专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201532538A 用於鞋底部分上色之系統审中-公开
简体标题：用于鞋底部分上色之系统
公开(公告)号：TW201532538A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103139017
申请日：2014-11-11
申请人：耐吉創新有限合夥公司 , NIKE INNOVATE C. V.
发明人：瑞岡派崔克寇納爾 , REGAN, PATRICK CONALL , 吳方明 , OU, FENG MING , 陳皓楨 , CHEN, HAO ZHEN , 吳志中 , WU, CHIH CHUNG
IPC分类号： A43D95/06
CPC分类号： A43D8/00 , A43B3/0078 , A43B13/00 , A43D8/42 , A43D37/00 , A43D95/06 , A43D95/14 , A43D111/003 , A43D117/00 , A43D2200/10 , A43D2200/20 , B05B12/02 , B05B13/02 , B05B13/0221 , B05C5/0204 , B05C5/0208 , B05C5/0212 , B05C13/02 , B05C21/00 , B05C21/005 , B29D35/00 , B29D35/122
摘要：一種用於上色一鞋底部分之自動化系統係被提供。該自動化上色系統經調適以使用各種的站以及元件來自動地，在該鞋底部分被固定於一夾具中時，上色該鞋底部分之側邊表面，轉變該夾具至一開啟位置，並且由該夾具移除該經上色之鞋底部分。
简体摘要：一种用于上色一鞋底部分之自动化系统系被提供。该自动化上色系统经调适以使用各种的站以及组件来自动地，在该鞋底部分被固定于一夹具中时，上色该鞋底部分之侧边表面，转变该夹具至一打开位置，并且由该夹具移除该经上色之鞋底部分。

2. 发明专利

TW201414041A 沈積裝置审中-公开
简体标题：沉积设备
公开(公告)号：TW201414041A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102117499
申请日：2013-05-17
申请人：三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人：朴炳熙 , PARK, BYOUNG HEE , 宋沃根 , SONG, OK-KEUN , 李勇翰 , LEE, YONGHAN , 李映新 , LEE, YOUNG SHIN
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/24
CPC分类号： B05C21/00 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/546
摘要：一種沈積裝置，包含：複數個沈積源，用於提供不同之沈積材料至一基板；一感測器總成，用於感測自該等沈積源蒸發之該等沈積材料之一沈積厚度；以及一主控制器，用於控制該感測器總成。該感測器總成包含複數個感測器組，各該感測器組包含複數個感測器且該等感測器分別對應於該等沈積源，且各該感測器組因應該主控制器之控制而感測自該等沈積源其中之一對應沈積源蒸發至該基板之該沈積材料之沈積厚度。
简体摘要：一种沉积设备，包含：复数个沉积源，用于提供不同之沉积材料至一基板；一传感器总成，用于传感自该等沉积源蒸发之该等沉积材料之一沉积厚度；以及一主控制器，用于控制该传感器总成。该传感器总成包含复数个传感器组，各该传感器组包含复数个传感器且该等传感器分别对应于该等沉积源，且各该传感器组因应该主控制器之控制而传感自该等沉积源其中之一对应沉积源蒸发至该基板之该沉积材料之沉积厚度。

3. 发明专利

TW201350206A 點膠機及點膠針位置校正方法审中-公开
简体标题：点胶机及点胶针位置校正方法
公开(公告)号：TW201350206A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101121847
申请日：2012-06-19
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：黃登聰 , HUANG, TENG TSUNG , 余國俊 , YU, GUO-JUN , 程功水 , CHENG, GONG-SHUI
IPC分类号： B05B13/04 , B05C5/00
CPC分类号： B05C21/00 , B05C5/0212 , B05C11/00
摘要：本發明提供一種點膠機，其包括移動組件、感測組件及點膠組件，該感測組件包括定位座及設置於定位座上的第一光柵及第二光柵，該第一光柵及第二光柵發射光束，該點膠組件設置於移動組件上，該點膠組件包括電控單元、驅動機構及點膠針，驅動機構用於帶動點膠針運動，該移動組件帶動點膠針靠近定位座以遮擋第一光柵及第二光柵發射的光束，該電控單元用於記錄點膠針同時遮擋第一光柵及第二光柵發射的光束時所處的座標點位置，並計算該記錄的座標點位置與一預設的初始座標點位置的變化量，進而依據該變化量控制該驅動機構以調整點膠針的位置。
简体摘要：本发明提供一种点胶机，其包括移动组件、传感组件及点胶组件，该传感组件包括定位座及设置于定位座上的第一光栅及第二光栅，该第一光栅及第二光栅发射光束，该点胶组件设置于移动组件上，该点胶组件包括电控单元、驱动机构及点胶针，驱动机构用于带动点胶针运动，该移动组件带动点胶针靠近定位座以遮挡第一光栅及第二光栅发射的光束，该电控单元用于记录点胶针同时遮挡第一光栅及第二光栅发射的光束时所处的座标点位置，并计算该记录的座标点位置与一默认的初始座标点位置的变化量，进而依据该变化量控制该驱动机构以调整点胶针的位置。

