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1. 发明专利

TWI612167B 用以測量一沈積率之方法、沈積控制系統與應用其之蒸發源及沈積設備有权
简体标题：用以测量一沉积率之方法、沉积控制系统与应用其之蒸发源及沉积设备
公开(公告)号：TWI612167B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105119014
申请日：2016-06-16
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO, JOSE MANUEL , 藍德葛瑞夫海格 , LANDGRAF, HEIKE , 寇和湯瑪士 , KOCH, THOMAS , 班格特史丹分 , BANGERT, STEFAN
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/26 , C23C14/12 , G01G3/16 , G01G17/04 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/542 , C23C14/546 , G05B21/02

2. 发明专利

TWI607101B 成膜方法及成膜裝置有权
简体标题：成膜方法及成膜设备
公开(公告)号：TWI607101B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW101135492
申请日：2012-09-27
申请人：新柯隆股份有限公司 , SHINCRON CO., LTD.
发明人：鹽野一郎 , SHIONO, ICHIRO , 林達也 , HAYASHI, TATSUYA , 姜友松 , JIANG, YOUSONG , 長江亦周 , NAGAE, EKISYU , 宮內充祐 , MIYAUCHI, MITSUHIRO , 佐守真悟 , SAMORI, SHINGO
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/48
CPC分类号： C23C14/58 , C23C14/0031 , C23C14/022 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C14/546

3. 发明专利

TW201720944A 用以測量ㄧ沈積率之測量組件及應用其之蒸發源、沈積設備及方法审中-公开
简体标题：用以测量ㄧ沉积率之测量组件及应用其之蒸发源、沉积设备及方法
公开(公告)号：TW201720944A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105128833
申请日：2016-09-06
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：地古坎柏喬斯曼紐 , DIEGUEZ-CAMPO, JOSE MANUEL , 露博安德率斯 , LOPP, ANDREAS , 史奇伯勒佑維 , SCHUBLER, UWE , 班格特史丹分 , BANGERT, STEFAN
IPC分类号： C23C14/54 , G01N29/02 , G01N29/24 , H01L41/113
CPC分类号： C23C14/546 , C23C14/24 , G01N29/022 , G01N29/2443 , G01N2291/0256
摘要：一種用以測量一已蒸發材料的一沈積率之測量組件(100)係說明。測量組件(100)包括一振盪晶體(110)，用以測量沈積率；一測量出口(150)，用以提供已蒸發材料到振盪晶體(110)；以及一磁性關閉機構(160)，裝配以藉由磁力開啟及關閉測量出口(150)。
简体摘要：一种用以测量一已蒸发材料的一沉积率之测量组件(100)系说明。测量组件(100)包括一振荡晶体(110)，用以测量沉积率；一测量出口(150)，用以提供已蒸发材料到振荡晶体(110)；以及一磁性关闭机构(160)，装配以借由磁力打开及关闭测量出口(150)。

4. 发明专利

TWI433947B 真空氣相沉積系統有权
简体标题：真空气相沉积系统
公开(公告)号：TWI433947B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100139154
申请日：2011-10-27
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：福田直人 , FUKUDA, NAOTO , 中川善之 , NAKAGAWA, YOSHIYUKI , 中野真吾 , NAKANO, SHINGO
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/54 , H05B33/10 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/546 , C23C14/24

5. 发明专利

TW201315826A 成膜方法及成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜方法及成膜设备
公开(公告)号：TW201315826A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101131112
申请日：2012-08-28
申请人：新柯隆股份有限公司 , SHINCRON CO., LTD.
发明人：鹽野一郎 , SHIONO, ICHIRO , 林達也 , HAYASHI, TATSUYA , 姜友松 , JIANG, YOUSONG , 長江亦周 , NAGAE, EKISYU , 宮內充祐 , MIYAUCHI, MITSUHIRO , 佐守真悟 , SAMORI, SHINGO
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/34
CPC分类号： B05D1/00 , C23C14/022 , C23C14/06 , C23C14/22 , C23C14/546
摘要：本發明是提供一種成膜裝置，其可有效率地形成可耐實用的基本條件外、更進一步提升耐磨耗性的防污膜。此成膜裝置1是將基板托座12以可旋轉的方式配置在真空容器10內，基板托座12具有用以保持複數個基板14的基體保持面，並具有離子源38及作為成膜器的氣相沉積源34及限制板36之構成，其中：離子源38是以可向上述基體保持面的部分區域照射離子束的結構、配置及/或方向，設置於真空容器10內；成膜器是以可向上述基體保持面的一部分、且是與離子源38造成的離子束的照射區域的至少一部分重複的區域供應成膜材料的結構，設置於真空容器10內。
简体摘要：本发明是提供一种成膜设备，其可有效率地形成可耐实用的基本条件外、更进一步提升耐磨耗性的防污膜。此成膜设备1是将基板托座12以可旋转的方式配置在真空容器10内，基板托座12具有用以保持复数个基板14的基体保持面，并具有离子源38及作为成膜器的气相沉积源34及限制板36之构成，其中：离子源38是以可向上述基体保持面的部分区域照射离子束的结构、配置及/或方向，设置于真空容器10内；成膜器是以可向上述基体保持面的一部分、且是与离子源38造成的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域供应成膜材料的结构，设置于真空容器10内。

