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1. 发明专利

TW201823166A 過氧化氫去除方法及裝置审中-公开
简体标题：过氧化氢去除方法及设备
公开(公告)号：TW201823166A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106132896
申请日：2017-09-26
申请人：日商栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森田博志 , MORITA, HIROSHI , 港康晴 , MINATO, YASUHARU
IPC分类号： C02F1/58 , C02F1/72 , B08B3/04 , H01L21/304 , C02F101/10
摘要：對於將含過氧化氫水朝白金系觸媒充填圓柱（21～25）通水將過氧化氫分解去除的方法及裝置，在規定時間將朝一個圓柱的通水停止，讓過氧化氫去除性能回復。在此規定時間，在將此通水停止的圓柱讓氮氣體或是氫溶解水流通也可以、將朝其他的圓柱的通水量增加也可以。
简体摘要：对于将含过氧化氢水朝白金系触媒充填圆柱（21～25）通水将过氧化氢分解去除的方法及设备，在规定时间将朝一个圆柱的通水停止，让过氧化氢去除性能回复。在此规定时间，在将此通水停止的圆柱让氮气体或是氢溶解水流通也可以、将朝其他的圆柱的通水量增加也可以。

2. 发明专利

TWI601695B 臭氧氣體溶解水之製造方法及電子材料之洗淨方法有权
简体标题：臭氧气体溶解水之制造方法及电子材料之洗净方法
公开(公告)号：TWI601695B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW102138254
申请日：2013-10-23
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床嶋裕人 , TOKOSHIMA, HIROTO , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C02F1/78 , C02F1/66 , B08B3/12
CPC分类号： H01L21/02052 , C02F1/20 , C02F1/78 , C02F2103/346

3. 发明专利

TW201730115A 金屬污染防止劑、金屬污染防止膜、金屬污染防止方法及製品洗淨方法审中-公开
简体标题：金属污染防止剂、金属污染防止膜、金属污染防止方法及制品洗净方法
公开(公告)号：TW201730115A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105130855
申请日：2016-09-23
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森田博志 , MORITA, HIROSHI , 加藤俊正 , KATO, TOSHIMASA , 星重行 , HOSHI, SHIGEYUKI
IPC分类号： C02F1/42 , B01J39/04 , B01J41/04 , B01J47/12 , B08B3/10
CPC分类号： B01J39/04 , B01J41/04 , B01J47/12 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/62 , H01L21/304
摘要：本發明係揭示可減少製品洗淨用之超純水中微量金屬的附著性，抑制洗淨對象之被金屬污染的，含有分子量10萬以上之聚苯乙烯磺酸等具有離子交換基之聚合物的金屬污染防止劑。該具有離子交換基之聚合物係以離子交換反應吸附超純水中之微量金屬而抑制附著於製品。又係揭示以添加該金屬污染防止劑之超純水洗淨製品的製品洗淨方法。較佳為使添加金屬污染防止劑之超純水通過分離膜組件，以膜透過水洗淨製品。
简体摘要：本发明系揭示可减少制品洗净用之超纯水中微量金属的附着性，抑制洗净对象之被金属污染的，含有分子量10万以上之聚苯乙烯磺酸等具有离子交换基之聚合物的金属污染防止剂。该具有离子交换基之聚合物系以离子交换反应吸附超纯水中之微量金属而抑制附着于制品。又系揭示以添加该金属污染防止剂之超纯水洗净制品的制品洗净方法。较佳为使添加金属污染防止剂之超纯水通过分离膜组件，以膜透过水洗净制品。

4. 发明专利

TWI503181B 洗淨方法有权
简体标题：洗净方法
公开(公告)号：TWI503181B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW099145532
申请日：2010-12-23
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床嶋裕人 , TOKOSHIMA, HIROTO , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： B05B7/00 , B05D1/02 , B05D5/00 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/0206 , H01L21/02052 , H01L21/67051

5. 发明专利

TWI380954B 臭氧水供給方法及臭氧水供給裝置有权
简体标题：臭氧水供给方法及臭氧水供给设备
公开(公告)号：TWI380954B
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW094105723
申请日：2005-02-25
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：福井長雄 , FUKUI, TAKEO , 井田純一 , IDA, JUNICHI , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C02F1/78
CPC分类号： C02F1/78 , B08B3/08 , B08B2203/005 , C01B13/10 , C02F1/02 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/36 , C02F1/70 , C02F1/722 , C02F2201/782 , C02F2209/23 , C03C23/0075

6. 发明专利

TWI699245B 超純水製造系統的洗淨方法有权
简体标题：超纯水制造系统的洗净方法
公开(公告)号：TWI699245B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105129662
申请日：2016-09-13
申请人：日商栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：飯野秀章 , IINO, HIDEAKI , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： B08B9/032 , B08B3/02