4. 发明专利

TWI505802B 打蠟裝置失效
简体标题：打蜡设备
公开(公告)号：TWI505802B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW100126141
申请日：2011-07-25
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：楊明陸 , YANG, MING LU , 張亞東 , ZHANG, YA-DONG , 張天恩 , ZHANG, TIAN-EN , 杜高峰 , DU, GAO-FENG
IPC分类号： A47L13/28
CPC分类号： B24B57/04 , B05C11/00 , B05C21/00 , B24B29/00

5. 发明专利

TW201436095A 基板支持裝置审中-公开
简体标题：基板支持设备
公开(公告)号：TW201436095A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103107950
申请日：2014-03-07
申请人：日本發條股份有限公司 , NHK SPRING CO., LTD.
发明人：花待年彥 , HANAMACHI, TOSHIHIKO , 橋本大輔 , HASHIMOTO, DAISUKE , 石岡泰明 , ISHIOKA, YASUAKI
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： C23C16/4586 , B05C21/00 , C23C16/463 , H01L21/67109 , H01L21/68785 , H01L21/68792
摘要：提供基板支持裝置，對晶圓加熱時能均溫加熱板，防止加熱板發生因熱應變所導致之變形，提升晶圓均溫性。本發明之基板支持裝置具有板部及軸部。板部包括於內部具有發熱體之加熱板、具有配置於加熱板下面之第一流道之第一冷卻板及具有配置於加熱板上面之第二流道之第二冷卻板。軸部支持板部且於內部具有接續至發熱體以對其供給電流之配線及對第一及第二流道供給冷媒之配管。第一流道含有從第一冷卻板之中央部朝向外緣部以第一方向環繞之旋渦狀流道。第二流道含有從第二冷卻板之中央部朝向外緣部以相反於第一方向之第二方向環繞之旋渦狀流道。
简体摘要：提供基板支持设备，对晶圆加热时能均温加热板，防止加热板发生因热应变所导致之变形，提升晶圆均温性。本发明之基板支持设备具有板部及轴部。板部包括于内部具有发热体之加热板、具有配置于加热板下面之第一流道之第一冷却板及具有配置于加热板上面之第二流道之第二冷却板。轴部支持板部且于内部具有接续至发热体以对其供给电流之配线及对第一及第二流道供给冷媒之配管。第一流道含有从第一冷却板之中央部朝向外缘部以第一方向环绕之旋涡状流道。第二流道含有从第二冷却板之中央部朝向外缘部以相反于第一方向之第二方向环绕之旋涡状流道。

6. 发明专利

TWI449575B 墊隙片構件、模塗機及塗布膜之製造方法有权
简体标题：垫隙片构件、模涂机及涂布膜之制造方法
公开(公告)号：TWI449575B
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW101147528
申请日：2012-12-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：小松原誠 , KOMATSUBARA, MAKOTO , 道平創 , MICHIHIRA, HAJIME
IPC分类号： B05B15/04
CPC分类号： B05D1/265 , B05C5/0266 , B05C21/00

7. 发明专利

TW201731053A 流體吐出裝置及流體吐出方法审中-公开
简体标题：流体吐出设备及流体吐出方法
公开(公告)号：TW201731053A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105141593
申请日：2016-12-15
申请人：千住金屬工業股份有限公司 , SENJU METAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：中村秀樹 , NAKAMURA, HIDEKI , 名内孝 , NAUCHI, TAKASHI , 六辻利彦 , MUTSUJI, TOSHIHIKO , 鈴木良一 , SUZUKI, RYOICHI
IPC分类号： H01L23/488 , H01L21/60 , H05K3/34
CPC分类号： B05C5/02 , B05C11/10 , B05C21/00 , B05D1/26 , B05D3/12 , B05D7/00 , B23K3/06 , H05K3/10 , H05K3/28 , H05K3/34
摘要：以往的流體吐出裝置當中，隨著矽晶圓等之工件的大型化，所使用的吐出頭也必須大型化，然而一旦吐出頭的長度變長，於對工件吐出時所使用的遮罩的變形會變大，而有吐出發生不均的問題。本發明是使用一種流體吐出裝置來進行往復吐出，流體吐出裝置組構成：在具有寬度比工件之長度還短的頭部的吐出噴嘴附近，使吸引口隔著吐出噴嘴配置在兩側，該吸引口係用來吸引工件上之遮罩的內容物且具有狹縫狀開口部。
简体摘要：以往的流体吐出设备当中，随着硅晶圆等之工件的大型化，所使用的吐出头也必须大型化，然而一旦吐出头的长度变长，于对工件吐出时所使用的遮罩的变形会变大，而有吐出发生不均的问题。本发明是使用一种流体吐出设备来进行往复吐出，流体吐出设备组构成：在具有宽度比工件之长度还短的头部的吐出喷嘴附近，使吸引口隔着吐出喷嘴配置在两侧，该吸引口系用来吸引工件上之遮罩的内容物且具有狭缝状开口部。

