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1. 发明专利

TWI320505B 增亮模組與光源裝置 BRIGHTNESS ENHANCEMENT MODULE AND THE LIGHT SOURCE APPARATUS UTILIZING THE SAME 有权
简体标题：增亮模块与光源设备 BRIGHTNESS ENHANCEMENT MODULE AND THE LIGHT SOURCE APPARATUS UTILIZING THE SAME
公开(公告)号：TWI320505B
公开(公告)日：2010-02-11
申请号：TW094129038
申请日：2005-08-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：姚柏宏 , 潘奕凱 , 黃珩春 , 孫翊庭 , 鮑友南
IPC分类号： G02F
摘要：一種增亮模組，其係包含一微結構光學調制元件與一偏光元件；該微結構光學調制元件係由可透光材料所製成且具有一第一光學面與可接收一入射光之一第二光學面，該偏光元件係面對於該第二光學面；其中該微結構光學調制元件更包含至少一微結構單元，該微結構單元係位於該第一光學面上且具有可擴散該入射光之一第一側面以及可集中該入射光之一第二側面。 A brightness enhancement module is disclosed, which comprises an optical modulation unit and a polarizer;wherein the optical modulation unit is made of a transparent material and has a first optical surface and a second optical surface for receiving an incident light, and the polarizer faces toward the second optical surface. Moreover, the optical modulation unit further comprises:at least a microstructure formed on the first optical surface, wherein each microstructure has:a first side for scattering the incident light;and a second side for collimating the incident light. 【創作特點】本發明之主要目的係提供一種增亮模組與光源裝置，其係利用於單一微結構單元上製作兩種不同形狀之側面，以達到集光與擴散的複合式光學效果，以達到有效提升光效率之目的。
本發明之次要目的係提供一種增亮模組與光源裝置，其係透過二次刀工微結構滾筒之製作並利用滾壓生產與成形來達到降低生產成本之目的。
本發明之另一目的係提供一種增亮模組與光源裝置，其係結合利用微結構所完成的複合功能光學調制元件與反射式極化片，以達到簡化背光模組中膜片的使用量以及提升光線使用效率之目的。
為達上述目的，本發明係提供一種增亮模組，其係包含一微結構光學調制元件與一偏光元件；該微結構光學調制元件係由可透光材料所製成且具有一第一光學面與可接收一入射光之一第二光學面，該偏光元件係面對於該第二光學面；其中該微結構光學調制元件更包含至少一微結構單元，該微結構單元係位於該第一光學面上且具有可擴散該入射光之一第一側面以及可集中該入射光之一第二側面。
為達上述目的，本發明更提供一種光源裝置，其係包含：一反射片；一導光板，其係位於該反射片之上；至少一光源，其係位於該導光板四周且可發射一入射光；一增亮模組，其係位於該導光板之上且包含至少一微結構光學調制元件以及一偏光元件；該至少一微結構光學調制元件係由可透光材料所製成且具有一第一光學面與可接收一入射光之一第二光學面，該偏光元件係面對於該第二光學面；其中該至少一微結構光學調制元件更包含至少一微結構單元，該微結構單元係位於該第一光學面上且具有可擴散該入射光之一第一側面以及可集中該入射光之一第二側面。
較佳地，該第一側面與該第二側面係彼此相鄰。
較佳地，該第一側面係呈弧線形。
較佳地，該第一側面之曲率半徑係在5微米~500微米之範圍內。
較佳地，該第一側面係具有非單一曲率。
較佳地，該第二側面係呈菱形，且此菱形係選擇為垂直該弧線形第一側面及不垂直該弧線形第一側面中之一者。
較佳地，該第二側面係具有一垂直高度。
較佳地，該垂直高度係在大於0微米且不大於500微米之範圍內。
較佳地，該第二光學面係為平滑光學表面。
較佳地，該第二光學面係為粗糙光學表面。
較佳地，該微結構光學調制元件係為於塑膠基板上塗佈一層紫外線成形材料，然後由微結構模仁滾壓成形，然後以紫外光照射固化者。
較佳地，該微結構光學調制元件係包含彼此相鄰之兩個微結構單元，且該等微結構單元之第一側面間係呈一夾角。
較佳地，該夾角係在30度~140度之範圍內。
較佳地，該偏光元件係為一反射式偏光片。
較佳地，該反射式偏光片所透射及反射之光線的極化方向不同。
較佳地，該反射式偏光片所透射及反射之光線皆為線性偏極光。
較佳地，該偏光元件更包含位於該反射式偏光片上之一1/4波長片。
較佳地，該反射式偏光片所透射及反射之光線皆為圓偏極光。
較佳地，該偏光元件係為複數個等間距排列之光柵單元，該光柵單元係具有一線寬以及一線高。
較佳地，該線寬係大於0奈米且小於200奈米。
