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    • 1. 发明专利
    • 準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程
    • 准分子激光对微球面与非球面高分子结构数组制程
    • TW499631B
    • 2002-08-21
    • TW089114486
    • 2000-07-20
    • 財團法人工業技術研究院
    • 蔡宏營潘正堂周敏傑陳世洲林育生
    • G03F
    • 一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程,藉由在以一光罩上設有預定之曲線圖案,該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時,同時將基板沿著垂直於該直線方向移動,使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到不同時間長度的照射,造成不同蝕刻深度,因而可將高分子材蝕刻成預定形狀之立體圖案。並且,藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻,可得到類球面或非球面的微陣列結構。
    • 一种准分子激光对微球面与非球面高分子结构数组制程,借由在以一光罩上设有预定之曲线图案,该曲线图案于沿一直线方向上的宽度并不是定值。当准分子激光光源透过光罩上之曲线图案照射并冲击一基板上所涂布之高分子材而使其剥离蚀刻。并且当进行照射时,同时将基板沿着垂直于该直线方向移动,使高分子材于沿着该直线方向上的不同位置处系受到不同时间长度的照射,造成不同蚀刻深度,因而可将高分子材蚀刻成预定形状之三維图案。并且,借由两次不同方向或是不同光罩图案的照射蚀刻,可得到类球面或非球面的微数组结构。
    • 2. 发明专利
    • 敲擊式近場光學顯微裝置
    • 敲击式近场光学显微设备
    • TW424155B
    • 2001-03-01
    • TW088107100
    • 1999-05-03
    • 財團法人工業技術研究院
    • 蔡定平羅士哲張雲輝陳世洲路洹瀛楊志文
    • G02B
    • G01Q10/045G01Q10/065G01Q20/04G01Q60/22
    • 一種敲擊式近場光學顯微裝置,主要包含有:一光源組件,係用以提供一光源者;一光纖探針,其一端連結於該光源組件,藉由該光源組件之光源供應,使該光纖探針之另一尖端處形成一近場之點光源者;一振盪組件,具有一壓電陶瓷及一懸臂件,其中該懸臂件一端係貼附於該光纖探針之末端者,且該壓電陶瓷則置設於懸臂件上;一訊號迴饋組件,係利用諧波訊號來驅動其振動之壓電陶瓷,使得光纖探針之振幅及相位產生改變而作一迴饋控制者。
    • 一种敲击式近场光学显微设备,主要包含有:一光源组件,系用以提供一光源者;一光纤探针,其一端链接于该光源组件,借由该光源组件之光源供应,使该光纤探针之另一尖端处形成一近场之点光源者;一振荡组件,具有一压电陶瓷及一悬臂件,其中该悬臂件一端系贴附于该光纤探针之末端者,且该压电陶瓷则置设于悬臂件上;一信号回馈组件,系利用谐波信号来驱动其振动之压电陶瓷,使得光纤探针之振幅及相位产生改变而作一回馈控制者。
    • 3. 实用新型
    • 噴氣驅動式動平衡測試裝置
    • 喷气驱动式动平衡测试设备
    • TW237957U
    • 1995-01-01
    • TW083208313
    • 1993-03-17
    • 財團法人工業技術研究院
    • 江文旺陳世洲陳昌銘
    • G01M
    • 一種噴氣驅動式動平衡測試裝置,尤指適用於測定微小轉子之動平衡量,其係將待測試件設於一含有適當長度直立邊部份之柔性支撐鋼片上,且以一設於待測試件輪緣旁之噴頭對該測試件噴射氣體使其轉動,令該測試件能透過柔性支撐鋼片之直立邊部份產生較大振動訊號,及能在消除驅動裝置本身干擾振動雜訊下,快速正確測定其不平衡量及位置。
    • 一种喷气驱动式动平衡测试设备,尤指适用于测定微小转子之动平衡量,其系将待测试件设于一含有适当长度直立边部份之柔性支撑钢片上,且以一设于待测试件轮缘旁之喷头对该测试件喷射气体使其转动,令该测试件能透过柔性支撑钢片之直立边部份产生较大振动信号,及能在消除驱动设备本身干扰振动噪声下,快速正确测定其不平衡量及位置。
    • 4. 发明专利
    • 步進式曝光製作微透鏡結構陣列方法
    • 步进式曝光制作微透镜结构数组方法
    • TW463217B
    • 2001-11-11
