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1. 发明专利

TWI593466B 塗佈裝置及液面檢測方法有权
简体标题：涂布设备及液面检测方法
公开(公告)号：TWI593466B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW103117001
申请日：2014-05-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：矢田淳 , YADA, JUN , 鶴田茂登 , TSURUTA, SHIGETO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/10 , B05C11/00 , G01B11/30
CPC分类号： B05C5/0254 , B05B15/50 , B05C11/101 , B05C11/1013 , B05C11/1018

2. 发明专利

TW200306234A 液體施配方法及裝置 LIQUID DISPENSING METHOD AND APPARATUS 审中-公开
简体标题：液体施配方法及设备 LIQUID DISPENSING METHOD AND APPARATUS
公开(公告)号：TW200306234A
公开(公告)日：2003-11-16
申请号：TW092107323
申请日：2003-03-28
申请人：能多順股份有限公司 NORDSON CORPORATION
发明人：松永正文 MASAFUMI MATSUNAGA , 青柳孝行 TAKAYUKI AOYAGI , 寺尾幸起 KOUKI TERAO
IPC分类号： B05D , B05C
CPC分类号： B05B9/005 , B05B9/04 , B05B9/047 , B05C5/0254 , B05C11/101 , B05C11/1034 , B05D1/34
摘要：一種液體施配方法，其用以在不浪費液體之條件下處理一最少量之液體，及在無固體微粒沈澱下施配及噴射一確實數量之液體。該方法包括以下步驟：經由節流孔8-1，8-2調節流道內液體之流速，此步驟係在使液體經由流道10-1及10-2而於注射管5-1及5-2之間流動的同時，藉由施加一0.001MPa至10MPa之壓力於一充填於注射管容器5-1內且包含固體微粒之液體6，並調整另一注射管5-2內液體之壓力小於注射管5-1內液體之壓力來實現；及經由一自動施配閥1自流道施配該液體。
简体摘要：一种液体施配方法，其用以在不浪费液体之条件下处理一最少量之液体，及在无固体微粒沈淀下施配及喷射一确实数量之液体。该方法包括以下步骤：经由节流孔8-1，8-2调节流道内液体之流速，此步骤系在使液体经由流道10-1及10-2而于注射管5-1及5-2之间流动的同时，借由施加一0.001MPa至10MPa之压力于一充填于注射管容器5-1内且包含固体微粒之液体6，并调整另一注射管5-2内液体之压力小于注射管5-1内液体之压力来实现；及经由一自动施配阀1自流道施配该液体。

3. 发明专利

TW200740529A 施加黏著劑至基板的裝置 DEVICE FOR APPLYING ADHESIVE TO A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：施加黏着剂至基板的设备 DEVICE FOR APPLYING ADHESIVE TO A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200740529A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW095126205
申请日：2006-07-18
申请人：恩艾克西斯國際貿易股份有限公司 UNAXIS INTERNATIONAL TRANDING LTD.
发明人：安德烈莫比斯 MOEBIUS, ANDRE
IPC分类号： B05C , H01L
CPC分类号： H01L24/743 , B05C5/02 , B05C11/101 , B05C11/1013
摘要：一種將粘著劑(2)從包含粘著劑的液體容器塗敷於基板的裝置,包括至少一個借助於轉換閥暫時地連接到液體容器以將壓力脈衝施加於液體容器的壓力箱;以及用於控制轉換閥和調節壓力箱中壓力的控制單元。根據本發明,該裝置裝備有感測器(4),該感測器的輸出信號表示液體容器的液位。感測器(4)包括聲換能器(8)、聲變換器(9)以及電子電路(10),該電子電路操作聲換能器(8)和分析由聲變換器(9)所傳送的信號。感測器(4)測量施加於聲換能器(8)的交流電信號的頻率,在該頻率下液體容器中出現聲學駐波。控制單元根據來自感測器的輸出信號控制壓力箱中的壓力或者壓力脈衝的長度。
简体摘要：一种将粘着剂(2)从包含粘着剂的液体容器涂敷于基板的设备,包括至少一个借助于转换阀暂时地连接到液体容器以将压力脉冲施加于液体容器的压力箱;以及用于控制转换阀和调节压力箱中压力的控制单元。根据本发明,该设备装备有传感器(4),该传感器的输出信号表示液体容器的液位。传感器(4)包括声换能器(8)、声变换器(9)以及电子电路(10),该电子电路操作声换能器(8)和分析由声变换器(9)所发送的信号。传感器(4)测量施加于声换能器(8)的交流电信号的频率,在该频率下液体容器中出现声学驻波。控制单元根据来自传感器的输出信号控制压力箱中的压力或者压力脉冲的长度。

