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1. 发明专利

TW201436085A 基板處理裝置、基板裝置之運用方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板设备之运用方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201436085A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102143762
申请日：2013-11-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 須中郁雄 , SUNAKA, IKUO
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683
CPC分类号： G01N21/88 , H01L21/67265 , H01L21/67326 , H01L21/67346 , H01L21/67733 , H01L21/67772 , H01L21/67775
摘要：本發明係一種基板處理裝置，基板裝置之運用方法及記憶媒體，其課題為提供對於收納基板而為了搬入至基板處理裝置之搬送容器，檢測異常，可避免因此異常引起之損壞的技術者。其解決手段為呈具備搬入搬送容器之裝載埠，和搬入至前述裝載埠，檢測卸下蓋體之搬送容器內之基板的收納狀況之檢測部，和為了處理自搬入至前述裝載埠之搬送容器所取出之基板的處理部，和控制部地構成基板處理裝置。前述控制部係執行自搬入至裝載埠之搬送容器，將基板送出至處理部之前，檢測搬送容器內之基板的收納狀況之第1步驟，和將在前述處理部所處理之基板返回至原本的搬送容器之後，封閉蓋體之前，檢測該搬送容器內之基板的收納狀況之第2步驟，和依據前述第1步驟與第2步驟而判斷搬送容器是否異常之第3步驟。
简体摘要：本发明系一种基板处理设备，基板设备之运用方法及记忆媒体，其课题为提供对于收纳基板而为了搬入至基板处理设备之搬送容器，检测异常，可避免因此异常引起之损坏的技术者。其解决手段为呈具备搬入搬送容器之装载端口，和搬入至前述装载端口，检测卸下盖体之搬送容器内之基板的收纳状况之检测部，和为了处理自搬入至前述装载端口之搬送容器所取出之基板的处理部，和控制部地构成基板处理设备。前述控制部系运行自搬入至装载端口之搬送容器，将基板送出至处理部之前，检测搬送容器内之基板的收纳状况之第1步骤，和将在前述处理部所处理之基板返回至原本的搬送容器之后，封闭盖体之前，检测该搬送容器内之基板的收纳状况之第2步骤，和依据前述第1步骤与第2步骤而判断搬送容器是否异常之第3步骤。

2. 发明专利

TW201108350A 基板之支持裝置與方法 DEVICE AND METHOD FOR SUPPORTING A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：基板之支持设备与方法 DEVICE AND METHOD FOR SUPPORTING A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201108350A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099109620
申请日：2010-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：中野征二 , 松下道明 , 飯田成昭 , 榎木田卓 , 森川勝洋
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/68707
摘要：此處揭示一種基板支持裝置,其能夠預防由接觸基板造成的磨耗與通過基板的化學品腐蝕而可能導致基板的不適當支持。該基板支持裝置包含:具有下層表面支持段的支持構件,以支持基板的下層表面;以及設置在該下層表面支持段上的位置限制段,該位置限制段係形成以圍繞該下表面支持段所支持的基板的周圍,並限制基板的位置。至少該下表面支持段與該位置限制段的其中一個包含基底材料與保護膜,該保護膜係形成以覆蓋基底材料,並預防該基底材料將承受的磨耗與化學侵蝕的至少一種。舉例來說,該基板支持裝置更包含支持該支持構件的基座,與以相對該基座的方式移動該支持構件的驅動結構,且該基板支持裝置係建構作為一基板運送裝置。該支持構件係建構作為加熱或冷卻基板的溫度控制板。
简体摘要：此处揭示一种基板支持设备,其能够预防由接触基板造成的磨耗与通过基板的化学品腐蚀而可能导致基板的不适当支持。该基板支持设备包含:具有下层表面支持段的支持构件,以支持基板的下层表面;以及设置在该下层表面支持段上的位置限制段,该位置限制段系形成以围绕该下表面支持段所支持的基板的周围,并限制基板的位置。至少该下表面支持段与该位置限制段的其中一个包含基底材料与保护膜,该保护膜系形成以覆盖基底材料,并预防该基底材料将承受的磨耗与化学侵蚀的至少一种。举例来说,该基板支持设备更包含支持该支持构件的基座,与以相对该基座的方式移动该支持构件的驱动结构,且该基板支持设备系建构作为一基板运送设备。该支持构件系建构作为加热或冷却基板的温度控制板。