較佳地，該線高係大於50奈米且小於500奈米。
較佳地，該線寬除以（該線寬加該間距）之值係為5%~95%。
較佳地，該光柵單元係由金屬所製成。
較佳地，該金屬係為鋁或銀。
較佳地，該光源裝置係包含兩微結構光學調制元件，該等微結構光學調制元件係彼此重疊且呈小於90度之交角。
較佳地，該第二光學面係為與基板一體成形之粗糙面者。
較佳地，該第二光學面係為於基板上塗佈一層粗糙面者。
為使貴審查委員對於本發明之結構、功效及其方法有更進一步之了解與認同，茲配合圖示詳細說明如后。
简体摘要：一种增亮模块，其系包含一微结构光学调制组件与一偏光组件；该微结构光学调制组件系由可透光材料所制成且具有一第一光学面与可接收一入射光之一第二光学面，该偏光组件系面对于该第二光学面；其中该微结构光学调制组件更包含至少一微结构单元，该微结构单元系位于该第一光学面上且具有可扩散该入射光之一第一侧面以及可集中该入射光之一第二侧面。 A brightness enhancement module is disclosed, which comprises an optical modulation unit and a polarizer;wherein the optical modulation unit is made of a transparent material and has a first optical surface and a second optical surface for receiving an incident light, and the polarizer faces toward the second optical surface. Moreover, the optical modulation unit further comprises:at least a microstructure formed on the first optical surface, wherein each microstructure has:a first side for scattering the incident light;and a second side for collimating the incident light. 【创作特点】本发明之主要目的系提供一种增亮模块与光源设备，其系利用於单一微结构单元上制作两种不同形状之侧面，以达到集光与扩散的复合式光学效果，以达到有效提升光效率之目的。本发明之次要目的系提供一种增亮模块与光源设备，其系透过二次刀工微结构滚筒之制作并利用滚压生产与成形来达到降低生产成本之目的。本发明之另一目的系提供一种增亮模块与光源设备，其系结合利用微结构所完成的复合功能光学调制组件与反射式极化片，以达到简化背光模块中膜片的使用量以及提升光线使用效率之目的。为达上述目的，本发明系提供一种增亮模块，其系包含一微结构光学调制组件与一偏光组件；该微结构光学调制组件系由可透光材料所制成且具有一第一光学面与可接收一入射光之一第二光学面，该偏光组件系面对于该第二光学面；其中该微结构光学调制组件更包含至少一微结构单元，该微结构单元系位于该第一光学面上且具有可扩散该入射光之一第一侧面以及可集中该入射光之一第二侧面。为达上述目的，本发明更提供一种光源设备，其系包含：一反射片；一导光板，其系位于该反射片之上；至少一光源，其系位于该导光板四周且可发射一入射光；一增亮模块，其系位于该导光板之上且包含至少一微结构光学调制组件以及一偏光组件；该至少一微结构光学调制组件系由可透光材料所制成且具有一第一光学面与可接收一入射光之一第二光学面，该偏光组件系面对于该第二光学面；其中该至少一微结构光学调制组件更包含至少一微结构单元，该微结构单元系位于该第一光学面上且具有可扩散该入射光之一第一侧面以及可集中该入射光之一第二侧面。较佳地，该第一侧面与该第二侧面系彼此相邻。较佳地，该第一侧面系呈弧线形。较佳地，该第一侧面之曲率半径系在5微米~500微米之范围内。较佳地，该第一侧面系具有非单一曲率。较佳地，该第二侧面系呈菱形，且此菱形系选择为垂直该弧线形第一侧面及不垂直该弧线形第一侧面中之一者。较佳地，该第二侧面系具有一垂直高度。较佳地，该垂直高度系在大于0微米且不大于500微米之范围内。较佳地，该第二光学面系为平滑光学表面。较佳地，该第二光学面系为粗糙光学表面。较佳地，该微结构光学调制组件系为于塑胶基板上涂布一层紫外线成形材料，然后由微结构模仁滚压成形，然后以紫外光照射固化者。较佳地，该微结构光学调制组件系包含彼此相邻之两个微结构单元，且该等微结构单元之第一侧面间系呈一夹角。较佳地，该夹角系在30度~140度之范围内。较佳地，该偏光组件系为一反射式偏光片。较佳地，该反射式偏光片所透射及反射之光线的极化方向不同。较佳地，该反射式偏光片所透射及反射之光线皆为线性偏极光。较佳地，该偏光组件更包含位于该反射式偏光片上之一1/4波长片。较佳地，该反射式偏光片所透射及反射之光线皆为圆偏极光。较佳地，该偏光组件系为复数个等间距排列之光栅单元，该光栅单元系具有一线宽以及一线高。较佳地，该线宽系大于0奈米且小于200奈米。较佳地，该线高系大于50奈米且小于500奈米。较佳地，该线宽除以（该线宽加该间距）之值系为5%~95%。较佳地，该光栅单元系由金属所制成。较佳地，该金属系为铝或银。较佳地，该光源设备系包含两微结构光学调制组件，该等微结构光学调制组件系彼此重叠且呈小于90度之交角。较佳地，该第二光学面系为与基板一体成形之粗糙面者。较佳地，该第二光学面系为于基板上涂布一层粗糙面者。为使贵审查委员对于本发明之结构、功效及其方法有更进一步之了解与认同，兹配合图标详细说明如后。