    • TW089120710
    • 2000-10-05
    • 財團法人工業技術研究院
    • 楊詔中黃珩春潘正堂周敏傑陳世洲林育生
    • H01L
    • 一種步進式曝光製作微透鏡結構陣列方法,係一表面塗佈有高分子材之基板,置放於一X-Y定位平台上,控制一光源透過透鏡,使得該基板之高分子材位於該透鏡投影位置之一中透鏡光場上,控制該光源透過透鏡對該基板第一位置上之高分子材進行照射,使高分子材被蝕刻而形成一微透鏡結構,停止該光源之照射,控制該X-Y定位平台使基板移動至第二位置,控制該光源透過透鏡對該基板第二位置上之高分子材進行照射,使第二位置處之高分子材被蝕刻而形成微透鏡結構,控制光源及X-Y定位平台進行步進式曝光,使得微透鏡結構在高分子材之位置與密度被控制,以完成微透鏡陣列結構。
    • 一种步进式曝光制作微透镜结构数组方法,系一表面涂布有高分子材之基板,置放于一X-Y定位平台上,控制一光源透过透镜,使得该基板之高分子材位于该透镜投影位置之一中透镜光场上,控制该光源透过透镜对该基板第一位置上之高分子材进行照射,使高分子材被蚀刻而形成一微透镜结构,停止该光源之照射,控制该X-Y定位平台使基板移动至第二位置,控制该光源透过透镜对该基板第二位置上之高分子材进行照射,使第二位置处之高分子材被蚀刻而形成微透镜结构,控制光源及X-Y定位平台进行步进式曝光,使得微透镜结构在高分子材之位置与密度被控制,以完成微透镜数组结构。
    • 6. 实用新型
    • 散熱風扇振動快速測試座
    • 散热风扇振动快速测试座
    • TW247652U
    • 1995-05-11
    • TW083214945
    • 1994-10-18
    • 財團法人工業技術研究院
    • 江文旺陳世洲
    • G01MF04B
    • 一種散熱風扇振動快速測式座,底板之中央處接有接合柱,接合柱頂端接有約略與待測散熱風扇相同面積大小之測試板,在測試板之四邊角處各有一孔,即相對於風扇座體上四角落處之通孔處,各孔接設有上小於通孔下大於通孔之圓錐柱,圓錐柱底端於陽螺紋區與螺帽鎖固在孔處,測試板中間部份相對於四角處分設通風孔,接合柱下端部有數通孔以增加接合柱之振動性,接合柱上端部設測試孔供接振動感測器,將風扇之下方通孔直接卡置入各圓錐柱中間,接通電源便朝上吹氣產生向下之反作用推力,使風扇自行緊緊的懸空固定在各圓錐柱上供測試。能將接合柱由兩條或四條彈簧取代,以加強訊號。
    • 一种散热风扇振动快速测式座,底板之中央处接有接合柱,接合柱顶端接有约略与待测散热风扇相同面积大小之测试板,在测试板之四边角处各有一孔,即相对于风扇座体上四角落处之通孔处,各孔接设有上小于通孔下大于通孔之圆锥柱,圆锥柱底端于阳螺纹区与螺帽锁固在孔处,测试板中间部份相对于四角处分设通风孔,接合柱下端部有数通孔以增加接合柱之振动性,接合柱上端部设测试孔供接振动传感器,将风扇之下方通孔直接卡置入各圆锥柱中间,接通电源便朝上吹气产生向下之反作用推力,使风扇自行紧紧的悬空固定在各圆锥柱上供测试。能将接合柱由两条或四条弹簧取代,以加强信号。
    • 7. 发明专利
    • 拋棄式反應模組
    • 抛弃式反应模块
    • TW445374B
    • 2001-07-11
    • TW087118316
    • 1998-11-04
    • 財團法人工業技術研究院
    • 賴麗惠張瑞鴻陳世洲
    • G01N
    • 本發明係有關於一種拋棄式反應模組,尤其是一種微量流體之反應模組,其整體架構中主要係包含一反應室,以及至少一試劑室可供容納試劑且與該反應室相連通,於試劑室與反應室兩者之間是設有閘門而其中設有活塞,可控制試劑與反應物之流通關係與流量。於操作時,將測驗樣品注入反應室後,依實驗需要,釋開封閉試劑室之活塞令儲存於內之試劑釋入反應室與反應物混合,以進行檢驗之工作,藉此提供一種具有高安全性、方便性、以及機動性的化學/生化檢驗工具。
    • 本发明系有关于一种抛弃式反应模块,尤其是一种微量流体之反应模块,其整体架构中主要系包含一反应室,以及至少一试剂室可供容纳试剂且与该反应室相连通,于试剂室与反应室两者之间是设有闸门而其中设有活塞,可控制试剂与反应物之流通关系与流量。于操作时,将测验样品注入反应室后,依实验需要,释开封闭试剂室之活塞令存储于内之试剂释入反应室与反应物混合,以进行检验之工作,借此提供一种具有高安全性、方便性、以及机动性的化学/生化检验工具。
    • 8. 发明专利
    • 微平面線圈製程技術
    • 微平面线圈制程技术
    • TW333660B
    • 1998-06-11
    • TW086101256
    • 1997-02-04
    • 財團法人工業技術研究院
