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    • 9. 发明专利
    • 光阻圖案修整方法
    • 光阻图案修整方法
    • TW201441768A
    • 2014-11-01
    • TW102148976
    • 2013-12-30
    • 羅門哈斯電子材料有限公司ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
    • 波樂斯 葛哈德POHLERS, GERHARD徐承柏XU, CHENG-BAI羅威 凱文ROWELL, KEVIN
    • G03F7/038G03F7/039
    • G03F7/405G03F7/0397
    • 本發明係提供光阻圖案修整方法。此等方法包括(a)提供半導體基板;(b)在基板上形成光阻圖案,其中光阻圖案係由包括:包括酸不安定基之基質聚合物;光酸產生劑和溶劑之化學放大光阻組成物所形成;(c)在基板之光阻圖案上塗佈光阻修整組成物,其中該修整組成物包含:基質聚合物,無氟之芳香族酸;和溶劑;(d)加熱經塗佈之基板,因而使光阻圖案之表面區域中之光阻基質聚合物的極性改變;以及(e)使光阻圖案與清洗劑接觸以移除光阻圖案的表面區域,由而形成經修整之光阻圖案。此等方法在半導體裝置製造上發現特別的應用性。
    • 本发明系提供光阻图案修整方法。此等方法包括(a)提供半导体基板;(b)在基板上形成光阻图案,其中光阻图案系由包括:包括酸不安定基之基质聚合物;光酸产生剂和溶剂之化学放大光阻组成物所形成;(c)在基板之光阻图案上涂布光阻修整组成物,其中该修整组成物包含:基质聚合物,无氟之芳香族酸;和溶剂;(d)加热经涂布之基板,因而使光阻图案之表面区域中之光阻基质聚合物的极性改变;以及(e)使光阻图案与清洗剂接触以移除光阻图案的表面区域,由而形成经修整之光阻图案。此等方法在半导体设备制造上发现特别的应用性。