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1. 发明专利

TWI548773B 氣體分佈裝置有权
简体标题：气体分布设备
公开(公告)号：TWI548773B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW104133653
申请日：2015-10-14
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：王慶鈞 , WANG, CHING-CHIUN , 蔡陳德 , TSAI, CHEN-DER , 潘益宗 , PAN, YI-TSUNG , 林義鈞 , LIN, YI-JIUN , 黃智勇 , HUANG, CHIH-YUNG , 楊慕震 , YOUNG, MU-JEN , 林龔樑 , LIN, KUNG-LIANG , 陳冠州 , CHEN, KUAN-CHOU
IPC分类号： C23C16/455 , B05B1/20

2. 发明专利

TWI548310B 電漿處理之模組化電極裝置有权
简体标题：等离子处理之模块化电极设备
公开(公告)号：TWI548310B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW103140493
申请日：2014-11-21
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊國煇 , YANG, KUO HUI , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 張瀛方 , CHANG, YING FANG , 杜陳忠 , DU, CHEN CHUNG , 翁志強 , WENG, CHIH CHIANG
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32532 , H01J37/32568 , H05H2245/1235

3. 发明专利

TW201526993A 噴灑頭裝置审中-公开
简体标题：喷洒头设备
公开(公告)号：TW201526993A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103101476
申请日：2014-01-15
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 簡榮禎 , CHIEN, JUNG CHEN , 黃智勇 , HUANG, CHIH YUNG , 陳冠州 , CHEN, KUAN CHOU , 王慶鈞 , WANG, CHING CHIUN , 林義鈞 , LIN, YI JIUN
IPC分类号： B05B1/20 , B05B1/24
摘要：一種噴灑頭裝置包括一多孔板體，其具有一第一流道以及多個第二流道。第一流道沿著多孔板體蜿蜒分佈以供一第一流體流通。第二流道分別貫穿多孔板體並且交錯於第一流道中以供一第二流體流通，其中第一流道與第二流道互不連通，且第一流體接觸各第二流道的側壁。
简体摘要：一种喷洒头设备包括一多孔板体，其具有一第一流道以及多个第二流道。第一流道沿着多孔板体蜿蜒分布以供一第一流体流通。第二流道分别贯穿多孔板体并且交错于第一流道中以供一第二流体流通，其中第一流道与第二流道互不连通，且第一流体接触各第二流道的侧壁。

4. 发明专利

TW201520368A 大氣電漿前趨物供料裝置审中-公开
简体标题：大气等离子前趋物供料设备
公开(公告)号：TW201520368A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW102142339
申请日：2013-11-20
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊國煇 , YANG, KUO HUI , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 杜陳忠 , DU, CHEN CHUNG
IPC分类号： C23C16/513
摘要：一種大氣電漿前趨物供料裝置，包括：一電漿氣體噴嘴；一供料通道，設置於電漿氣體噴嘴之一側邊；一環形蓄壓腔室之一蓄壓區連通供料通道之出口，環形蓄壓腔室之內側壁隔離蓄壓區與一電漿產生區；以及一套筒，鄰接環形蓄壓腔室與一前趨物解離區，套筒與內側壁之一端面之間形成一錐形噴口，錐形噴口之入口連通蓄壓區，錐形噴口之出口連通電漿氣體噴嘴之一出口端的前趨物解離區。其中大氣電漿前趨物供料裝置之錐形噴口之噴口間隙可設計為固定間隙或活動間隙。如果錐形噴口之噴口間隙為固定間隙可使用固定套筒；或者錐形噴口間隙為活動間隙則使用活動套筒。
简体摘要：一种大气等离子前趋物供料设备，包括：一等离子气体喷嘴；一供料信道，设置于等离子气体喷嘴之一侧边；一环形蓄压腔室之一蓄压区连通供料信道之出口，环形蓄压腔室之内侧壁隔离蓄压区与一等离子产生区；以及一套筒，邻接环形蓄压腔室与一前趋物解离区，套筒与内侧壁之一端面之间形成一锥形喷口，锥形喷口之入口连通蓄压区，锥形喷口之出口连通等离子气体喷嘴之一出口端的前趋物解离区。其中大气等离子前趋物供料设备之锥形喷口之喷口间隙可设计为固定间隙或活动间隙。如果锥形喷口之喷口间隙为固定间隙可使用固定套筒；或者锥形喷口间隙为活动间隙则使用活动套筒。

