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1. 发明专利

TWI399342B 含有四烷基銨離子的顯像廢液之處理方法失效
简体标题：含有四烷基铵离子的显像废液之处理方法
公开(公告)号：TWI399342B
公开(公告)日：2013-06-21
申请号：TW097115100
申请日：2008-04-24
申请人：德山股份有限公司 , TOKUYAMA CORPORATION
发明人：岩本久彦 , HISAHIKO IWAMOTO , 山下喜文 , YOSHIFUMI YAMASHITA
IPC分类号： C02F1/42
CPC分类号： C02F1/42 , B01J39/04 , B01J45/00 , C02F2101/38 , C02F2103/40

2. 发明专利

TW201323089A 四烷基銨鹽溶液的製造方法审中-公开
简体标题：四烷基铵盐溶液的制造方法
公开(公告)号：TW201323089A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101139636
申请日：2012-10-26
申请人：德山股份有限公司 , TOKUYAMA CORPORATION
发明人：渡邊淳 , WATANABE, JUN , 梅津直幸 , UMEDU, NAOYUKI , 山下喜文 , YAMASHITA, YOSHIFUMI
IPC分类号： B01J39/04 , C07C209/84 , C07C211/62 , C02F1/42
CPC分类号： B01J39/04 , B01J49/06 , C02F1/42 , C02F2001/425 , C02F2101/38 , C02F2103/40 , C07C209/84 , G03F7/322 , G03F7/425 , C07C211/63
摘要： [課題]從阻劑顯影廢液等的含有金屬離子與四烷基銨離子的溶液中有效率地去除金屬離子。[解決手段]使含有金屬離子與四烷基銨離子的溶液，與陽離子交換樹脂接觸，使該等離子吸附於該樹脂，之後藉由鹼金屬鹽溶液而溶離。監測溶離液中該鹼金屬離子濃度，經由在該鹼金屬離子濃度急遽上升之前切換回收路徑，可回收鹼金屬離子以及其他金屬離子的濃度皆低的四烷基銨鹽溶液。回收的四烷基銨鹽經電解可形成氫氧化四烷基銨。從電解時難以形成妨礙物質以及成本等觀點，上述鹼金屬鹽溶液最佳為碳酸鈉水溶液。
简体摘要： [课题]从阻剂显影废液等的含有金属离子与四烷基铵离子的溶液中有效率地去除金属离子。[解决手段]使含有金属离子与四烷基铵离子的溶液，与阳离子交换树脂接触，使该等离子吸附于该树脂，之后借由碱金属盐溶液而溶离。监测溶离液中该碱金属离子浓度，经由在该碱金属离子浓度急遽上升之前切换回收路径，可回收碱金属离子以及其他金属离子的浓度皆低的四烷基铵盐溶液。回收的四烷基铵盐经电解可形成氢氧化四烷基铵。从电解时难以形成妨碍物质以及成本等观点，上述碱金属盐溶液最佳为碳酸钠水溶液。

3. 发明专利

TW574069B 使用萊纖(Lyocell)模製品從含重金屬媒體移除重金屬的方法及吸附有重金屬的纖維質模製品及其用途失效
简体标题：使用莱纤(Lyocell)模制品从含重金属媒体移除重金属的方法及吸附有重金属的纤维质模制品及其用途
公开(公告)号：TW574069B
公开(公告)日：2004-02-01
申请号：TW091115876
申请日：2002-07-16
申请人：濟馬股份公司 ZIMMER AG
发明人：史帝芬希凱利 STEFAN ZIKELI , 湯馬士安帝爾 THOMAS ENDL
IPC分类号： B01J
CPC分类号： B01J20/28023 , A24D3/10 , A61L15/46 , A61L2300/258 , A61L2300/30 , A61L2300/404 , A61L2300/408 , B01D15/00 , B01J20/24 , B01J20/26 , B01J20/28033 , B01J39/04 , B01J2220/4825 , B01J2220/485 , C02F1/285 , C02F1/286 , C02F1/288 , C02F1/42 , C02F2101/20 , C02F2101/22 , C02F2103/06 , C02F2103/16 , C02F2103/40 , D01F2/00
摘要：本發明涉及利用萊纖模製品從含重金屬媒體中除去重金屬的方法，其上吸附有重金屬的萊纖模製品，以及該製品作為抗菌和/或殺真菌材料或作為離子交換劑材料或作為過濾材料的應用。
简体摘要：本发明涉及利用莱纤模制品从含重金属媒体中除去重金属的方法，其上吸附有重金属的莱纤模制品，以及该制品作为抗菌和/或杀真菌材料或作为离子交换剂材料或作为过滤材料的应用。

