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1. 发明专利

TW201821166A 塗布液供給裝置审中-公开
简体标题：涂布液供给设备
公开(公告)号：TW201821166A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106134253
申请日：2017-10-03
申请人：日商中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：西尾勤 , NISHIO, TSUTOMU , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 魏志丹 , WEI, ZHIDAN
IPC分类号： B05C11/00 , B05C11/11 , B05C11/10 , B05C5/00 , B05D3/00 , G03F7/16
摘要：塗布液供給裝置的特徵在於：包含有：儲存塗布液的儲存容器；在儲存容器內朝軸方向移動，並且將儲存於儲存儲存容器之塗布液從儲存儲存容器吐出的桿件；安裝桿件，將儲存儲存於儲存儲存容器之塗布液與桿件隔離，並且在其與桿件之間形成密閉空間之封入空間，並相對於桿件之軸方向之移動而伸縮伸縮軟管構件，於封入空間封入有液體。
简体摘要：涂布液供给设备的特征在于：包含有：存储涂布液的存储容器；在存储容器内朝轴方向移动，并且将存储于存储存储容器之涂布液从存储存储容器吐出的杆件；安装杆件，将存储存储于存储存储容器之涂布液与杆件隔离，并且在其与杆件之间形成密闭空间之封入空间，并相对于杆件之轴方向之移动而伸缩伸缩软管构件，于封入空间封入有液体。

2. 发明专利

TW201400193A 點膠裝置及點膠方法失效
简体标题：点胶设备及点胶方法
公开(公告)号：TW201400193A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW101122020
申请日：2012-06-20
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王建鈞 , WANG, CHIEN CHUN
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/11 , G02B7/02
CPC分类号： B05C1/00 , B05C1/027 , G02B7/025
摘要：本發明涉及一種點膠裝置，其包括：主體部、出膠頭與出膠環，該主體部用來容置膠水且具有第一端以及與該第一端相背的第二端，該出膠頭與該第二端連接，該出膠頭具有一上表面與一下表面，該上表面位於該主體部內，該下表面位於該主體部外，該出膠頭沿邊緣開設有貫穿該上表面及該下表面的多個出膠通孔，該出膠環設置於該下表面且覆蓋該多個出膠通孔。本發明還涉及一種點膠方法。
简体摘要：本发明涉及一种点胶设备，其包括：主体部、出胶头与出胶环，该主体部用来容置胶水且具有第一端以及与该第一端相背的第二端，该出胶头与该第二端连接，该出胶头具有一上表面与一下表面，该上表面位于该主体部内，该下表面位于该主体部外，该出胶头沿边缘开设有贯穿该上表面及该下表面的多个出胶通孔，该出胶环设置于该下表面且覆盖该多个出胶通孔。本发明还涉及一种点胶方法。

3. 发明专利

TW201906668A 藥液排出機構，液處理裝置，藥液排出方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：药液排出机构，液处理设备，药液排出方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201906668A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107125688
申请日：2015-07-01
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：笹川典彦 , SASAGAWA,NORIHIKO , 稲田博一 , INADA,HIROICHI , 浜田雅仁 , HAMADA,MASAHITO
IPC分类号： B05C11/08 , B05C11/11 , B05C5/00
摘要：本發明的課題為提供一種用於排出黏度比較高的藥液的藥液排出機構中，可降低該藥液的排液路佔有之高度較小的技術。其解決手段為構成排液機構，具備：具有貯存藥液的貯存空間的貯存部；在上述貯存空間，供應用於降低上述藥液黏度之稀釋液而開口的稀釋液供應口；為攪拌上述稀釋液與上述藥液而對上述貯存空間供應流體，並對該稀釋液及藥液形成渦流用的渦流形成部；及為了將攪拌後的上述稀釋液及藥液藉上述稀釋液的供應而流入並從上述貯存空間排出，在該貯存空間中於上述稀釋液供應口的上方開口的排液口。藉以上的構成，可降低從排液口排出之廢棄液的黏度，相對於連接在該排液口之排液路的水平面不需要大的傾斜。
简体摘要：本发明的课题为提供一种用于排出黏度比较高的药液的药液排出机构中，可降低该药液的排液路占有之高度较小的技术。其解决手段为构成排液机构，具备：具有贮存药液的贮存空间的贮存部；在上述贮存空间，供应用于降低上述药液黏度之稀释液而开口的稀释液供应口；为搅拌上述稀释液与上述药液而对上述贮存空间供应流体，并对该稀释液及药液形成涡流用的涡流形成部；及为了将搅拌后的上述稀释液及药液藉上述稀释液的供应而流入并从上述贮存空间排出，在该贮存空间中于上述稀释液供应口的上方开口的排液口。借以上的构成，可降低从排液口排出之废弃液的黏度，相对于连接在该排液口之排液路的水平面不需要大的倾斜。

4. 发明专利

TWI638685B 塗布液供給裝置有权
简体标题：涂布液供给设备
公开(公告)号：TWI638685B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW106134253
申请日：2017-10-03
申请人：日商中外爐工業股份有限公司 , CHUGAI RO CO., LTD.
发明人：西尾勤 , NISHIO, TSUTOMU , 戶內八郎 , TOUCHI, HACHIROU , 魏志丹 , WEI, ZHIDAN
IPC分类号： B05C11/00 , B05C11/11 , B05C11/10 , B05C5/00 , B05D3/00 , G03F7/16

