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1. 发明专利

TWI587102B 對準感測器及微影裝置有权
简体标题：对准传感器及微影设备
公开(公告)号：TWI587102B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW104123449
申请日：2015-07-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 克魯瑟賈斯汀洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7065 , G03F9/7069

2. 发明专利

TW201610615A 對準感測器及微影裝置审中-公开
简体标题：对准传感器及微影设备
公开(公告)号：TW201610615A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104123449
申请日：2015-07-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 克魯瑟賈斯汀洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7065 , G03F9/7069
摘要：一種用於微影裝置之對準感測器，其經配置及建構以量測微影裝置之可移動部件相對於該微影裝置之靜止部件的對準。對準感測器包含：光源，其經組態以產生處於光學波長及脈衝重複頻率之脈衝串；非線性光學元件，其配置於脈衝串之光學傳播路徑中，非線性光學元件經組態以將處於光學波長之脈衝串變換成在光學波長範圍內之經變換脈衝串；光學成像系統，其經組態以將經變換脈衝串投影至包含繞射光柵之對準標記上；偵測器，其用以偵測如由繞射光柵繞射之繞射圖案；及資料處理器件，其經組態以自如由偵測器偵測之經偵測繞射圖案導出對準資料。
简体摘要：一种用于微影设备之对准传感器，其经配置及建构以量测微影设备之可移动部件相对于该微影设备之静止部件的对准。对准传感器包含：光源，其经组态以产生处于光学波长及脉冲重复频率之脉冲串；非线性光学组件，其配置于脉冲串之光学传播路径中，非线性光学组件经组态以将处于光学波长之脉冲串变换成在光学波长范围内之经变换脉冲串；光学成像系统，其经组态以将经变换脉冲串投影至包含绕射光栅之对准标记上；侦测器，其用以侦测如由绕射光栅绕射之绕射图案；及数据处理器件，其经组态以自如由侦测器侦测之经侦测绕射图案导出对准数据。

4. 发明专利

TW201712447A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201712447A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105121931
申请日：2016-07-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 丹伯夫艾瑞傑佛瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 凡哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICUIUS ALOYSIUS JACOBUS , 伊瑪亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 呂林納艾琳娜安娜多麗弗娜 , LYULINA, IRINA ANATOLIEVNA , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 希可利哈奇爾金 , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 梵席斯洛克喬漢斯彼托斯 , VERHEES, LOEK JOHANNES PETRUS , 卡拉多維克托艾曼紐 , CALADO, VICTOR EMANUEL , 凡迪傑克里昂保羅 , VAN DIJK, LEON PAUL
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7092 , G03F7/70508 , G03F7/70633 , G03F9/7046
摘要：本發明描述一種特性化複數個基板之一變形之方法。該方法包含如下步驟：-針對複數n個不同對準量測參數λ及針對複數個基板量測對準標記之一位置；-將一位置偏差判定為該n個對準標記位置量測與一標稱對準標記位置之間的差；-將該等位置偏差分組成資料集；-判定一平均資料集；-自該等資料集減去該平均資料集以獲得複數個可變資料集；-對該等可變資料集執行一盲源分離方法，藉此將該等可變資料集分解成表示該等可變資料集之主成份之本徵晶圓之一集合；-將本徵晶圓之該集合細分成標記變形本徵晶圓之一集合及基板變形本徵晶圓之一集合。
简体摘要：本发明描述一种特性化复数个基板之一变形之方法。该方法包含如下步骤：-针对复数n个不同对准量测参数λ及针对复数个基板量测对准标记之一位置；-将一位置偏差判定为该n个对准标记位置量测与一标称对准标记位置之间的差；-将该等位置偏差分组成数据集；-判定一平均数据集；-自该等数据集减去该平均数据集以获得复数个可变数据集；-对该等可变数据集运行一盲源分离方法，借此将该等可变数据集分解成表示该等可变数据集之主成份之本征晶圆之一集合；-将本征晶圆之该集合细分成标记变形本征晶圆之一集合及基板变形本征晶圆之一集合。

