬斯狄克傑弗瑞 , VELGERSDYK, JEFFREY N.
IPC分类号： B05B7/12 , B05B7/02
CPC分类号： B29B7/807 , B05B7/0408 , B05B15/55 , B05B15/557 , B29B7/7438 , B29B7/805

5. 发明专利

TW201130567A 靜電塗裝機用的塗料匣及含有此塗料匣之靜電塗裝機 PAINT CARTRIDGE FOR ELECTROSTATIC PAINT APPLICATOR AND ELECTROSTATIC PAINT APPLICATOR INCLUDING PAINT CARTRIDGE 审中-公开
简体标题：静电涂装机用的涂料匣及含有此涂料匣之静电涂装机 PAINT CARTRIDGE FOR ELECTROSTATIC PAINT APPLICATOR AND ELECTROSTATIC PAINT APPLICATOR INCLUDING PAINT CARTRIDGE
公开(公告)号：TW201130567A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099131665
申请日：2010-09-17
申请人：藍氏工業公司
发明人：谷隆次 , 豬野瀬貞夫 , 細田俊男
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B05B5/1616 , B05B12/14 , B05B15/55 , B05B15/557
摘要：本發明的課題在於減少為了換色而洗淨塗料匣的內部時所廢棄之塗料量，並簡化在此洗淨時對塗料匣之作動液供給與排出之控制。為了解決上述課題，本發明的手段為：在塗料匣10之洗淨中，通過呈壓扁狀態之塗料袋12的上端口部12b來供給空氣及洗淨液，藉此讓塗料袋12成為擴張之狀態。伴隨塗料袋12之擴張，塗料匣10的密閉空間14(作動液室)的作動液，會通過匣內的作動液排出通路而被回收。在下一步驟中，將被控制之量之作動液，在壓力下通過匣內作動液供給通路22而供給至塗料匣10的作動液室(密閉空間14)，以壓擠塗料袋12，使洗淨液從塗料袋12的下端口部12c排出。
简体摘要：本发明的课题在于减少为了换色而洗净涂料匣的内部时所废弃之涂料量，并简化在此洗净时对涂料匣之作动液供给与排出之控制。为了解决上述课题，本发明的手段为：在涂料匣10之洗净中，通过呈压扁状态之涂料袋12的上端口部12b来供给空气及洗净液，借此让涂料袋12成为扩张之状态。伴随涂料袋12之扩张，涂料匣10的密闭空间14(作动液室)的作动液，会通过匣内的作动液排出通路而被回收。在下一步骤中，将被控制之量之作动液，在压力下通过匣内作动液供给通路22而供给至涂料匣10的作动液室(密闭空间14)，以压挤涂料袋12，使洗净液从涂料袋12的下端口部12c排出。

6. 发明专利

TW200503842A 噴霧電極 SPRAY ELECTRODE 审中-公开
简体标题：喷雾电极 SPRAY ELECTRODE
公开(公告)号：TW200503842A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093108755
申请日：2004-03-30
申请人：愛斯特倫科技有限公司 AERSTREAM TECHNOLOGY LIMITED
发明人：皮瑞阿拉斯泰B. PIRRIE, ALASTAIR BRUCE
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B05B5/025 , B05B5/0255 , B05B12/06 , B05B15/55 , Y10T29/49323
摘要：一種靜電噴霧裝置包含一毛細噴霧電極其具有一噴霧端，一參考電極以及一貯器於該噴霧電極作流體連通。使用時電極跨產生器聯結俾介於電極間建立電場，造成貯器之流體由該噴霧電極噴霧。噴霧電極具有一焦點，該焦點界定電場聚焦於噴霧端之一點。
简体摘要：一种静电喷雾设备包含一毛细喷雾电极其具有一喷雾端，一参考电极以及一贮器于该喷雾电极作流体连通。使用时电极跨产生器联结俾介于电极间创建电场，造成贮器之流体由该喷雾电极喷雾。喷雾电极具有一焦点，该焦点界定电场聚焦于喷雾端之一点。

