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1. 发明专利

TW201802983A 襯底熱處理裝置审中-公开
简体标题：衬底热处理设备
公开(公告)号：TW201802983A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106100637
申请日：2017-01-09
申请人：盛美半導體設備(上海)有限公司 , ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
发明人：王暉 , WANG, HUI , 楊宏超 , YANG, HONG-CHAO , 吳均 , WU, JUN , 王文軍 , WANG, WEN-JUN , 陳福平 , CHEN, FU-PING , 方志友 , FANG, ZHI-YOU
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/68785 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68742
摘要：本發明公開了一種用於熱處理襯底的襯底熱處理裝置，包括烤盤、多個支撐件、擋板和驅動裝置。烤盤設有至少一條氣體通道。多個支撐件支撐襯底。擋板安裝在烤盤的頂面，擋板包圍襯底且擋板的內壁與襯底之間形成有間隙。驅動裝置驅動該多個支撐件上升或下降。熱處理襯底時，透過烤盤的氣體通道向襯底和烤盤頂面之間的空間供入熱的氣體，熱的氣體從擋板的內壁與襯底之間的間隙流出。
简体摘要：本发明公开了一种用于热处理衬底的衬底热处理设备，包括烤盘、多个支撑件、挡板和驱动设备。烤盘设有至少一条气体信道。多个支撑件支撑衬底。挡板安装在烤盘的顶面，挡板包围衬底且挡板的内壁与衬底之间形成有间隙。驱动设备驱动该多个支撑件上升或下降。热处理衬底时，透过烤盘的气体信道向衬底和烤盘顶面之间的空间供入热的气体，热的气体从挡板的内壁与衬底之间的间隙流出。

2. 发明专利

TWI644390B 基板支撐裝置有权
简体标题：基板支撑设备
公开(公告)号：TWI644390B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW103117334
申请日：2014-05-16
申请人：大陸商盛美半導體設備(上海)有限公司 , ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
发明人：王暉 , WANG, DAVID , 陳福平 , CHEN, FUPING , 張懷東 , ZHANG, HUAIDONG , 王文軍 , WANG, WENJUN
IPC分类号： H01L21/683

3. 发明专利

TW201611903A 帶有自動清洗功能的塗膠機及塗膠機的自動清洗方法审中-公开
简体标题：带有自动清洗功能的涂胶机及涂胶机的自动清洗方法
公开(公告)号：TW201611903A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104117205
申请日：2015-05-28
申请人：盛美半導體設備(上海)有限公司 , ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
发明人：王暉 , WANG, HUI , 陳福平 , CHEN, FUPING , 王文軍 , WANG, WENJUN , 楊宏超 , YANG, HONGCHAO , V 納其 , MUCH, VOHA , 陳福發 , CHEN, FUFA , 王堅 , WANG, JIAN , 張曉燕 , ZHANG, XIAOYAN , 仰庶 , YANG, SHU
IPC分类号： B05B15/00 , B05C9/12
CPC分类号： G03F7/162 , H01L21/67086 , H01L21/6715 , H01L21/68742
摘要：本發明揭示了一種帶有自動清洗功能的塗膠機以及一種塗膠機的自動清洗方法。在一個實施例中，塗膠機包括能夠充滿清洗液的塗膠腔室，固持基板的基板卡盤，及至少一個護罩，該護罩能夠向上移動以防止光刻膠飛濺出塗膠腔室，或者向下移動並浸沒在清洗液中以進行清洗。一種塗膠機的自動清洗方法，包括以下步驟：關閉塗膠機的出液閥；使塗膠腔室充滿清洗液；待塗膠腔室內的光刻膠溶解於清洗液之後，打開塗膠機的出液閥並將清洗液排出塗膠腔室。
简体摘要：本发明揭示了一种带有自动清洗功能的涂胶机以及一种涂胶机的自动清洗方法。在一个实施例中，涂胶机包括能够充满清洗液的涂胶腔室，固持基板的基板卡盘，及至少一个护罩，该护罩能够向上移动以防止光刻胶飞溅出涂胶腔室，或者向下移动并浸没在清洗液中以进行清洗。一种涂胶机的自动清洗方法，包括以下步骤：关闭涂胶机的出液阀；使涂胶腔室充满清洗液；待涂胶腔室内的光刻胶溶解于清洗液之后，打开涂胶机的出液阀并将清洗液排出涂胶腔室。

4. 发明专利

TW201545264A 基板支撐裝置审中-公开
简体标题：基板支撑设备
公开(公告)号：TW201545264A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW103117334
申请日：2014-05-16
申请人：盛美半導體設備(上海)有限公司 , ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
发明人：王暉 , WANG, DAVID , 陳福平 , CHEN, FUPING , 張懷東 , ZHANG, HUAIDONG , 王文軍 , WANG, WENJUN
IPC分类号： H01L21/683
摘要：本發明揭示了一種用於支撐基板的基板支撐裝置，包括：夾盤、第一流量控制器、第二流量控制器、數個定位銷、數個導柱及驅動器。夾盤開設有若干第一氣孔和若干第二氣孔，若干第一氣孔與第一氣體通道連接，透過該若干第一氣孔向基板噴射氣體並利用伯努利原理吸附保持基板，若干第二氣孔與第二氣體通道連接，透過該若干第二氣孔向基板噴射氣體並吹浮起基板。第一流量控制器和第二流量控制器分別安裝在第一氣體通道和第二氣體通道內。數個定位銷和數個導柱分別佈置在夾盤的頂表面，每個導柱的底部凸伸形成支撐部。驅動器驅動夾盤旋轉。
简体摘要：本发明揭示了一种用于支撑基板的基板支撑设备，包括：夹盘、第一流量控制器、第二流量控制器、数个定位销、数个导柱及驱动器。夹盘开设有若干第一气孔和若干第二气孔，若干第一气孔与第一气体信道连接，透过该若干第一气孔向基板喷射气体并利用伯努利原理吸附保持基板，若干第二气孔与第二气体信道连接，透过该若干第二气孔向基板喷射气体并吹浮起基板。第一流量控制器和第二流量控制器分别安装在第一气体信道和第二气体信道内。数个定位销和数个导柱分别布置在夹盘的顶表面，每个导柱的底部凸伸形成支撑部。驱动器驱动夹盘旋转。

5. 发明专利

TWI689354B 帶有自動清洗功能的塗膠機及塗膠機的自動清洗方法有权
简体标题：带有自动清洗功能的涂胶机及涂胶机的自动清洗方法
公开(公告)号：TWI689354B
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：TW104117205
申请日：2015-05-28
申请人：大陸商盛美半導體設備(上海)股份有限公司 , ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
发明人：王暉 , WANG, HUI , 陳福平 , CHEN, FUPING , 王文軍 , WANG, WENJUN , 楊宏超 , YANG, HONGCHAO , V 納其 , MUCH, VOHA , 陳福發 , CHEN, FUFA , 王堅 , WANG, JIAN , 張曉燕 , ZHANG, XIAOYAN , 仰庶 , YANG, SHU
IPC分类号： B05B15/00 , B05C9/12

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