5. 发明专利

TW201708973A 微影方法和設備审中-公开
简体标题：微影方法和设备
公开(公告)号：TW201708973A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105119188
申请日：2016-06-17
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：斯威尼恩藍絲亨德利客珍瑪麗亞 , SWAENEN, LENSE HENDRIK-JAN MARIA , 巴賽曼喬納斯喬可巴斯麥修斯 , BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 雷帝波嘉西凡思奴瓦爾哈納 , REDDY, BOGATHI VISHNU VARDHANA , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 納帝福皮爾利 , NATIV, BEERI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G06F17/10
CPC分类号： G03F7/7055 , G03F7/20 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F7/70525
摘要：一種判定用於一微影設備之一投影系統之一組態之方法，其中該投影系統之操控器操控光學元件以便調整該投影系統之光學屬性，該方法包含：接收該投影系統之該等光學屬性對該等操控器之一組態之相依性；接收該等操控器之複數個約束；將一成本函數公式化，其中該成本函數表示針對該等操控器之一給定組態之該投影系統之該等光學屬性與所要光學屬性之間的一差，其中使用該等光學屬性對該等操控器之該組態之該相依性來將該成本函數公式化；將該成本函數按比例調整至一按比例調整之可變空間中，其中藉由使用該複數個約束來執行該按比例調整；及尋找在滿足該複數個約束之條件下實質上最小化該按比例調整之成本函數的該等操控器之一解法組態。
简体摘要：一种判定用于一微影设备之一投影系统之一组态之方法，其中该投影系统之操控器操控光学组件以便调整该投影系统之光学属性，该方法包含：接收该投影系统之该等光学属性对该等操控器之一组态之相依性；接收该等操控器之复数个约束；将一成本函数公式化，其中该成本函数表示针对该等操控器之一给定组态之该投影系统之该等光学属性与所要光学属性之间的一差，其中使用该等光学属性对该等操控器之该组态之该相依性来将该成本函数公式化；将该成本函数按比例调整至一按比例调整之可变空间中，其中借由使用该复数个约束来运行该按比例调整；及寻找在满足该复数个约束之条件下实质上最小化该按比例调整之成本函数的该等操控器之一解法组态。

6. 发明专利

TWI537690B 對準感測器、微影裝置及對準方法有权
简体标题：对准传感器、微影设备及对准方法
公开(公告)号：TWI537690B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW103116295
申请日：2014-05-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/12
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/272 , G03F9/7069 , G03F9/7088 , G03F9/7092

7. 发明专利

TWI497232B 用於轉換微影裝置中基於向量之所要器件圖案表示之裝置與方法、用於提供資料至可程式化圖案化器件之裝置與方法、微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：用于转换微影设备中基于矢量之所要器件图案表示之设备与方法、用于提供数据至可进程化图案化器件之设备与方法、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI497232B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW101144367
申请日：2012-11-27
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 邦特克馬歇爾 , BONTEKOE, MARCEL , 彼得斯佩卓司雅伯特思阿諾提諾 , PEETERS, PETRUS ALBERTUS ARNOLDINO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G06K15/1836 , G03F7/70291 , G03F7/70508

8. 发明专利

TW201329649A 微影裝置、元件製造方法及電腦程式审中-公开
简体标题：微影设备、组件制造方法及电脑进程
公开(公告)号：TW201329649A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101143781
申请日：2012-11-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 柏利克阿諾詹 , BLEEKER, ARNO JAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70191 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/70391 , G03F7/705 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F9/7026
摘要：本發明係關於用以輻照一目標上之複數個部位之複數個光束的強度值係藉由參考該等部位之位置及/或旋轉而判定。本發明亦提供一種關聯微影或曝光裝置、一種關聯元件製造方法，及一種關聯電腦程式。
简体摘要：本发明系关于用以辐照一目标上之复数个部位之复数个光束的强度值系借由参考该等部位之位置及/或旋转而判定。本发明亦提供一种关联微影或曝光设备、一种关联组件制造方法，及一种关联电脑进程。