4. 发明专利

TW517073B 凝膠型共聚物珠粒及由其製得之離子交換樹脂失效
简体标题：凝胶型共聚物珠粒及由其制得之离子交换树脂
公开(公告)号：TW517073B
公开(公告)日：2003-01-11
申请号：TW088121399
申请日：1999-12-07
申请人：陶氏化學國際有限公司
发明人：詹姆斯R.史達爾布許 , 肯尼士L.佛斯特
IPC分类号： C08L
CPC分类号： B01J39/04 , B01J39/05 , B01J39/20 , C02F1/42 , Y10S210/912
摘要：本發明係揭示凝膠型共聚物珠粒，其係使用作為離子交換樹脂，諸如該等使用於發電廠冷凝水處理中者。本發明的共聚物珠粒具有一為互相貫穿的聚合物網之至少二種聚合物，其等包含有(i)一種由一包含有第一單亞乙烯單體的第一單體混合物所衍生之第一聚合物成份，該第一單亞乙烯單體具有低於50莫耳百分比之苯乙烯含量；以及(ii)一種由一包含有一第二單亞乙烯單體與一第二交聯劑的第二單體混合物所衍生之第二聚合物成份，該第二單亞乙烯單體具有大於50莫耳百分比之苯乙烯含量。該第一聚合物成份對該第二聚合物成份之交聯劑莫耳百分比比例低於約0.7。本發明亦提供製造本發明珠粒的方法與其作為用於處理水溶液之離子交換樹脂的用途。
简体摘要：本发明系揭示凝胶型共聚物珠粒，其系使用作为离子交换树脂，诸如该等使用于发电厂冷凝水处理中者。本发明的共聚物珠粒具有一为互相贯穿的聚合物网之至少二种聚合物，其等包含有(i)一种由一包含有第一单亚乙烯单体的第一单体混合物所衍生之第一聚合物成份，该第一单亚乙烯单体具有低于50莫耳百分比之苯乙烯含量；以及(ii)一种由一包含有一第二单亚乙烯单体与一第二交联剂的第二单体混合物所衍生之第二聚合物成份，该第二单亚乙烯单体具有大于50莫耳百分比之苯乙烯含量。该第一聚合物成份对该第二聚合物成份之交联剂莫耳百分比比例低于约0.7。本发明亦提供制造本发明珠粒的方法与其作为用于处理水溶液之离子交换树脂的用途。

5. 发明专利

TW487679B 高純度,穩定化羥基胺溶液之製法有权
简体标题：高纯度,稳定化羟基胺溶液之制法
公开(公告)号：TW487679B
公开(公告)日：2002-05-21
申请号：TW089115503
申请日：2000-08-02
申请人：巴地斯顏料化工廠
发明人：歐托瓦真柏格 , 漢斯喬格威芬格
IPC分类号： C01B , B01J
CPC分类号： C01B21/149 , B01J39/04 , B01J41/04 , C01B21/1481 , H05K3/26
摘要：本發明係有關製備高純度、穩定化之羥基胺溶液的方法，其中羥基胺起始水溶液係以陰離子交換劑處理，而陰離子交換劑己預負載羥基胺穩定劑用於於移除陰離子。
简体摘要：本发明系有关制备高纯度、稳定化之羟基胺溶液的方法，其中羟基胺起始水溶液系以阴离子交换剂处理，而阴离子交换剂己预负载羟基胺稳定剂用于于移除阴离子。