6. 发明专利

TWI293337B 沉積系統和於沉積系統中測量沉積厚度的方法 DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING DEPOSITION THICKNESS IN THE DEPOSITION SYSTEM 有权
简体标题：沉积系统和于沉积系统中测量沉积厚度的方法 DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING DEPOSITION THICKNESS IN THE DEPOSITION SYSTEM
公开(公告)号：TWI293337B
公开(公告)日：2008-02-11
申请号：TW095100270
申请日：2006-01-04
申请人：三星SDI股份有限公司 SAMSUNG SDI CO., LTD.
发明人：黃婷 HWANG, MIN JEONG , 李星昊 LEE, SUNG HO
IPC分类号： C23C , G01B
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/546
摘要：一種測量一沉積材料之沉積厚度的方法，其中包含利用一感測器以測量自一散發格室所散發之材料的沉積速率，以及利用一運用所測得沉積速率以及該感測器之使用時間的壽命值作為參數的轉換公式，來計算沉積於一基板上之材料的沉積厚度。
简体摘要：一种测量一沉积材料之沉积厚度的方法，其中包含利用一传感器以测量自一散发格室所散发之材料的沉积速率，以及利用一运用所测得沉积速率以及该传感器之使用时间的寿命值作为参数的转换公式，来计算沉积于一基板上之材料的沉积厚度。

7. 发明专利

TW546987B 用於製造有機發光裝置之可重複利用之質量感測器有权
简体标题：用于制造有机发光设备之可重复利用之质量传感器
公开(公告)号：TW546987B
公开(公告)日：2003-08-11
申请号：TW091103780
申请日：2002-03-01
申请人：柯達公司
发明人：邁可A 馬可斯 , 安娜L 海辛 , 史帝芬A 凡史賴克
IPC分类号： H05B
CPC分类号： H01L51/001 , C23C14/12 , C23C14/546 , G01B7/066 , H01L51/5012
摘要：一種用以在製造有機發光裝置時控制有機層之沉澱的方法包括在沉澱區域處沉澱形成一層有機發光裝置的有機材料並提供可移動感測器，該當被移動進入沉澱區域並在沉澱步驟期間被覆膜之可移動感測器提供代表形成該層之有機材料的沉澱率與厚度之信號。該方法也包括根據該信號控制有機材料之沉澱以控制形成該層之被沉澱有機材料的沉澱率與厚度、將感測器從沉澱區域移動到清潔位置、及從可移動感測器移除有機材料以讓可移動感測器可重複使用。
简体摘要：一种用以在制造有机发光设备时控制有机层之沉淀的方法包括在沉淀区域处沉淀形成一层有机发光设备的有机材料并提供可移动传感器，该当被移动进入沉淀区域并在沉淀步骤期间被覆膜之可移动传感器提供代表形成该层之有机材料的沉淀率与厚度之信号。该方法也包括根据该信号控制有机材料之沉淀以控制形成该层之被沉淀有机材料的沉淀率与厚度、将传感器从沉淀区域移动到清洁位置、及从可移动传感器移除有机材料以让可移动传感器可重复使用。

8. 发明专利

TWI539637B 真空氣相沉積系統有权
简体标题：真空气相沉积系统
公开(公告)号：TWI539637B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100139147
申请日：2011-10-27
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：福田直人 , FUKUDA, NAOTO , 中川善之 , NAKAGAWA, YOSHIYUKI , 中野真吾 , NAKANO, SHINGO
IPC分类号： H01L51/50 , H01L21/20 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/546 , H01L51/001 , H01L2251/558

9. 发明专利

TWI476288B 真空蒸鍍裝置有权
简体标题：真空蒸镀设备
公开(公告)号：TWI476288B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW101102925
申请日：2012-01-30
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：重岡伸之 , SHIGEOKA, NOBUYUKI , 平野龍也 , HIRANO, TATSUYA
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/26 , C23C14/542 , C23C14/546

10. 发明专利

TW201502305A 沉積設備、使用其製造有機發光顯示設備之方法以及使用該方法所製造之有機發光顯示設備审中-公开
简体标题：沉积设备、使用其制造有机发光显示设备之方法以及使用该方法所制造之有机发光显示设备
公开(公告)号：TW201502305A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103107595
申请日：2014-03-06
申请人：三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人：李泰勳 , LEE, TAE-HUN , 鄭炳成 , JEONG, BYOUNG-SEONG , 金相洙 , KIM, SANG-SU , 成恩國 , SUNG, EUN-GOOK , 金晟換 , KIM, SUNG-HWAN , 梁成元 , YANG, SUNG-WON , 宋濟鉉 , SONG, JE-HYUN , 金泰亨 , KIM, TAE-HYUNG
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/50 , C23C14/546 , C23C14/568 , H01L51/52
摘要：一種可以即時檢測形成之薄層厚度或一致性之沉積設備。沉積設備包含基板可拆卸的固定於其上之移動單元。輸送單元在第一方向或相反於第一方向之方向上輸送移動單元。沉積單元包含用於沉積沉積材料於基板上之至少一沉積組件。釋出資料取得單元取得關於每單位時間從至少一沉積組件所釋出之沉積材料之量之資料。傳送單元傳送由釋出資料取得單元所取得之資料。
简体摘要：一种可以实时检测形成之薄层厚度或一致性之沉积设备。沉积设备包含基板可拆卸的固定于其上之移动单元。输送单元在第一方向或相反于第一方向之方向上输送移动单元。沉积单元包含用于沉积沉积材料于基板上之至少一沉积组件。发佈数据取得单元取得关于每单位时间从至少一沉积组件所发佈之沉积材料之量之数据。发送单元发送由发佈数据取得单元所取得之数据。

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