2. 发明专利

TW463217B 步進式曝光製作微透鏡結構陣列方法有权
简体标题：步进式曝光制作微透镜结构数组方法
公开(公告)号：TW463217B
公开(公告)日：2001-11-11
申请号：TW089120710
申请日：2000-10-05
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：楊詔中 , 黃珩春 , 潘正堂 , 周敏傑 , 陳世洲 , 林育生
IPC分类号： H01L
摘要：一種步進式曝光製作微透鏡結構陣列方法，係一表面塗佈有高分子材之基板，置放於一X-Y定位平台上，控制一光源透過透鏡，使得該基板之高分子材位於該透鏡投影位置之一中透鏡光場上，控制該光源透過透鏡對該基板第一位置上之高分子材進行照射，使高分子材被蝕刻而形成一微透鏡結構，停止該光源之照射，控制該X-Y定位平台使基板移動至第二位置，控制該光源透過透鏡對該基板第二位置上之高分子材進行照射，使第二位置處之高分子材被蝕刻而形成微透鏡結構，控制光源及X-Y定位平台進行步進式曝光，使得微透鏡結構在高分子材之位置與密度被控制，以完成微透鏡陣列結構。
简体摘要：一种步进式曝光制作微透镜结构数组方法，系一表面涂布有高分子材之基板，置放于一X-Y定位平台上，控制一光源透过透镜，使得该基板之高分子材位于该透镜投影位置之一中透镜光场上，控制该光源透过透镜对该基板第一位置上之高分子材进行照射，使高分子材被蚀刻而形成一微透镜结构，停止该光源之照射，控制该X-Y定位平台使基板移动至第二位置，控制该光源透过透镜对该基板第二位置上之高分子材进行照射，使第二位置处之高分子材被蚀刻而形成微透镜结构，控制光源及X-Y定位平台进行步进式曝光，使得微透镜结构在高分子材之位置与密度被控制，以完成微透镜数组结构。