7. 发明专利

TW201640114A 氧化劑濃度的測定方法及測定裝置，以及電子材料洗淨裝置审中-公开
简体标题：氧化剂浓度的测定方法及测定设备，以及电子材料洗净设备
公开(公告)号：TW201640114A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105101080
申请日：2016-01-14
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森田博志 , MORITA, HIROSHI , 小川祐一 , OGAWA, YUICHI , 佐佐木友野 , SASAKI, YUYA
IPC分类号： G01N31/00 , G01N31/12 , G01N31/10 , H01L21/304
CPC分类号： G01N31/12 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B3/12 , B08B3/14 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67276
摘要：不受金屬等混入雜質影響，而簡便且穩定地準確測定電子材料的洗淨工程中使用之氧化性洗淨液中的氧化劑濃度。一種氧化劑濃度的測定方法，當測定用作為電子材料洗淨工程的洗淨液之試料液中的氧化劑濃度時，令試料液中的氧化劑的至少一部分藉由加熱等而分解，測定因氧化劑的分解而產生的氧氣之逸散量，依據該測定值來求出試料液的氧化劑濃度。
简体摘要：不受金属等混入杂质影响，而简便且稳定地准确测定电子材料的洗净工程中使用之氧化性洗净液中的氧化剂浓度。一种氧化剂浓度的测定方法，当测定用作为电子材料洗净工程的洗净液之试料液中的氧化剂浓度时，令试料液中的氧化剂的至少一部分借由加热等而分解，测定因氧化剂的分解而产生的氧气之逸散量，依据该测定值来求出试料液的氧化剂浓度。

8. 发明专利

TWI439424B 超純水製造方法及裝置以及電子零件構件類之洗淨方法及裝置有权
简体标题：超纯水制造方法及设备以及电子零件构件类之洗净方法及设备
公开(公告)号：TWI439424B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW097142860
申请日：2008-11-06
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：福井長雄 , FUKUI, TAKEO , 森部隆行 , MORIBE, TAKAYUKI , 堀田等 , HOTTA, HITOSHI , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C02F1/42 , B01J47/00 , B01J47/04 , B08B3/04
CPC分类号： C02F9/00 , B01J41/04 , B01J47/04 , B01J49/57 , C02F1/20 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/70 , C02F2001/422 , C02F2001/427 , C02F2103/04

9. 发明专利

TW201825406A 水處理裝置的運轉方法审中-公开
简体标题：水处理设备的运转方法
公开(公告)号：TW201825406A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106132183
申请日：2017-09-20
申请人：日商栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C02F1/42 , C02F1/28 , B01J47/00 , B01J49/00
摘要：一種水處理裝置的運轉方法，係將具有並列設置之複數個同種且同處理容量之水處理器的水處理裝置予以運轉的方法，且對於各水處理器通以相同之被處理水並將處理水予以採水；其特徵在於：使對於一部分之水處理器A的通水較對於其他之水處理器B為高負荷，於該水處理器A之處理水發生水質惡化的情況下，根據至該時為止之對於水處理器A的累積負荷來預測水處理器B之壽命，並基於此一預測結果，控制而後之對於各水處理器的通水量及通水時間。
简体摘要：一种水处理设备的运转方法，系将具有并列设置之复数个同种且同处理容量之水处理器的水处理设备予以运转的方法，且对于各水处理器通以相同之被处理水并将处理水予以采水；其特征在于：使对于一部分之水处理器A的通水较对于其他之水处理器B为高负荷，于该水处理器A之处理水发生水质恶化的情况下，根据至该时为止之对于水处理器A的累积负荷来预测水处理器B之寿命，并基于此一预测结果，控制而后之对于各水处理器的通水量及通水时间。

10. 发明专利

TW201431797A 臭氧氣體溶解水之製造方法及電子材料之洗淨方法审中-公开
简体标题：臭氧气体溶解水之制造方法及电子材料之洗净方法
公开(公告)号：TW201431797A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102138254
申请日：2013-10-23
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床嶋裕人 , TOKOSHIMA, HIROTO , 森田博志 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C02F1/78 , C02F1/66 , B08B3/12
CPC分类号： H01L21/02052 , C02F1/20 , C02F1/78 , C02F2103/346
摘要：製造出溶存臭氧氣體濃度高，而且氧氣在使用場所中的氣泡化被抑制的臭氧氣體溶解水。使用所製造出之臭氧氣體溶解水，迴避因氣泡所引起之洗淨不均勻或機器破損之故障而有效率地洗淨電子材料。針對將臭氧氣體及氧氣之混合氣體和脫氣處理水供給至臭氧溶解部供給，使該混合氣體溶解於該供水而製造出臭氧氣體溶解水，係將供給至臭氧溶解部之混合氣體量，控制成從假設混合氣體中之臭氧全部分解於氧之時的該混合氣體中之氧氣量，和供水之溶存氧氣濃度的合計，成為所取得之臭氧氣體溶解水之使用條件下的氧氣之飽和溶解度以下。
简体摘要：制造出溶存臭氧气体浓度高，而且氧气在使用场所中的气泡化被抑制的臭氧气体溶解水。使用所制造出之臭氧气体溶解水，回避因气泡所引起之洗净不均匀或机器破损之故障而有效率地洗净电子材料。针对将臭氧气体及氧气之混合气体和脱气处理水供给至臭氧溶解部供给，使该混合气体溶解于该供水而制造出臭氧气体溶解水，系将供给至臭氧溶解部之混合气体量，控制成从假设混合气体中之臭氧全部分解于氧之时的该混合气体中之氧气量，和供水之溶存氧气浓度的合计，成为所取得之臭氧气体溶解水之使用条件下的氧气之饱和溶解度以下。

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