4. 发明专利

TW421818B 處理液供應裝置失效
简体标题：处理液供应设备
公开(公告)号：TW421818B
公开(公告)日：2001-02-11
申请号：TW087110107
申请日：1998-06-23
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：小西信夫 , 廣瀨圭藏
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6715 , B05C11/08 , B05C11/1002 , B05C11/101 , B05C11/1042
摘要：本發明之用以供應處理液給予被處理基板用之處理液供應裝置，係具備有:收容處理液用之處理液源:從處理液源引導處理液至被處理基板之配管:從處理液源供應處理液至前述配管用之處理液供應驅動系統:及用以進行供應及停止供應處理液用之處理液供應/停止機構，而前述配管41和處理液供應驅動系統44，45(請參照圖2)係個別地被配設，處理液供應/停止機則配設於前述配管以外之處。
简体摘要：本发明之用以供应处理液给予被处理基板用之处理液供应设备，系具备有:收容处理液用之处理液源:从处理液源引导处理液至被处理基板之配管:从处理液源供应处理液至前述配管用之处理液供应驱动系统:及用以进行供应及停止供应处理液用之处理液供应/停止机构，而前述配管41和处理液供应驱动系统44，45(请参照图2)系个别地被配设，处理液供应/停止机则配设于前述配管以外之处。

5. 发明专利

TW201529452A 瓶更換裝置、基板處理裝置、瓶更換方法、瓶蓋、瓶蓋更換裝置及瓶蓋更換方法审中-公开
简体标题：瓶更换设备、基板处理设备、瓶更换方法、瓶盖、瓶盖更换设备及瓶盖更换方法
公开(公告)号：TW201529452A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103125693
申请日：2014-07-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：達文多爾發阿諾阿蘭將 , DAUENDORFFER, ARNAUD ALAIN JEAN , 宮崎忍 , MIYAZAKI, SHINOBU
IPC分类号： B65G47/74 , B05C11/11
CPC分类号： B65D83/40 , B05C11/101 , B05C11/11 , B65D47/04 , B65D83/32 , B67D7/0272
摘要：提供一種在瓶更換時，可抑制塵埃等進入瓶內的瓶更換裝置。又，提供一種可確實連接於處理液用配管的瓶蓋。瓶(B)，係具備有蓋(C)。蓋(C)，係具備有處理液用吸管部(C40)與處理液用連接部(C45)。處理液用吸管部(C40)，係形成處理液用流路(R1)並且延伸於瓶(B)內。處理液用連接部(C45)，係設於處理液用吸管部(C40)的端部。化學台車(31)，係具備有：連接機構部(D20)，具備有與瓶(B)之處理液用連接部(C45)連接，且流通從瓶(B)所供給之處理液的處理液用配管(D45)；及滑動/旋轉機構部(D60)，將瓶(B)搬送至連接處理液用連接部(C45)與處理液用配管(D45)的連接位置。又，密封瓶(B)之蓋(C)，係具備有處理液用吸管部(C40)與處理液用連接部(C45)。處理液用吸管部(C40)，係形成用於供給瓶(B)內之處理液的處理液用流路(R1)並且延伸於瓶(B)內。處理液用連接部(C45)，係設於處理液用吸管部(C40)之瓶(B)外側的端部，且連接於流通有從瓶(B)所供給之處理液的處理液用配管(D45)。處理液用連接部(C45)，係藉由沿著處理液用吸管部(C40)之瓶(B)外側之端部之處理液用流路(R1)的延伸方向，使與處理液用配管(D45)之距離相對接近並相對推壓的方式，連接於處理液用配管(D45)。
简体摘要：提供一种在瓶更换时，可抑制尘埃等进入瓶内的瓶更换设备。又，提供一种可确实连接于处理液用配管的瓶盖。瓶(B)，系具备有盖(C)。盖(C)，系具备有处理液用吸管部(C40)与处理液用连接部(C45)。处理液用吸管部(C40)，系形成处理液用流路(R1)并且延伸于瓶(B)内。处理液用连接部(C45)，系设于处理液用吸管部(C40)的端部。化学台车(31)，系具备有：连接机构部(D20)，具备有与瓶(B)之处理液用连接部(C45)连接，且流通从瓶(B)所供给之处理液的处理液用配管(D45)；及滑动/旋转机构部(D60)，将瓶(B)搬送至连接处理液用连接部(C45)与处理液用配管(D45)的连接位置。又，密封瓶(B)之盖(C)，系具备有处理液用吸管部(C40)与处理液用连接部(C45)。处理液用吸管部(C40)，系形成用于供给瓶(B)内之处理液的处理液用流路(R1)并且延伸于瓶(B)内。处理液用连接部(C45)，系设于处理液用吸管部(C40)之瓶(B)外侧的端部，且连接于流通有从瓶(B)所供给之处理液的处理液用配管(D45)。处理液用连接部(C45)，系借由沿着处理液用吸管部(C40)之瓶(B)外侧之端部之处理液用流路(R1)的延伸方向，使与处理液用配管(D45)之距离相对接近并相对推压的方式，连接于处理液用配管(D45)。