9. 发明专利

TW201719846A 微影設備及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201719846A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105127029
申请日：2016-08-24
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： H01L23/544 , H01L21/66 , G06F17/10 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70633 , G03F9/7023 , G03F9/7046
摘要：本發明描述一種用於一感測器之初始化方法，該感測器經組態以使用各別複數個不同量測參數來執行一物件之一屬性之複數個量測，該複數個量測中之不同量測使用不同量測參數，該方法包含： - 基於該複數個量測估計該屬性之一特性，該特性包含藉由一各別加權係數而加權的該複數個量測之各別量測之各別後果之一組合； - 使用該物件之複數個模型，該等模型中之每一各別模型經組態以實現該執行該複數個量測之一各別模擬； - 針對該複數個模型中之各別模型中的每一者執行一各別模擬，該各別模擬包括在各別複數個不同模擬參數之控制下模擬該複數個量測以獲得該屬性之各別複數個經模擬特性，該複數個不同模擬參數指示該複數個不同量測參數； - 針對該複數個模型中之每一各別模型判定一各別偏誤，該各別偏誤表示根據該各別模型之該屬性之一各別理論特性與該各別模型中之該屬性之該等經模擬特性的一各別另外組合之間的一各別差；該等經模擬特性之該各別另外組合包含該複數個權重係數，該複數個權重係數中之每一特定權重係數與該複數個不同模擬參數中之一特定模擬參數相關聯； - 使用經組態以最佳化該屬性之該經模擬特性與該屬性之該理論特性之間的一對應性之一成本函數；該成本函數為該複數個模型之該等各別偏誤之一函數； - 最佳化該成本函數，藉此自該成本函數導出該複數個權重係數； - 於與該感測器相關聯之一控制器中使用該等權重係數及該等關聯模擬參數。
简体摘要：本发明描述一种用于一传感器之初始化方法，该传感器经组态以使用各别复数个不同量测参数来运行一对象之一属性之复数个量测，该复数个量测中之不同量测使用不同量测参数，该方法包含： - 基于该复数个量测估计该属性之一特性，该特性包含借由一各别加权系数而加权的该复数个量测之各别量测之各别后果之一组合； - 使用该对象之复数个模型，该等模型中之每一各别模型经组态以实现该运行该复数个量测之一各别仿真； - 针对该复数个模型中之各别模型中的每一者运行一各别仿真，该各别仿真包括在各别复数个不同仿真参数之控制下仿真该复数个量测以获得该属性之各别复数个经仿真特性，该复数个不同仿真参数指示该复数个不同量测参数； - 针对该复数个模型中之每一各别模型判定一各别偏误，该各别偏误表示根据该各别模型之该属性之一各别理论特性与该各别模型中之该属性之该等经仿真特性的一各别另外组合之间的一各别差；该等经仿真特性之该各别另外组合包含该复数个权重系数，该复数个权重系数中之每一特定权重系数与该复数个不同仿真参数中之一特定仿真参数相关联； - 使用经组态以最优化该属性之该经仿真特性与该属性之该理论特性之间的一对应性之一成本函数；该成本函数为该复数个模型之该等各别偏误之一函数； - 最优化该成本函数，借此自该成本函数导出该复数个权重系数； - 于与该传感器相关联之一控制器中使用该等权重系数及该等关联仿真参数。

10. 发明专利

TWI524154B 用於量測微結構之不對稱性之方法及裝置、位置量測方法、位置量測裝置、微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：用于量测微结构之不对称性之方法及设备、位置量测方法、位置量测设备、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI524154B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW102140163
申请日：2013-11-05
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7088

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