3. 发明专利

TWI596457B 基板處理裝置、位置偏移修正方法及記憶媒體有权
简体标题：基板处理设备、位置偏移修正方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI596457B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW104105460
申请日：2015-02-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：飯田成昭 , IIDA, NARUAKI , 森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO
IPC分类号： G05B19/418 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/687
CPC分类号： G05B19/4189 , G05B2219/45031 , H01L21/67766 , H01L21/681 , H01L21/68707 , Y02P90/28

4. 发明专利

TWI545672B 基板運送裝置、基板運送方法及記憶媒體有权
简体标题：基板运送设备、基板运送方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI545672B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW102146421
申请日：2013-12-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 須中郁雄 , SUNAKA, IKUO , 中野征二 , NAKANO, SEIJI , 倉富一紀 , KURATOMI, KAZUNORI , 島津利郎 , SHIMAZU, TOSHIO
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67265 , B65G2201/0297 , H01L21/67772 , H01L21/67778

5. 发明专利

TWI323924B 基板輸送裝置、基板輸送方法及塗布、顯影裝置 SUBSTRATE TRANSPORTATION DEVICE, SUBSTRATE TRANSPORTATION METHOD AND COATING-DEVELOPING APPARATUS 有权
简体标题：基板输送设备、基板输送方法及涂布、显影设备 SUBSTRATE TRANSPORTATION DEVICE, SUBSTRATE TRANSPORTATION METHOD AND COATING-DEVELOPING APPARATUS
公开(公告)号：TWI323924B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：TW095130068
申请日：2006-08-16
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：中原田雅弘 , 石田省貴 , 山本太郎 , 森川勝洋
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03D3/08 , H01L21/67126 , H01L21/68707 , Y10S414/141
摘要：本發明之課題在於提供一種基板輸送裝置，可抑制來自附著於基板背面之液滴，並能抑制液滴再附著到基板等之污染。至於本發明解決該課題之手段，係於具備輸送已浸液曝光之基板的臂部本體之基板輸送裝置中，具備以下三部份而構成基板輸送裝置：支撐部，裝設於該臂部本體，以支撐比該基板背面之邊緣較內側的部份；限制部，對著該支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，以限制該基板的邊緣之位置；液滴收容部，設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置。附著在基板背面的邊緣部份之液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反複進行基板的輸送，而液滴收容部上蓄積了液滴，但由於基板的邊緣仍不會碰著到液滴收容部，於是可抑制該液滴產生濺開而附著在基板之表面的情形。 On the substrate transportation device which has the arm body which transports the substrate which is exposed in the immersion process.
The substrate transportation device has the support part where it is set up in the arm body, and side of one on inside is supported more than the peripheral portion that can be put on the back side of substrate, the restriction part set up at position that places the peripheral portion of substrate for support part to restrict position of the peripheral portion of substrate and opposes it, the liquid receiving part set up from the back of substrate between support part and restriction part to lower position.
The liquid drop that adheres to the peripheral portion of the back of substrate can run away on the liquid receiving part.