6. 发明专利

TW201012553A 配向材料之中央供給系統與具有該系統之配向層形成設備 CENTRAL SUPPLYING SYSTEM OF ALIGNMENT MATERIAL AND APPARATUS FOR FORMING ALIGNMENT LAYER HAVING THE SAME 审中-公开
简体标题：配向材料之中央供给系统与具有该系统之配向层形成设备 CENTRAL SUPPLYING SYSTEM OF ALIGNMENT MATERIAL AND APPARATUS FOR FORMING ALIGNMENT LAYER HAVING THE SAME
公开(公告)号：TW201012553A
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW097149878
申请日：2008-12-19
申请人：樂金顯示科技股份有限公司
发明人：吳赫
IPC分类号： B05C
CPC分类号： B05C11/101 , B05C1/0813 , G02F1/1337
摘要：一種配向層形成設備包含有：至少一個配向層形成線，其具有複數個配向層形成單元；複數個配向材料塗覆裝置，這些配向材料塗覆裝置位於每一配向層形成單元且用以在對應之配向層形成單元之一基板上塗覆一配向材料；至少一個配向層材料供給單元，其具有複數個第二配向材料容器，這些第二配向材料容器用以將配向材料供給至每一配向材料塗覆裝置；一中央供給單元，係與至少一個配向材料供給單元相連接且具有至少一個第一配向材料容器，第一配向材料容器用以將配向材料供給至此至少一個配向材料供給單元；一供給管，其將此至少一個配向材料供給單元與中央供給單元相連接；以及一控制器，用以測量此至少一個配向材料供給單元之配向材料之剩留量以便當配向材料之測量剩留量小於其最小量時，將第一配向材料容器中的配向材料藉由供給管供給至這些第二配向材料容器中，並且測量中央供給單元中配向材料之測量剩留量以便當中央供給單元中之配向材料之測量剩留量小於其最小量時，使用一新的充滿配向材料的第一配向材料容器置換此第一配向材料容器。
简体摘要：一种配向层形成设备包含有：至少一个配向层形成线，其具有复数个配向层形成单元；复数个配向材料涂覆设备，这些配向材料涂覆设备位于每一配向层形成单元且用以在对应之配向层形成单元之一基板上涂覆一配向材料；至少一个配向层材料供给单元，其具有复数个第二配向材料容器，这些第二配向材料容器用以将配向材料供给至每一配向材料涂覆设备；一中央供给单元，系与至少一个配向材料供给单元相连接且具有至少一个第一配向材料容器，第一配向材料容器用以将配向材料供给至此至少一个配向材料供给单元；一供给管，其将此至少一个配向材料供给单元与中央供给单元相连接；以及一控制器，用以测量此至少一个配向材料供给单元之配向材料之剩留量以盒饭配向材料之测量剩留量小于其最小量时，将第一配向材料容器中的配向材料借由供给管供给至这些第二配向材料容器中，并且测量中央供给单元中配向材料之测量剩留量以盒饭中央供给单元中之配向材料之测量剩留量小于其最小量时，使用一新的充满配向材料的第一配向材料容器置换此第一配向材料容器。

7. 发明专利

TWI288663B 液體施配方法及裝置 LIQUID DISPENSING METHOD AND APPARATUS 有权
简体标题：液体施配方法及设备 LIQUID DISPENSING METHOD AND APPARATUS
公开(公告)号：TWI288663B
公开(公告)日：2007-10-21
申请号：TW092107323
申请日：2003-03-28
申请人：能多順股份有限公司 NORDSON CORPORATION
发明人：松永正文 MASAFUMI MATSUNAGA , 青柳孝行 TAKAYUKI AOYAGI , 寺尾幸起 KOUKI TERAO
IPC分类号： B05D , B05C
CPC分类号： B05B9/005 , B05B9/04 , B05B9/047 , B05C5/0254 , B05C11/101 , B05C11/1034 , B05D1/34
摘要：一種液體施配方法，其用以在不浪費液體之條件下處理一最少量之液體，及在無固體微粒沈澱下施配及噴射一確實數量之液體。該方法包括以下步驟：經由節流孔8-1, 8-2調節流道內液體之流速，此步驟係在使液體經由流道10-1及10-2而於注射管5-1及5-2之間流動的同時，藉由施加一0.001 MPa至10 MPa之壓力於一充填於注射管容器5-1內且包含固體微粒之液體6，並調整另一注射管5-2內液體之壓力小於注射管5-1內液體之壓力來實現；及經由一自動施配閥1自流道施配該液體。
简体摘要：一种液体施配方法，其用以在不浪费液体之条件下处理一最少量之液体，及在无固体微粒沈淀下施配及喷射一确实数量之液体。该方法包括以下步骤：经由节流孔8-1, 8-2调节流道内液体之流速，此步骤系在使液体经由流道10-1及10-2而于注射管5-1及5-2之间流动的同时，借由施加一0.001 MPa至10 MPa之压力于一充填于注射管容器5-1内且包含固体微粒之液体6，并调整另一注射管5-2内液体之压力小于注射管5-1内液体之压力来实现；及经由一自动施配阀1自流道施配该液体。