3. 发明专利

TWI333572B 光源封裝結構 LIGHT SOURCE PACKAGE STRUCTURE 有权
简体标题：光源封装结构 LIGHT SOURCE PACKAGE STRUCTURE
公开(公告)号：TWI333572B
公开(公告)日：2010-11-21
申请号：TW095118691
申请日：2006-05-26
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：孫翊庭 , 姚柏宏 , 黃珩春 , 許修真
IPC分类号： G02F , H01L
CPC分类号： F21L4/027 , F21V5/008 , F21Y2115/10 , G02B19/0028 , G02B19/0061 , G02B19/0071 , H01L33/58
摘要：本發明提供一種光源封裝結構，包括：一光源容置部、一第一折射面以及至少一第二折射面。該光源容置部可提供容置一光源體。該第一折射面，其係可接收該光源體所產生之光線而形成一第一折射光，該第一折射面之上端更具有一折射結構；以及至少一第二折射面，其係可接收該第一折射光而形成一出射光離開該光源封裝結構，該第二折射面之法向量係與該光源封裝結構之中心軸成一夾角。本發明更利用前述結構衍伸出多種封裝結構以增進光偏折之效果。本發明之技術可應用作為發光二極體之封裝結構，使發光二極體所發射出之光線經過多次折射後，偏折至大角度方向，可應用在平面光源領域，以提供多元用途。
简体摘要：本发明提供一种光源封装结构，包括：一光源容置部、一第一折射面以及至少一第二折射面。该光源容置部可提供容置一光源体。该第一折射面，其系可接收该光源体所产生之光线而形成一第一折射光，该第一折射面之上端更具有一折射结构；以及至少一第二折射面，其系可接收该第一折射光而形成一出射光离开该光源封装结构，该第二折射面之法矢量系与该光源封装结构之中心轴成一夹角。本发明更利用前述结构衍伸出多种封装结构以增进光偏折之效果。本发明之技术可应用作为发光二极管之封装结构，使发光二极管所发射出之光线经过多次折射后，偏折至大角度方向，可应用在平面光源领域，以提供多元用途。

4. 发明专利

TW544438B 製造三維高深寬比微針陣列裝置之方法失效
简体标题：制造三维高深宽比微针数组设备之方法
公开(公告)号：TW544438B
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW091124911
申请日：2002-10-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：劉明岳 , 黃珩春 , 楊詔中 , 潘昆志
IPC分类号： B81C , A61M
摘要：一種製造三維高深寬比微針陣列裝置之方法，包括以下步驟：提供一基板，其上塗佈一光阻層；使用一灰階幕罩對該光阻層進行光學微影，以形成一圖案化之光阻層；以感應耦合電漿蝕刻對該基板與該圖案化之光阻層進行高選擇性蝕刻，以在該基板上轉寫成一結構；在該基板上填入一材料；以及將該結構從該基板上脫模，所得之該結構即為該三維高深寬比微針陣列裝置。
简体摘要：一种制造三维高深宽比微针数组设备之方法，包括以下步骤：提供一基板，其上涂布一光阻层；使用一灰阶幕罩对该光阻层进行光学微影，以形成一图案化之光阻层；以感应耦合等离子蚀刻对该基板与该图案化之光阻层进行高选择性蚀刻，以在该基板上转写成一结构；在该基板上填入一材料；以及将该结构从该基板上脱模，所得之该结构即为该三维高深宽比微针数组设备。

5. 发明专利

TW496973B 積體化微球透鏡之光纖對準元件失效
简体标题：积体化微球透镜之光纤对准组件
公开(公告)号：TW496973B
公开(公告)日：2002-08-01
申请号：TW090100483
申请日：2001-01-10
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：林育生 , 黃珩春 , 劉明岳 , 楊詔中 , 穆傳康 , 黃雅如
IPC分类号： G02B
摘要：一種積體化微球透鏡之光纖對準元件結構，係包括一基板，於基板上適當位置處蝕刻出複數個陣列式Ⅴ型溝槽或形成複數個陣列式光波導，經由塗覆一第一聚合層與高透光率之第二聚合層於該基板表面上，經微影製程與加熱處理，於該陣列式排列之相對Ⅴ型溝槽或光波導間形成至少一基座與球狀之微球透鏡；於該Ⅴ型溝槽內可配設光纖，於該微球透鏡、溝槽與該光纖或光波導上覆蓋一上蓋；藉由該微球透鏡與該溝槽之適當配置，使配設於該微球透鏡兩側之光纖或光波導完成對準，得到一對準元件結構；藉此可提供一種製程較為簡單，並可積體化及批次生產之光纖對準元件結構。
简体摘要：一种积体化微球透镜之光纤对准组件结构，系包括一基板，于基板上适当位置处蚀刻出复数个数组式Ⅴ型沟槽或形成复数个数组式光波导，经由涂覆一第一聚合层与高透光率之第二聚合层于该基板表面上，经微影制程与加热处理，于该数组式排列之相对Ⅴ型沟槽或光波导间形成至少一基座与球状之微球透镜；于该Ⅴ型沟槽内可配设光纤，于该微球透镜、沟槽与该光纤或光波导上覆盖一上盖；借由该微球透镜与该沟槽之适当配置，使配设于该微球透镜两侧之光纤或光波导完成对准，得到一对准组件结构；借此可提供一种制程较为简单，并可积体化及批次生产之光纤对准组件结构。

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