5. 发明专利

TWI480417B 具氣幕之氣體噴灑裝置及其薄膜沉積裝置有权
简体标题：具气幕之气体喷洒设备及其薄膜沉积设备
公开(公告)号：TWI480417B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW101140760
申请日：2012-11-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：王慶鈞 , WANG, CHING CHIUN , 黃智勇 , HUANG, CHIH YUNG , 林龔樑 , LIN, KUNG LIANG , 簡榮禎 , CHIEN, JUNG CHEN , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 陳建志 , CHEN, CHIEN CHIH
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/45519

6. 发明专利

TWI480416B 大氣電漿前趨物供料裝置有权
简体标题：大气等离子前趋物供料设备
公开(公告)号：TWI480416B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW102142339
申请日：2013-11-20
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊國煇 , YANG, KUO HUI , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 杜陳忠 , DU, CHEN CHUNG
IPC分类号： C23C16/513

7. 发明专利

TWI414214B 快拆式大氣電漿產生裝置及其組裝方法有权
简体标题：快拆式大气等离子产生设备及其组装方法
公开(公告)号：TWI414214B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW097150518
申请日：2008-12-24
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 許文通 , HSU, WEN TUNG , 陳志瑋 , CHEN, CHIH WEI
IPC分类号： H05H1/34 , C30B33/12

8. 实用新型

TW572164U 隔膜閥失效
简体标题：隔膜阀
公开(公告)号：TW572164U
公开(公告)日：2004-01-11
申请号：TW091219830
申请日：2002-12-06
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林春宏 , 蔡陳德 , 吳錦清 , 何榮振 HO, JUNG CHEN , 王漢聰
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K7/16 , F16K1/425
摘要：一種隔膜閥，利用金屬碟形膜片組來控制流體之進出，此金屬碟形膜片組設置於氣體流道的上方，藉由控制設置於金屬碟形膜片組上方的中心軸，以壓迫金屬碟形膜片組與設置於氣體流道內之非金屬閥座密合，而達到阻絕氣體通過之效果；此非金屬閥座係藉由具有錐形截面的固定套環將其固定於氣體流道中，且金屬碟形膜片組中夾置於中央之金屬膜片是採中央環形之設計，以降低金屬膜片間之金屬摩擦，增加其使用次數，且降低隔膜閥之洩漏率。五、(一)、本案代表圖為：第1圖(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：10 閥體11 容置空間12 第一流道13 第二流道14 凸緣20 非金屬閥座30 金屬碟形膜片組40 中心軸50 彈簧60 壓迫塊70 螺帽80 支撐塊90 環形帽蓋
简体摘要：一种隔膜阀，利用金属碟形膜片组来控制流体之进出，此金属碟形膜片组设置于气体流道的上方，借由控制设置于金属碟形膜片组上方的中心轴，以压迫金属碟形膜片组与设置于气体流道内之非金属阀座密合，而达到阻绝气体通过之效果；此非金属阀座系借由具有锥形截面的固定套环将其固定于气体流道中，且金属碟形膜片组中夹置于中央之金属膜片是采中央环形之设计，以降低金属膜片间之金属摩擦，增加其使用次数，且降低隔膜阀之泄漏率。五、(一)、本案代表图为：第1图(二)、本案代表图之组件代表符号简单说明：10 阀体11 容置空间12 第一流道13 第二流道14 凸缘20 非金属阀座30 金属碟形膜片组40 中心轴50 弹簧60 压迫块70 螺帽80 支撑块90 环形帽盖

9. 发明专利

TWI486996B 電漿裝置及電漿裝置的操作方法有权
简体标题：等离子设备及等离子设备的操作方法
公开(公告)号：TWI486996B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW102144496
申请日：2013-12-04
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：翁志強 , WENG, CHIH CHIANG , 徐瑞美 , HSU, JUI MEI , 杜陳忠 , DU, CHEN CHUNG , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H05H1/2406 , H05H2001/2412

10. 实用新型

TWM498857U 靜電式氣體清淨機有权
简体标题：静电式气体清净机
公开(公告)号：TWM498857U
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW103221495
申请日：2014-12-04
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳建志 , CHEN, CHIEN CHIH , 張志振 , CHANG, CHIH CHEN , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 黃智勇 , HUANG, CHIH YUNG
IPC分类号： F24F3/16

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