8. 发明专利

TWI530327B 高黏性材料之定量排出裝置及方法有权
简体标题：高黏性材料之定量排出设备及方法
公开(公告)号：TWI530327B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW099119426
申请日：2010-06-15
申请人：武藏工業股份有限公司 , MUSASHI ENGINEERING, INC.
发明人：生島和正 , IKUSHIMA, KAZUMASA
IPC分类号： B05C11/10
CPC分类号： F04B23/02 , B05C5/0225 , B05C11/1007 , B05C11/101 , F04B15/02 , Y10T137/7761

9. 发明专利

TWI305733B 施加黏著劑至基板的裝置 DEVICE FOR APPLYING ADHESIVE TO A SUBSTRATE 有权
简体标题：施加黏着剂至基板的设备 DEVICE FOR APPLYING ADHESIVE TO A SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI305733B
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW095126205
申请日：2006-07-18
申请人：歐瑞康組件設備史坦胡森有限公司 OERLIKON ASSEMBLY EQUIPMENT AG, STEINHAUSEN
发明人：安德烈莫比斯 MOEBIUS, ANDRE
IPC分类号： B05C , H01L
CPC分类号： H01L24/743 , B05C5/02 , B05C11/101 , B05C11/1013
摘要：一種將粘著劑(2)從包含粘著劑的液體容器塗敷於基板的裝置,包括至少一個借助於轉換閥暫時地連接到液體容器以將壓力脈衝施加於液體容器的壓力箱;以及用於控制轉換閥和調節壓力箱中壓力的控制單元。根據本發明,該裝置裝備有感測器(4),該感測器的輸出信號表示液體容器的液位。感測器(4)包括聲換能器(8)、聲變換器(9)以及電子電路(10),該電子電路操作聲換能器(8)和分析由聲變換器(9)所傳送的信號。感測器(4)測量施加於聲換能器(8)的交流電信號的頻率,在該頻率下液體容器中出現聲學駐波。控制單元根據來自感測器的輸出信號控制壓力箱中的壓力或者壓力脈衝的長度。
简体摘要：一种将粘着剂(2)从包含粘着剂的液体容器涂敷于基板的设备,包括至少一个借助于转换阀暂时地连接到液体容器以将压力脉冲施加于液体容器的压力箱;以及用于控制转换阀和调节压力箱中压力的控制单元。根据本发明,该设备装备有传感器(4),该传感器的输出信号表示液体容器的液位。传感器(4)包括声换能器(8)、声变换器(9)以及电子电路(10),该电子电路操作声换能器(8)和分析由声变换器(9)所发送的信号。传感器(4)测量施加于声换能器(8)的交流电信号的频率,在该频率下液体容器中出现声学驻波。控制单元根据来自传感器的输出信号控制压力箱中的压力或者压力脉冲的长度。

10. 发明专利

TW206149B 配送黏性液體之裝置失效
简体标题：配送黏性液体之设备
公开(公告)号：TW206149B
公开(公告)日：1993-05-21
申请号：TW082100326
申请日：1993-01-19
申请人：英國聯合製鞋機械有限公司
发明人：吳崑煌
IPC分类号： A43D
CPC分类号： G01F23/2928 , A43D11/04 , B05C11/101 , G05D9/12
摘要：配送一種黏性液體4之裝置1，諸如鞋件之塗敷機包含一非侵入性之裝置，用以在一液體容器中(2)於最小及最大限度之間保持特定階度。液體之階度係從光源20將一光投射於液體表面，通過光檢波器22，找出從該表面所反射之光表示該液體4已達到最小或最大限度L，U.之情況來決定。當指示表示已到達限度L，U.之一時，便有指令給送液裝置，視合乎到達之階度或則補充該液體，或則停止補充。
简体摘要：配送一种黏性液体4之设备1，诸如鞋件之涂敷机包含一非侵入性之设备，用以在一液体容器中(2)于最小及最大限度之间保持特定阶度。液体之阶度系从光源20将一光投射于液体表面，通过光检波器22，找出从该表面所反射之光表示该液体4已达到最小或最大限度L，U.之情况来决定。当指示表示已到达限度L，U.之一时，便有指令给送液设备，视合乎到达之阶度或则补充该液体，或则停止补充。

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