专利号TW103140493 | 電漿處理之模組化電極裝置

专利标题：電漿處理之模組化電極裝置
专利标题（英）：MODULAR ELECTRODE DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
专利标题（中）：等离子处理之模块化电极设备
申请号：TW103140493 申请日：2014-11-21
公开(公告)号：TWI548310B 公开(公告)日：2016-09-01
发明人：楊國煇 , YANG, KUO HUI , 蔡陳德 , TSAI, CHEN DER , 張瀛方 , CHANG, YING FANG , 杜陳忠 , DU, CHEN CHUNG , 翁志強 , WENG, CHIH CHIANG
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
申请人地址：新竹縣
专利权人：財團法人工業技術研究院,INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
当前专利权人：財團法人工業技術研究院,INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
当前专利权人地址：新竹縣
代理人：林坤成; 林瑞祥
主分类号： H05H1/34
IPC分类号： H05H1/34

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H	电学
--H05	其他类目不包含的电技术
----H05H	等离子体技术（离子束管入H01J27/00；磁流体发电机入H02K44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速
------H05H1/00	等离子体的产生；等离子体的处理
--------H05H1/02	.用电场或磁场约束等离子体的装置；加热等离子体的装置
----------H05H1/26	..等离子体喷管
------------H05H1/32	...应用电弧的
--------------H05H1/34	....零部件，例如电极、喷嘴

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