Therefore, because the peripheral portion of substrate might not collide with the liquid receiving part even if it repeats, the substrate is transported, and the liquid drop is accumulated in the liquid receiving part, the liquid drop disperses and it is suppressed to adhere to the surface of the substrate. 【創作特點】本發明係為解決前述之問題所構成，其目的在對於輸送已浸液曝光處理後之基板時，提供基板輸送裝置、基板輸送方法，可抑制來自附著於基板背面之液滴，並能抑制液滴再附著到基板等之污染。又，本發明的其他目的在於提供塗佈、顯影裝置，藉由將前述之基板輸送裝置設置在介面，可抑制基板受自浸液曝光的污染，並避免良率下降。
本發明之特徵係於具備輸送已浸液曝光之基板的臂部本體之基板輸送裝置中，具備以下三部份：支撐部，裝設於該臂部本體，以支撐比該基板背面之邊緣較內側的部份；限制部，對著該支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，以限制該基板的邊緣之位置；液滴收容部，設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置。
就該基板輸送裝置的一例而言，可舉出以下的結構：藉由於基板被支撐部所支撐以後，具備用以將該基板之後側邊緣相對地推壓到前側的推壓機構，而基板相對地被推壓到前側，使基板的邊緣位置由於基板之前側的限制部而受到限制。而就本發明的理想樣態而言，可舉出以下的結構：於該液滴收容部設置抽吸口，用以抽吸液體；或於該液滴收容部設置將氣體噴出的氣體噴出口，用以乾燥基板之背部的邊緣部份；或於該液滴收容部設置吸水性構件等。又，該抽吸口係作為形成在臂部本體之抽吸通路的前端開口部而構成；而該氣體噴出口則作為形成在臂部本體之氣體供應通路的前端開口部而構成。此外，從支撐部往限制部看過去，該液滴收容部的底面係朝左右方向傾斜而構成，以使附著在例如該底面的液滴滑落。
至於其他之發明的特徵，於塗佈、顯影裝置中，具備處理區塊，裝有將光阻塗佈到基板之表面的塗佈單元，以及將顯影液供應到曝光後之基板，而進行顯影的顯影單元；亦具備曝光裝置，將液層形成於基板之表面，以進行浸液曝光；與連接於處理區塊和曝光裝置的介面部。而其中，該介面部具備前述之基板輸送裝置，以作為將浸液曝光後的基板加以輸送到處理區塊側之基板輸送裝置。
本發明之基板輸送方法的特徵在於使用具備以下二部份之基板輸送裝置：支撐部，支撐比基板的背面之邊緣較為內側的部份；限制部，對著前述支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，用以限制該基板的邊緣之位置。並且，包括以下兩段製程：輸送基板製程，將經過可能殘留液體在基板背面之邊緣部份之處理的基板加以輸送；抽吸製程，液滴收容部設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置，此製程則將蓄積在液滴收容部的液體加以抽吸。
該發明方法甚至亦可包含將氣體噴出到前述支撐部與限制部二者間之基板的背面，以使其乾燥的製程。此時，抽吸該液體的製程與該乾燥的製程二者亦可同時進行。又，該基板輸送方法的特徵在於包含以下兩段步驟：支撐步驟，使裝設於基板後側方的推壓機構相對地往後退，而於此狀態下，使基板由支撐部支撐；限制步驟，接著將該推壓機構相對地推出到前側方，以藉由基板之前側方的限制部，而限制基板之邊緣的位置。
本發明之基板輸送裝置由於藉由支撐部，以支撐比浸液曝光處理後之基板的背面邊緣較為內側部份，並且於支撐部以及限制該支撐部與晶圓之邊緣位置的限制部二者間，設置液滴收容部；於是，附著於基板背面之邊緣部份(邊緣或其附近)的液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反複進行基板的輸送，而液滴收容部上蓄積了液滴，但由於基板的邊緣仍不會碰著到液滴收容部，於是可抑制該液滴產生濺開而附著在基板之表面的情形。
又，於基板放置到臂部本體之上以後，若能藉由推壓機構，以將基板從後面推；再藉由前側方的限制部，以限制基板的位置，則往往可將基板放置到預定的位置，可謂能夠自動對準。藉此，可達成確實輸送基板之目的；但此時，由於基板必定會碰著到前側方的限制部，可知設置液滴收容部的效果很大。
甚且，藉由在該液滴收容部設置抽吸口，可將液滴收容部上的液滴容易地加以去除，因此可抑制液滴再附著到基板表面，或微粒由於液滴之蓄積而產生。又，藉由在該液滴收容部設置氣體噴出口，可促進去除基板之背面的液滴。又，若能在液滴收容部設置吸水性構件，由於液滴將從液滴收容部消失，實屬有效。此外，若能將前述之手段(抽吸口、氣體噴出口、吸水性構件)加以組合，將更加有效。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种基板输送设备，可抑制来自附着于基板背面之液滴，并能抑制液滴再附着到基板等之污染。至于本发明解决该课题之手段，系于具备输送已浸液曝光之基板的臂部本体之基板输送设备中，具备以下三部份而构成基板输送设备：支撑部，装设于该臂部本体，以支撑比该基板背面之边缘较内侧的部份；限制部，对着该支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，以限制该基板的边缘之位置；液滴收容部，设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置。附着在基板背面的边缘部份之液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反复进行基板的输送，而液滴收容部上蓄积了液滴，但由于基板的边缘仍不会碰着到液滴收容部，于是可抑制该液滴产生溅开而附着在基板之表面的情形。 