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1. 发明专利

TWI483089B 流體控制裝置有权
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TWI483089B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW099105894
申请日：2010-03-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：廣瀨潤 , HIROSE, JUN , 手塚一幸 , TEZUKA, KAZUYUKI , 內田陽平 , UCHIDA, YOHEI , 小艾睦典 , KOYOMOGI, MUTSUNORI , 松田隆博 , MATSUDA, TAKAHIRO , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： C23C16/45561 , H01L21/67017 , Y10T137/0396

2. 发明专利

TW201040683A 流體控制裝置 FLUID CONTROL DEVICE 审中-公开
简体标题：流体控制设备 FLUID CONTROL DEVICE
公开(公告)号：TW201040683A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW099105894
申请日：2010-03-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , 富士金股份有限公司
发明人：廣瀨潤 , 手塚一幸 , 內田陽平 , 小艾睦典 , 松田隆博 , 土肥亮介 , 西野功二 , 池田信一
IPC分类号： G05D
CPC分类号： C23C16/45561 , H01L21/67017 , Y10T137/0396
摘要：提供一種流體控制裝置，其可節省成本，並可減少空間。流體控制裝置1具有流體控制部2及流體導入部3。流體導入部3係分成三個部分，其構成包括：配置於入口側且分別由2×N/2個開閉閥23構成之第1及第2入口側遮斷開放部5,6、及由4×M個開閉閥23構成且配置於第1及第2入口側遮斷開放部5,6與流體控制部2之間的流體控制部側遮斷開放部7。
简体摘要：提供一种流体控制设备，其可节省成本，并可减少空间。流体控制设备1具有流体控制部2及流体导入部3。流体导入部3系分成三个部分，其构成包括：配置于入口侧且分别由2×N/2个开闭阀23构成之第1及第2入口侧遮断开放部5,6、及由4×M个开闭阀23构成且配置于第1及第2入口侧遮断开放部5,6与流体控制部2之间的流体控制部侧遮断开放部7。

3. 发明专利

TW202015147A 維護裝置审中-公开
简体标题：维护设备
公开(公告)号：TW202015147A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108121060
申请日：2019-06-18
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：上田雄大 , UEDA, TAKEHIRO , 廣瀬潤 , HIROSE, JUN , 手塚一幸 , TEZUKA, KAZUYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/3065
摘要：本發明可於不使處理容器內部暴露於外部大氣之情況下簡易地進行維護。本發明之維護裝置具有外罩、及固定構件。外罩於基板處理時設為真空環境，其形成為與可分離為第1器件與第2器件之處理容器之第1器件與第2器件之交界線、或使第1器件與第2器件分離而成之開口面對應之尺寸，具有氣密性且至少一部分具有視覺透過性。固定構件將外罩沿著處理容器之第1器件與第2器件之交界線密接固定，或將外罩密接固定於使第1器件與第2器件分離而成之開口面。
简体摘要：本发明可于不使处理容器内部暴露于外部大气之情况下简易地进行维护。本发明之维护设备具有外罩、及固定构件。外罩于基板处理时设为真空环境，其形成为与可分离为第1器件与第2器件之处理容器之第1器件与第2器件之交界线、或使第1器件与第2器件分离而成之开口面对应之尺寸，具有气密性且至少一部分具有视觉透过性。固定构件将外罩沿着处理容器之第1器件与第2器件之交界线密接固定，或将外罩密接固定于使第1器件与第2器件分离而成之开口面。

4. 发明专利

TWI527081B 處理裝置有权
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TWI527081B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100143047
申请日：2011-11-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：手塚一幸 , TEZUKA, KAZUYUKI , 加藤健一 , KATO, KENICHI , 澤地淳 , SAWACHI, ATSUSHI , 菊地貴倫 , KIKUCHI, TAKAMICHI , 三村高範 , MIMURA, TAKANORI
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/306 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/45561 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/32366 , H01J37/32385 , H01J37/3244

5. 发明专利

TW201241866A 處理裝置审中-公开
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TW201241866A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW100143047
申请日：2011-11-24
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：手塚一幸 , 加藤健一 , 澤地淳 , 菊地貴倫 , 三村高範
IPC分类号： H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/45561 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/32366 , H01J37/32385 , H01J37/3244
摘要：本發明之課題在於提供一種處理裝置,無需以人工作業來進行環狀分隔壁構件之位置的變更、更換或是處理氣體流出部本身之更換,即可變更處理氣體之流出位置。本發明之處理裝置係具備有:處理氣體流出部,係對向於載置台而設置於處理室內,使得處理氣體流出於處理室;對應於被處理體面內當中之中心部分之第1空間、對應於被處理體面內當中之邊緣部分之第2空間、以及設置於第1空間與第2空間之間之至少1個第3空間,係於處理氣體流出部內經由分隔壁而相互區劃設置,且具有流出處理氣體之流出孔;以及處理氣體分配單元,係包含有連通於此等空間之處理氣體分配管、以及將鄰接之處理氣體分配管彼此間加以開閉之閥。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种处理设备,无需以人工作业来进行环状分隔壁构件之位置的变更、更换或是处理气体流出部本身之更换,即可变更处理气体之流出位置。本发明之处理设备系具备有:处理气体流出部,系对向于载置台而设置于处理室内,使得处理气体流出于处理室;对应于被处理体面内当中之中心部分之第1空间、对应于被处理体面内当中之边缘部分之第2空间、以及设置于第1空间与第2空间之间之至少1个第3空间,系于处理气体流出部内经由分隔壁而相互区划设置,且具有流出处理气体之流出孔;以及处理气体分配单元,系包含有连通于此等空间之处理气体分配管、以及将邻接之处理气体分配管彼此间加以开闭之阀。

6. 发明专利

TWI390628B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI390628B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW096109758
申请日：2007-03-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：手塚一幸 , TEZUKA, KAZUYUKI
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02 , H01J37/32431 , H01J2237/20 , H01L21/6831

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