    • 周敏傑林育生陳世洲
    • H01L
    • 一種製作微平面線圈的製程技術,係結合剝離(life- off)、曝光顯影、活性離子電漿蝕刻或準分子雷射(excimer laser)加工與電鍍等技術,在矽晶圓上製造出微平面線圈,可以應用於微馬達,電磁式致動器,微幫浦等等。微平面線圈的緻密度與纏繞圈數決定加電流後所產生的磁場大小,而此製程技術可以增加每一線圈之高度與纏繞圈數,剝離技術可以克服銅線不易蝕刻的困難,而微影技術有整批製作(batch process)的優點,可以降低成本,增加產能,高深寬比的絕緣層可以利用活性離子電漿蝕刻(RIE),或者以準分子雷射將絕緣層直接加工出,最後以電鍍技術準確的將厚度高且寬度與間隙小的微平面線圈製作完成。
    • 一种制作微平面线圈的制程技术,系结合剥离(life- off)、曝光显影、活性离子等离子蚀刻或准分子激光(excimer laser)加工与电镀等技术,在硅晶圆上制造出微平面线圈,可以应用于微马达,电磁式致动器,微帮浦等等。微平面线圈的致密度与缠绕圈数决定加电流后所产生的磁场大小,而此制程技术可以增加每一线圈之高度与缠绕圈数,剥离技术可以克服铜线不易蚀刻的困难,而微影技术有整批制作(batch process)的优点,可以降低成本,增加产能,高深宽比的绝缘层可以利用活性离子等离子蚀刻(RIE),或者以准分子激光将绝缘层直接加工出,最后以电镀技术准确的将厚度高且宽度与间隙小的微平面线圈制作完成。
    • 9. 实用新型
    • 電磁致動式微幫浦
    • 电磁致动式微帮浦
    • TW324948U
    • 1998-01-11
    • TW085217330
    • 1996-11-13
    • 財團法人工業技術研究院
    • 陳世洲
    • A61M
    • 一種電磁致動式微幫浦,以微加工技術製成,可操縱微量精確的流體,使用電磁致動方式配合無閥式進出口構成往復式的微幫浦。由平面線圈,配合軟磁鐵或永久磁鐵在同一垂直面上產生磁力作用。其構造為將線圈沉積於薄膜上構成動件,磁鐵為固定件,或線圈為固定件磁鐵為動件等,或利用兩組線圈產生往復式的動作。進出口的設計則採用擴散式/噴嘴式(Diffuser/Nozzle)元件,取代傳統的逆止閥。此種組合構成的微幫浦具有反應快速、輸入電壓小、進出口製程容易及可靠度高等優點。
    • 一种电磁致动式微帮浦,以微加工技术制成,可操纵微量精确的流体,使用电磁致动方式配合无阀式进出口构成往复式的微帮浦。由平面线圈,配合软磁铁或永久磁铁在同一垂直面上产生磁力作用。其构造为将线圈沉积于薄膜上构成动件,磁铁为固定件,或线圈为固定件磁铁为动件等,或利用两组线圈产生往复式的动作。进出口的设计则采用扩散式/喷嘴式(Diffuser/Nozzle)组件,取代传统的逆止阀。此种组合构成的微帮浦具有反应快速、输入电压小、进出口制程容易及可靠度高等优点。
    • 10. 实用新型
    • 擺動式發電裝置
    • 摆动式发电设备
    • TW288695U
    • 1996-10-11
    • TW085200932
    • 1996-01-19
    • 財團法人工業技術研究院
    • 吳東權翁振聲陳世洲陳長鈞陳瑞田
    • H02K
    • 本創作係有關一種擺動式發電裝置,該發電裝置主要包括有一底座、一線圈定子、與一不平衡配重擺動磁環轉子。其中,底座之中心形成有一轉軸孔。線圈定子係置放於該底座上,其包含有至少一層線圈基板,該線圈基板上設置有至少一個感應線圈,該感應線圈之出口端連接有一組電能引出線以輸出電能。該不平衝配重擺動磁環轉子之中心設置有一旋轉軸,該旋轉軸可套設於底座之轉軸孔上而與線圈定子保持有一間隙,而使得該轉子可與該線圈定子作旋轉擺動相對運動,該不平衝配重磁環轉子之週緣則設置有一個磁極環,該磁極環係由多磁極之永久磁性所構成。因此,當不平衡配重擺動磁環轉子作隨機擺動時,該線圈定子上之感應線圈可切割該磁極環所建立之磁力線而於該感應線圈產生出一感應電動勢。
    • 本创作系有关一种摆动式发电设备,该发电设备主要包括有一底座、一线圈定子、与一不平衡配重摆动磁环转子。其中,底座之中心形成有一转轴孔。线圈定子系置放于该底座上,其包含有至少一层线圈基板,该线圈基板上设置有至少一个感应线圈,该感应线圈之出口端连接有一组电能引出线以输出电能。该不平冲配重摆动磁环转子之中心设置有一旋转轴,该旋转轴可套设于底座之转轴孔上而与线圈定子保持有一间隙,而使得该转子可与该线圈定子作旋转摆动相对运动,该不平冲配重磁环转子之周缘则设置有一个磁极环,该磁极环系由多磁极之永久磁性所构成。因此,当不平衡配重摆动磁环转子作随机摆动时,该线圈定子上之感应线圈可切割该磁极环所创建之磁力线而于该感应线圈产生出一感应电动势。