On the substrate transportation device which has the arm body which transports the substrate which is exposed in the immersion process. The substrate transportation device has the support part where it is set up in the arm body, and side of one on inside is supported more than the peripheral portion that can be put on the back side of substrate, the restriction part set up at position that places the peripheral portion of substrate for support part to restrict position of the peripheral portion of substrate and opposes it, the liquid receiving part set up from the back of substrate between support part and restriction part to lower position. The liquid drop that adheres to the peripheral portion of the back of substrate can run away on the liquid receiving part. Therefore, because the peripheral portion of substrate might not collide with the liquid receiving part even if it repeats, the substrate is transported, and the liquid drop is accumulated in the liquid receiving part, the liquid drop disperses and it is suppressed to adhere to the surface of the substrate. 【创作特点】本发明系为解决前述之问题所构成，其目的在对于输送已浸液曝光处理后之基板时，提供基板输送设备、基板输送方法，可抑制来自附着于基板背面之液滴，并能抑制液滴再附着到基板等之污染。又，本发明的其他目的在于提供涂布、显影设备，借由将前述之基板输送设备设置在界面，可抑制基板受自浸液曝光的污染，并避免良率下降。本发明之特征系于具备输送已浸液曝光之基板的臂部本体之基板输送设备中，具备以下三部份：支撑部，装设于该臂部本体，以支撑比该基板背面之边缘较内侧的部份；限制部，对着该支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，以限制该基板的边缘之位置；液滴收容部，设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置。就该基板输送设备的一例而言，可举出以下的结构：借由于基板被支撑部所支撑以后，具备用以将该基板之后侧边缘相对地推压到前侧的推压机构，而基板相对地被推压到前侧，使基板的边缘位置由于基板之前侧的限制部而受到限制。而就本发明的理想样态而言，可举出以下的结构：于该液滴收容部设置抽吸口，用以抽吸液体；或于该液滴收容部设置将气体喷出的气体喷出口，用以干燥基板之背部的边缘部份；或于该液滴收容部设置吸水性构件等。又，该抽吸口系作为形成在臂部本体之抽吸通路的前端开口部而构成；而该气体喷出口则作为形成在臂部本体之气体供应通路的前端开口部而构成。此外，从支撑部往限制部看过去，该液滴收容部的底面系朝左右方向倾斜而构成，以使附着在例如该底面的液滴滑落。至于其他之发明的特征，于涂布、显影设备中，具备处理区块，装有将光阻涂布到基板之表面的涂布单元，以及将显影液供应到曝光后之基板，而进行显影的显影单元；亦具备曝光设备，将液层形成于基板之表面，以进行浸液曝光；与连接于处理区块和曝光设备的界面部。而其中，该界面部具备前述之基板输送设备，以作为将浸液曝光后的基板加以输送到处理区块侧之基板输送设备。本发明之基板输送方法的特征在于使用具备以下二部份之基板输送设备：支撑部，支撑比基板的背面之边缘较为内侧的部份；限制部，对着前述支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，用以限制该基板的边缘之位置。并且，包括以下两段制程：输送基板制程，将经过可能残留液体在基板背面之边缘部份之处理的基板加以输送；抽吸制程，液滴收容部设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置，此制程则将蓄积在液滴收容部的液体加以抽吸。该发明方法甚至亦可包含将气体喷出到前述支撑部与限制部二者间之基板的背面，以使其干燥的制程。此时，抽吸该液体的制程与该干燥的制程二者亦可同时进行。又，该基板输送方法的特征在于包含以下两段步骤：支撑步骤，使装设于基板后侧方的推压机构相对地往后退，而于此状态下，使基板由支撑部支撑；限制步骤，接着将该推压机构相对地推出到前侧方，以借由基板之前侧方的限制部，而限制基板之边缘的位置。本发明之基板输送设备由于借由支撑部，以支撑比浸液曝光处理后之基板的背面边缘较为内侧部份，并且于支撑部以及限制该支撑部与晶圆之边缘位置的限制部二者间，设置液滴收容部；于是，附着于基板背面之边缘部份(边缘或其附近)的液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反复进行基板的输送，而液滴收容部上蓄积了液滴，但由于基板的边缘仍不会碰着到液滴收容部，于是可抑制该液滴产生溅开而附着在基板之表面的情形。又，于基板放置到臂部本体之上以后，若能借由推压机构，以将基板从后面推；再借由前侧方的限制部，以限制基板的位置，则往往可将基板放置到预定的位置，可谓能够自动对准。借此，可达成确实输送基板之目的；但此时，由于基板必定会碰着到前侧方的限制部，可知设置液滴收容部的效果很大。甚且，借由在该液滴收容部设置抽吸口，可将液滴收容部上的液滴容易地加以去除，因此可抑制液滴再附着到基板表面，或微粒由于液滴之蓄积而产生。又，借由在该液滴收容部设置气体喷出口，可促进去除基板之背面的液滴。又，若能在液滴收容部设置吸水性构件，由于液滴将从液滴收容部消失，实属有效。此外，若能将前述之手段(抽吸口、气体喷出口、吸水性构件)加以组合，将更加有效。