6. 发明专利

TW446961B 從溶劑萃取液放流水中去除放射性釷之處理方法失效
简体标题：从溶剂萃取液放流水中去除放射性钍之处理方法
公开(公告)号：TW446961B
公开(公告)日：2001-07-21
申请号：TW089116438
申请日：2000-08-15
申请人：西門斯能源股份有限公司
发明人：席尼寇格勒
IPC分类号： G21F
CPC分类号： B01J39/04 , C22B3/42 , C22B60/0291 , G21C19/46 , G21F9/12 , G21F9/125 , Y02P10/234 , Y02W30/883
摘要：此放流水係來自含有放射性釷Th-231和Th-234之溶劑萃取液。本發明係使用一種離子交換方法來去除和濃縮釷。此方法係設計成可使得釷維持在離子交換塔上，直到其衰變成鈾和釙為止。此種衰變產物係接續地為釷所替換。因此，釷將不會到達貫穿，而且此塔可連續地使用而不需要再生。
简体摘要：此放流水系来自含有放射性钍Th-231和Th-234之溶剂萃取液。本发明系使用一种离子交换方法来去除和浓缩钍。此方法系设计成可使得钍维持在离子交换塔上，直到其衰变成铀和钋为止。此种衰变产物系接续地为钍所替换。因此，钍将不会到达贯穿，而且此塔可连续地使用而不需要再生。

7. 发明专利

TW201710560A 離子交換膜审中-公开
简体标题：离子交换膜
公开(公告)号：TW201710560A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105115379
申请日：2016-05-18
申请人：旭化成股份有限公司 , ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：中島篤 , NAKAJIMA, ATSUSHI , 坂本直紀 , SAKAMOTO, NAOKI , 森川卓也 , MORIKAWA, TAKUYA
IPC分类号： C25B13/08 , B01J39/04 , B01J39/20 , B01J47/12 , B32B17/00 , C08F16/30 , C25B9/00
CPC分类号： B01J39/18 , B01J39/04 , B01J39/20 , B01J47/12 , B32B27/30 , B32B27/322 , B32B2307/732 , C08F16/30 , C08J5/2237 , C08J5/2281 , C08J2327/12 , C08J2327/18 , C08L27/18 , C25B9/00 , C25B13/08
摘要：本發明之離子交換膜具有：層A，其包含具有磺酸基之含氟聚合物；及層B，其包含具有羧酸基之含氟聚合物；並且下述電解條件下之電解後之上述層B之離子簇直徑相對於上述電解前之上述層B之離子簇直徑的比率[(上述電解後之層B之離子簇直徑)/(上述電解前之層B之離子簇直徑)]為0.83~0.95：(電解條件)於在被供給3.5當量濃度(N)之氯化鈉水溶液之陽極室與被供給10.8當量濃度(N)之氫氧化鈉水溶液之陰極室之間配置有上述離子交換膜之零間距電解槽中，於溫度為85℃、電流密度為6kA/m2之條件下進行電解7天。
简体摘要：本发明之离子交换膜具有：层A，其包含具有磺酸基之含氟聚合物；及层B，其包含具有羧酸基之含氟聚合物；并且下述电解条件下之电解后之上述层B之离子簇直径相对于上述电解前之上述层B之离子簇直径的比率[(上述电解后之层B之离子簇直径)/(上述电解前之层B之离子簇直径)]为0.83~0.95：(电解条件)于在被供给3.5当量浓度(N)之氯化钠水溶液之阳极室与被供给10.8当量浓度(N)之氢氧化钠水溶液之阴极室之间配置有上述离子交换膜之零间距电解槽中，于温度为85℃、电流密度为6kA/m2之条件下进行电解7天。