5. 发明专利

TWI572415B 塗佈裝置、塑膠容器及使用於該等之長條狀流路構件與附內栓蓋有权
简体标题：涂布设备、塑胶容器及使用于该等之长条状流路构件与附内栓盖
公开(公告)号：TWI572415B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW101100306
申请日：2012-01-04
申请人：施敏打硬股份有限公司 , CEMEDINE CO., LTD.
发明人：岡村直實 , OKAMURA, NAOMI , 齋藤敦 , SAITO, ATSUSHI , 渡邊擔 , WATANABE, YUTAKA
IPC分类号： B05C11/10 , B05C11/11 , B05C5/00

6. 发明专利

TW201422316A 具有槽搖動器之融化器审中-公开
简体标题：具有槽摇动器之融化器
公开(公告)号：TW201422316A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102105209
申请日：2013-02-08
申请人：葛萊兒明尼蘇達股份有限公司 , GRACO MINNESOTA INC.
发明人：賽比昂麥可J , SEBION, MICHAEL J. , 隆尼可拉斯D , LONG, NICHOLAS D. , 庫克尙恩M , COOK, SHAUN M. , 席漢馬克W , SHEAHAN, MARK W. , 溫柏格馬克T , WEINBERGER, MARK T. , 柏洛德瓦馬克J , BRUDEVOLD, MARK J. , 提斯喬瑟夫E , TIX, JOSEPH E. , 里娃約翰S , LIHWA, JOHN S. , 法洛道格拉斯B , FARROW, DOUGLAS B. , 林德羅伯特J , LIND, ROBERT J. , 關保羅R , QUAM, PAUL R. , 羅斯丹尼爾P , ROSS, DANIEL P.
IPC分类号： B05C11/11
CPC分类号： F24H9/00 , F24H1/185 , F24H9/1818 , Y10T137/6416
摘要：本發明揭示一種用於一融化系統之融化器，其包含一槽、一振動產生裝置及一加熱器。該槽具有用於圍封一熱融化黏合劑之一壁，且該振動產生裝置使該壁振動。該加熱器將熱量轉移至該槽。
简体摘要：本发明揭示一种用于一融化系统之融化器，其包含一槽、一振动产生设备及一加热器。该槽具有用于围封一热融化黏合剂之一壁，且该振动产生设备使该壁振动。该加热器将热量转移至该槽。

7. 发明专利

TW201309394A 圖案形成裝置审中-公开
简体标题：图案形成设备
公开(公告)号：TW201309394A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101114274
申请日：2012-04-20
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：岩島正信 , IWASHIMA, MASANOBU , 真田雅和 , SANADA, MASAKAZU , 上野博之 , UENO, HIROYUKI
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/11
CPC分类号： B05C5/0212 , B05C17/00516
摘要：本發明提供一種於在基板上塗佈塗佈液而形成特定圖案之圖案形成技術中，能夠以較高之壓力擠出塗佈液，且可適當進行噴出控制之技術。噴出噴嘴31之前端部成為楔型，且於其前端具有進而突出之突起部310。突起部310之下表面310b成為與基板接近對向之基板對向面，自其端部，自基板W逐漸離開之噴出口配設面310c上升。於噴出口配設面310c中鄰接於基板對向面310b之位置上，設置有用以噴出塗佈液之噴出口311。噴出口311之周圍及塗佈液供給路徑312之周圍壁面係一體形成。
简体摘要：本发明提供一种于在基板上涂布涂布液而形成特定图案之图案形成技术中，能够以较高之压力挤出涂布液，且可适当进行喷出控制之技术。喷出喷嘴31之前端部成为楔型，且于其前端具有进而突出之突起部310。突起部310之下表面310b成为与基板接近对向之基板对向面，自其端部，自基板W逐渐离开之喷出口配设面310c上升。于喷出口配设面310c中邻接于基板对向面310b之位置上，设置有用以喷出涂布液之喷出口311。喷出口311之周围及涂布液供给路径312之周围壁面系一体形成。

8. 实用新型

TWM589077U 供料密封盒有权
公开(公告)号：TWM589077U
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW108208502
申请日：2019-07-01
申请人：王宏泰 , WANG, HUNG TAI , 王翔泰 , WANG, HSIANG TAI
发明人：王宏泰 , WANG, HUNG TAI , 王翔泰 , WANG, HSIANG TAI
IPC分类号： B05C11/11

9. 发明专利

TWI662995B 流體吐出系統、及儲液器有权
简体标题：流体吐出系统、及储液器
公开(公告)号：TWI662995B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW104113906
申请日：2015-04-30
申请人：日商兵神裝備股份有限公司 , HEISHIN LTD.
发明人：杉野祥弘 , SUGINO, YOSHIHIRO , 青田哲典 , AOTA, TETSUNORI
IPC分类号： B05C11/10 , B05C11/11

10. 发明专利

TWI638686B 藥液排出機構，液處理裝置，藥液排出方法及記憶媒體有权
简体标题：药液排出机构，液处理设备，药液排出方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI638686B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104121320
申请日：2015-07-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：笹川典彦 , SASAGAWA, NORIHIKO , 稲田博一 , INADA, HIROICHI , 浜田雅仁 , HAMADA, MASAHITO
IPC分类号： B05C11/08 , B05C11/11 , B05C5/00

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