6. 发明专利

TWI548576B 基板處理裝置、基板處理系統及搬送容器之異常檢出方法有权
简体标题：基板处理设备、基板处理系统及搬送容器之异常检出方法
公开(公告)号：TWI548576B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW102144285
申请日：2013-12-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 須中郁雄 , SUNAKA, IKUO , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU
IPC分类号： B65G43/08 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67772 , H01L21/67253 , H01L21/67766 , H01L21/67769 , H01L21/67775 , H01L21/67778

7. 发明专利

TW201505117A 基板搬送裝置、基板處理裝置及基板收容方法审中-公开
简体标题：基板搬送设备、基板处理设备及基板收容方法
公开(公告)号：TW201505117A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103104705
申请日：2014-02-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：村田晃 , MURATA, AKIRA , 森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 上田一成 , UEDA, ISSEI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68 , B65G49/07
摘要：對匣盒適當地收容基板。實施形態之基板搬送裝置，係具備有基板搬送部、檢測部及控制裝置。基板搬送部，係在與可收容複數片基板的匣盒之間進行基板的收授。檢測部，係檢測收容於匣盒的基板。控制裝置，係控制基板搬送部。又，控制裝置係具備搬送控制部、判定部及修正部。搬送控制部，係以對基板事先決定之目標收容位置收容基板的方式，控制基板搬送部。判定部，係藉由檢測部檢測被收容到匣盒的基板後，根據檢測部的檢測結果，判定該基板之實際的收容位置。修正部，係根據基板之實際的收容位置與目標收容位置的偏移，對作為其他基板之收容位置而事先決定的目標收容位置進行修正。
简体摘要：对匣盒适当地收容基板。实施形态之基板搬送设备，系具备有基板搬送部、检测部及控制设备。基板搬送部，系在与可收容复数片基板的匣盒之间进行基板的收授。检测部，系检测收容于匣盒的基板。控制设备，系控制基板搬送部。又，控制设备系具备搬送控制部、判定部及修正部。搬送控制部，系以对基板事先决定之目标收容位置收容基板的方式，控制基板搬送部。判定部，系借由检测部检测被收容到匣盒的基板后，根据检测部的检测结果，判定该基板之实际的收容位置。修正部，系根据基板之实际的收容位置与目标收容位置的偏移，对作为其他基板之收容位置而事先决定的目标收容位置进行修正。