8. 发明专利

TW201509822A 四烷基銨鹽水溶液之製造方法审中-公开
简体标题：四烷基铵盐水溶液之制造方法
公开(公告)号：TW201509822A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103126019
申请日：2014-07-30
申请人：德山股份有限公司 , TOKUYAMA CORPORATION
发明人：渡邉淳 , WATANABE, JUN , 梅津直幸 , UMEZU, NAOYUKI , 山下喜文 , YAMASHITA, YOSHIFUMI
IPC分类号： C02F1/42 , B01J47/14
CPC分类号： B01J39/04 , B01J47/02 , B01J49/06 , B01J49/60
摘要：四烷基銨鹽水溶液之製造方法，其係由光阻顯影廢液製造四烷基銨鹽水溶液之方法，其含有：藉由使含有四烷基銨氫氧化物之光阻顯影廢液通液於填充有氫離子型之陽離子交換樹脂的填充塔，使四烷基銨離子吸附於陽離子交換樹脂之吸附步驟；與將於吸附步驟中所吸附之四烷基銨離子，作為四烷基銨鹽之水溶液而溶離之溶離步驟，且於吸附步驟中，測定由填充塔所排出之排出液的物性值，並且於該物性值變化為特定閥值以上的時間點，將光阻顯影廢液之通液一時中斷，進行逆洗填充塔中之陽離子交換樹脂的逆洗步驟，之後重新進行光阻顯影廢液對填充塔之通液。
简体摘要：四烷基铵盐水溶液之制造方法，其系由光阻显影废液制造四烷基铵盐水溶液之方法，其含有：借由使含有四烷基铵氢氧化物之光阻显影废液通液于填充有氢离子型之阳离子交换树脂的填充塔，使四烷基铵离子吸附于阳离子交换树脂之吸附步骤；与将于吸附步骤中所吸附之四烷基铵离子，作为四烷基铵盐之水溶液而溶离之溶离步骤，且于吸附步骤中，测定由填充塔所排出之排出液的物性值，并且于该物性值变化为特定阀值以上的时间点，将光阻显影废液之通液一时中断，进行逆洗填充塔中之阳离子交换树脂的逆洗步骤，之后重新进行光阻显影废液对填充塔之通液。

9. 发明专利

TWI406699B 吸收性過濾材料有权
简体标题：吸收性过滤材料
公开(公告)号：TWI406699B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW096123212
申请日：2007-06-27
申请人：實時控制股份有限公司 , ARTEMIS CONTROL AG
发明人：哲斯卡姆斯博士 , DR. JOST KAMES
IPC分类号： B01D53/04 , B01J47/00 , B01J47/12
CPC分类号： B01D53/02 , B01D2253/206 , B01D2258/0216 , B01J20/28045 , B01J39/04 , B01J47/018 , B01J47/04 , B01J41/05

10. 发明专利

TW201247539A 純化強酸或強酸性介質以移除二及更高價之金屬離子的方法 METHOD OF PURIFYING STRONG ACIDS OR STRONGLY ACIDIC MEDIA TO REMOVE DI- AND HIGHER VALENT METAL IONS 审中-公开
简体标题：纯化强酸或强酸性介质以移除二及更高价之金属离子的方法 METHOD OF PURIFYING STRONG ACIDS OR STRONGLY ACIDIC MEDIA TO REMOVE DI- AND HIGHER VALENT METAL IONS
公开(公告)号：TW201247539A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101105522
申请日：2012-02-20
申请人：贏創德固賽有限責任公司
发明人：潘茲克里斯汀 , 寶拉特芙洛里恩 , 提茲蓋都 , 慕勒史文 , 爾霍夫彼得 , 魯夫馬克斯 , 弗林斯波多 , 羅里德哈特威格 , 巴賽爾湯瑪斯 , 西雷穆司塔夫 , 班尼斯赫喬根
IPC分类号： C01B , B01J
CPC分类号： C01B33/128 , B01J39/04 , B01J39/16 , B01J39/18 , B01J49/53 , C01B33/193
摘要：本發明係關於一種純化強酸或強酸性介質以移除二及更高價金屬離子的方法，該方法可用在高純度矽石之製造的情況中。本發明另外係關於特殊離子交換劑於進行依照本發明之方法的用途及所得之高純度矽石。
简体摘要：本发明系关于一种纯化强酸或强酸性介质以移除二及更高价金属离子的方法，该方法可用在高纯度硅石之制造的情况中。本发明另外系关于特殊离子交换剂于进行依照本发明之方法的用途及所得之高纯度硅石。

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