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1. 发明专利

TWI593466B 塗佈裝置及液面檢測方法有权
简体标题：涂布设备及液面检测方法
公开(公告)号：TWI593466B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW103117001
申请日：2014-05-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：矢田淳 , YADA, JUN , 鶴田茂登 , TSURUTA, SHIGETO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/10 , B05C11/00 , G01B11/30
CPC分类号： B05C5/0254 , B05B15/50 , B05C11/101 , B05C11/1013 , B05C11/1018

2. 发明专利

TW201509545A 塗佈裝置及液面檢測方法审中-公开
简体标题：涂布设备及液面检测方法
公开(公告)号：TW201509545A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103117001
申请日：2014-05-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：矢田淳 , YADA, JUN , 鶴田茂登 , TSURUTA, SHIGETO
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/10 , B05C11/00 , G01B11/30
CPC分类号： B05C5/0254 , B05B15/50 , B05C11/101 , B05C11/1013 , B05C11/1018
摘要：適切地檢測儲存於狹縫噴嘴內之塗佈液的液面。實施形態之塗佈裝置，係具備有狹縫噴嘴、移動機構、儲存部用照明部、攝像部。狹縫噴嘴，係具備有：長條狀本體部；儲存部，在本體部之內部儲存塗佈液；及狹縫狀吐出口，從儲存部經由狹縫狀之流路吐出所饋送的塗佈液，而本體部中相互對向之第1壁部及第2壁部的至少各一部份係以透明構件而形成。移動機構，係使狹縫噴嘴對基板相對移動。儲存部用照明部，係經由第1壁部之透明構件，對儲存部內進行照明。攝像部，係經由第2壁部之透明構件，對儲存部內進行拍攝。
简体摘要：适切地检测存储于狭缝喷嘴内之涂布液的液面。实施形态之涂布设备，系具备有狭缝喷嘴、移动机构、存储部用照明部、摄像部。狭缝喷嘴，系具备有：长条状本体部；存储部，在本体部之内部存储涂布液；及狭缝状吐出口，从存储部经由狭缝状之流路吐出所馈送的涂布液，而本体部中相互对向之第1壁部及第2壁部的至少各一部份系以透明构件而形成。移动机构，系使狭缝喷嘴对基板相对移动。存储部用照明部，系经由第1壁部之透明构件，对存储部内进行照明。摄像部，系经由第2壁部之透明构件，对存储部内进行拍摄。

3. 发明专利

TW201209923A 熱處理裝置、熱處理方法及記憶媒體 THERMAL PROCESSING APPARATUS AND THERMAL PROCESSING METHOD AND STRAGE MEDIUM 审中-公开
简体标题：热处理设备、热处理方法及记忆媒体 THERMAL PROCESSING APPARATUS AND THERMAL PROCESSING METHOD AND STRAGE MEDIUM
公开(公告)号：TW201209923A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：TW100117434
申请日：2011-05-18
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：緒方庸元 , 殿川勝洋 , 矢田淳 , 前田陽一郎
IPC分类号： H01L
摘要：本發明旨在提供一種熱處理裝置、熱處理方法及記憶媒體,抑制於基板面內熱處理溫度之差異,使在基板面內配線圖案之線寬均一化。其中,該熱處理裝置包含:基板運送機構20,形成基板運送通道2,沿基板運送通道水平移動運送被處理基板G;第一腔室8A,形成針對被處理基板之熱處理空間;第一、第二加熱‧冷卻機構17、18,可加熱或冷卻第一腔室內;基板偵測機構45,設於第一腔室前段,偵測於基板運送通道所運送之被處理基板;及控制機構40,由基板偵測機構供給偵測信號,並可控制由基板運送機構進行之基板運送速度;且控制機構藉由基板偵測機構之偵測信號取得被處理基板之運送位置,對每一沿基板運送方向分為複數個的被處理基板區域切換由基板運送機構進行之基板運送速度,控制於第一腔室內之停留時間。
简体摘要：本发明旨在提供一种热处理设备、热处理方法及记忆媒体,抑制于基板面内热处理温度之差异,使在基板面内配线图案之线宽均一化。其中,该热处理设备包含:基板运送机构20,形成基板运送信道2,沿基板运送信道水平移动运送被处理基板G;第一腔室8A,形成针对被处理基板之热处理空间;第一、第二加热‧冷却机构17、18,可加热或冷却第一腔室内;基板侦测机构45,设于第一腔室前段,侦测于基板运送信道所运送之被处理基板;及控制机构40,由基板侦测机构供给侦测信号,并可控制由基板运送机构进行之基板运送速度;且控制机构借由基板侦测机构之侦测信号取得被处理基板之运送位置,对每一沿基板运送方向分为复数个的被处理基板区域切换由基板运送机构进行之基板运送速度,控制于第一腔室内之停留时间。

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