7. 发明专利

TW472312B 在半導體裝置製造程序中塗覆光阻劑之設備失效
简体标题：在半导体设备制造进程中涂覆光阻剂之设备
公开(公告)号：TW472312B
公开(公告)日：2002-01-11
申请号：TW086114637
申请日：1997-10-07
申请人：三星電子股份有限公司
发明人：朴盛鉉 , 金成一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B05C11/08 , B05B15/55 , G03F7/162 , Y10S134/902
摘要：一個設備用來被提供用來於光蝕刻加工程序中，將光阻劑塗覆在一半導體晶圓上。此設備包含一個頂端開啟的主體、一個以固定速度轉動被固定於其上之晶圓的旋轉夾頭、一個用於防止光阻劑飛濺在安裝於上述主體內部之另一主體上的承盤、一個用於噴灑光阻劑的光阻劑施加噴嘴、一個用於除去附著在晶圓周圍邊緣之光阻劑的側邊清洗噴嘴，該光阻劑施加噴嘴和側邊清洗噴嘴被安裝成以垂直方向往上和往下移動至被安置於該二噴嘴之下方的晶圓處，，一個用於開啟/關閉主體之頂端的蓋板，以及一個被安置於蓋板處之被用來清潔承盤的清潔機構。上述之設備允許被安置於其中的承盤一起被清潔，而且藉由一噴霧冷卻器相一泵浦而被加以清潔。
简体摘要：一个设备用来被提供用来于光蚀刻加工进程中，将光阻剂涂覆在一半导体晶圆上。此设备包含一个顶端打开的主体、一个以固定速度转动被固定于其上之晶圆的旋转夹头、一个用于防止光阻剂飞溅在安装于上述主体内部之另一主体上的承盘、一个用于喷洒光阻剂的光阻剂施加喷嘴、一个用于除去附着在晶圆周围边缘之光阻剂的侧边清洗喷嘴，该光阻剂施加喷嘴和侧边清洗喷嘴被安装成以垂直方向往上和往下移动至被安置于该二喷嘴之下方的晶圆处，，一个用于打开/关闭主体之顶端的盖板，以及一个被安置于盖板处之被用来清洁承盘的清洁机构。上述之设备允许被安置于其中的承盘一起被清洁，而且借由一喷雾冷却器相一泵浦而被加以清洁。

8. 发明专利

TW358969B 塗佈方法及塗佈裝置失效
简体标题：涂布方法及涂布设备
公开(公告)号：TW358969B
公开(公告)日：1999-05-21
申请号：TW086112394
申请日：1997-08-28
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：立山清久
IPC分类号： H01L , B05C
CPC分类号： G03F7/162 , B05B15/52 , B05B15/55 , B05C11/08 , G03F7/30
摘要：一種塗佈裝置，具有一為了向被支持於旋轉夾頭(1)之半導體晶圓片Ｗ吐出感光抗蝕液的噴嘴(3)；噴嘴(3)呈可在待機位置(P1)與供給位置(P2)之間移動；且於待機位置(P1)上，配設著有一附著希釋液(6)之圓周面的一方向旋轉滾輪(5)，及一為了擦拭滾輪(5)之圓周面的滑動片(41)；而在使噴嘴(3)被配置於待機位置(P1)的狀態下，首先，實行待機模式，接著，於使噴嘴(3)從待機位置(P1)移動向供給位置(P2)之當前，實行準備模式；於待機模式上，依停止從噴嘴吐出感光防蝕液(4)並同時使滑動片(41)被置於退避位置，而藉滾輪5圓周面上之希釋液(6)潤濕噴嘴(3)之前端開口3a；於準備模式上，從噴嘴3向滾輪5之圓周面上吐出感光防蝕液(4)，同時使滑動片(41)被置於進出位置並從滾輪(5)之圓周面除去感光防蝕液(4)。
简体摘要：一种涂布设备，具有一为了向被支持于旋转夹头(1)之半导体晶圆片Ｗ吐出感光抗蚀液的喷嘴(3)；喷嘴(3)呈可在待机位置(P1)与供给位置(P2)之间移动；且于待机位置(P1)上，配设着有一附着希释液(6)之圆周面的一方向旋转滚轮(5)，及一为了擦拭滚轮(5)之圆周面的滑动片(41)；而在使喷嘴(3)被配置于待机位置(P1)的状态下，首先，实行待机模式，接着，于使喷嘴(3)从待机位置(P1)移动向供给位置(P2)之当前，实行准备模式；于待机模式上，依停止从喷嘴吐出感光防蚀液(4)并同时使滑动片(41)被置于退避位置，而藉滚轮5圆周面上之希释液(6)润湿喷嘴(3)之前端开口3a；于准备模式上，从喷嘴3向滚轮5之圆周面上吐出感光防蚀液(4)，同时使滑动片(41)被置于进出位置并从滚轮(5)之圆周面除去感光防蚀液(4)。