8. 发明专利

TWI580369B 用於鞋底部分上色之系統有权
简体标题：用于鞋底部分上色之系统
公开(公告)号：TWI580369B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW103139017
申请日：2014-11-11
申请人：耐克創新有限合夥公司 , NIKE INNOVATE C. V.
发明人：瑞岡派崔克寇納爾 , REGAN, PATRICK CONALL , 吳方明 , OU, FENG MING , 陳皓楨 , CHEN, HAO ZHEN , 吳志中 , WU, CHIH CHUNG
IPC分类号： A43D95/06
CPC分类号： A43D8/00 , A43B3/0078 , A43B13/00 , A43D8/42 , A43D37/00 , A43D95/06 , A43D95/14 , A43D111/003 , A43D117/00 , A43D2200/10 , A43D2200/20 , B05B12/02 , B05B13/02 , B05B13/0221 , B05C5/0204 , B05C5/0208 , B05C5/0212 , B05C13/02 , B05C21/00 , B05C21/005 , B29D35/00 , B29D35/122

9. 发明专利

TW201304729A 打蠟裝置失效
简体标题：打蜡设备
公开(公告)号：TW201304729A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW100126141
申请日：2011-07-25
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：楊明陸 , YANG, MING LU , 張亞東 , ZHANG, YA-DONG , 張天恩 , ZHANG, TIAN-EN , 杜高峰 , DU, GAO-FENG
IPC分类号： A47L13/28
CPC分类号： B24B57/04 , B05C11/00 , B05C21/00 , B24B29/00
摘要：一種打蠟裝置，用於對拋光輪打蠟，該打蠟裝置包括支撐機構、調節組件、驅動機構、安裝組件、減速馬達及蠟塊。該支撐機構包括有滑軌，該調節組件滑動地裝設於該滑軌上，該驅動機構裝設於該調節組件上，該安裝組件包括有安裝板，該安裝板安裝於該驅動機構上，該減速馬達裝設於該安裝板上，該蠟塊安裝於該減速馬達上。該打蠟裝置還包括抵持機構，該抵持機構裝設於該支撐機構上且抵持於該調節組件上並能夠控製該調節組件於該滑軌上運動以調節蠟塊對拋光輪之壓力，該驅動機構能夠作垂直該滑軌之伸縮運動以控製該蠟塊對拋光輪打蠟。
简体摘要：一种打蜡设备，用于对抛光轮打蜡，该打蜡设备包括支撑机构、调节组件、驱动机构、安装组件、减速马达及蜡块。该支撑机构包括有滑轨，该调节组件滑动地装设于该滑轨上，该驱动机构装设于该调节组件上，该安装组件包括有安装板，该安装板安装于该驱动机构上，该减速马达装设于该安装板上，该蜡块安装于该减速马达上。该打蜡设备还包括抵持机构，该抵持机构装设于该支撑机构上且抵持于该调节组件上并能够控制该调节组件于该滑轨上运动以调节蜡块对抛光轮之压力，该驱动机构能够作垂直该滑轨之伸缩运动以控制该蜡块对抛光轮打蜡。

10. 发明专利

TWI609417B 基板鍍覆裝置及基板鍍覆方法有权
简体标题：基板镀覆设备及基板镀覆方法
公开(公告)号：TWI609417B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW103114642
申请日：2014-04-23
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：南吉夫 , MINAMI, YOSHIO , 木村誠章 , KIMURA, MASAAKI
IPC分类号： H01L21/288
CPC分类号： B05C3/02 , B05C3/04 , B05C21/00 , B08B3/047 , C25D17/001 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D21/08

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式