9. 发明专利

TW318149B 用以混合且施配反應性液体成份並且導引一氣体以便將該等混合成份推進至一應用場地之噴鎗組件失效
简体标题：用以混合且施配反应性液体成份并且导引一气体以便将该等混合成份推进至一应用场地之喷枪组件
公开(公告)号：TW318149B
公开(公告)日：1997-10-21
申请号：TW083107452
申请日：1994-08-15
申请人：映斯塔–泡沬產品公司
发明人：丹尼爾P.布朗
IPC分类号： B05B
CPC分类号： B29B7/7438 , B05B1/3026 , B05B7/0025 , B05B7/0408 , B05B7/0416 , B05B7/1209 , B05B7/2497 , B05B12/002 , B05B15/55 , B29B7/7605 , B29B7/761
摘要：一種噴鎗組件，用以混合且施配反應性液體成份並且導引一氣體以便將該等混合成份推進至一應用場地，該噴鎗組件在組合上包含有一閥體、一噴嘴定位部份、以及一混合及施配噴嘴，該閥體包含至少一液體進入口、至少一液體放出口、一氣體進入口和一氣體放出口，一液體閥門機構位於該閥體內該液體進入口和該液體放出口之間，一氣體閥門機構位於該閥體內該氣體進入口和該氣體放出口之間，操作性連接至該液體閥門機構和該氣體閥門機之一扳機，其中該扳機機構的結構和配置使得當液體和氣體閥門均完全開啟時允許液體和氣體分別流經該液體和氣體閥門，且只有在該液體閥門至少部份地開啟後才開啟該氣體閥門。
简体摘要：一种喷枪组件，用以混合且施配反应性液体成份并且导引一气体以便将该等混合成份推进至一应用场地，该喷枪组件在组合上包含有一阀体、一喷嘴定位部份、以及一混合及施配喷嘴，该阀体包含至少一液体进入口、至少一液体放出口、一气体进入口和一气体放出口，一液体阀门机构位于该阀体内该液体进入口和该液体放出口之间，一气体阀门机构位于该阀体内该气体进入口和该气体放出口之间，操作性连接至该液体阀门机构和该气体阀门机之一扳机，其中该扳机机构的结构和配置使得当液体和气体阀门均完全打开时允许液体和气体分别流经该液体和气体阀门，且只有在该液体阀门至少部份地打开后才打开该气体阀门。

10. 发明专利

TWI611476B 用以處理晶圓狀物件之設備有权
简体标题：用以处理晶圆状对象之设备
公开(公告)号：TWI611476B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW102141936
申请日：2013-11-18
申请人：蘭姆研究股份公司 , LAM RESEARCH AG
发明人：柯門麥克丹尼爾 , KOLLMANN, MIKE DANIEL , 費雪克里斯琴湯瑪士 , FISCHER, CHRISTIAN THOMAS , 卡曼哥法蘭西斯科 , CAMARGO, FRANCISCO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： B05B15/025 , B05B15/55 , H01L21/6715

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式