8. 发明专利

TW201433528A 基板處理裝置、基板處理系統及搬送容器之異常檢出方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理系统及搬送容器之异常检出方法
公开(公告)号：TW201433528A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102144285
申请日：2013-12-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 須中郁雄 , SUNAKA, IKUO , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU
IPC分类号： B65G43/08 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67772 , H01L21/67253 , H01L21/67766 , H01L21/67769 , H01L21/67775 , H01L21/67778
摘要：本發明係一種基板處理裝置，基板處理系統及搬送容器之異常檢出方法，其課題為提供對於為了收納基板而搬入至基板處理裝置之搬送容器可提早檢出異常之技術。其解決手段為構成具備搬入有基板之搬送容器的裝載埠，和控制在前述裝載埠之操作的裝置控制器之基板處理裝置。裝置控制器係具備：記憶對應依據搬送容器之識別符號，將從外部所傳送之該搬送容器之使用次數，和為了搬入搬送容器至裝載埠而卸下蓋體所進行之操作及為了從裝載埠搬出該搬送容器所進行之操作之中至少一方的操作結果作為數值化的參數值之參數值之推移資料的記憶部，和依據伴隨搬送容器之搬入及搬出之中至少一方之前述參數值，和有關該搬送容器之前述參數值之過去的推移資料，判定該搬送容器之異常有無之判定部。
简体摘要：本发明系一种基板处理设备，基板处理系统及搬送容器之异常检出方法，其课题为提供对于为了收纳基板而搬入至基板处理设备之搬送容器可提早检出异常之技术。其解决手段为构成具备搬入有基板之搬送容器的装载端口，和控制在前述装载端口之操作的设备控制器之基板处理设备。设备控制器系具备：记忆对应依据搬送容器之标识符，将从外部所发送之该搬送容器之使用次数，和为了搬入搬送容器至装载端口而卸下盖体所进行之操作及为了从装载端口搬出该搬送容器所进行之操作之中至少一方的操作结果作为数值化的参数值之参数值之推移数据的记忆部，和依据伴随搬送容器之搬入及搬出之中至少一方之前述参数值，和有关该搬送容器之前述参数值之过去的推移数据，判定该搬送容器之异常有无之判定部。

9. 发明专利

TWI436446B 基板保持構件、基板搬運臂及基板搬運裝置有权
简体标题：基板保持构件、基板搬运臂及基板搬运设备
公开(公告)号：TWI436446B
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW099112733
申请日：2010-04-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中野征二 , NAKANO, SEIJI , 松下道明 , MATSUSHITA, MICHIAKI , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/677

10. 发明专利

TW201110265A 基板保持構件、基板搬運臂及基板搬運裝置 SUBSTRATE HOLDING MEMBER, SUBSTRATE TRANSFER ARM AND SUBSTRATE TRANSFER DEVICE 审中-公开
简体标题：基板保持构件、基板搬运臂及基板搬运设备 SUBSTRATE HOLDING MEMBER, SUBSTRATE TRANSFER ARM AND SUBSTRATE TRANSFER DEVICE
公开(公告)号：TW201110265A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099112733
申请日：2010-04-22
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：中野征二 , 松下道明 , 飯田成昭 , 榎木田卓 , 森川勝洋
IPC分类号： H01L
摘要：課題:提供具備有降低磨耗量、防止污染、提高對準度,再者防止飛出之功能的基板保持構件、基板搬運臂及基板搬運裝置。解決手段:被安裝在基板搬運裝置之基板搬運臂,載置基板之周緣而保持基板之基板保持構件(4),具有抵接於基板之背面而保持基板之背面保持部(5),和抵接於基板之端面的端面抵接部(6)。端面抵接部(6)包含具有R形狀,抵接於基板之端面而限制基板之偏移的R形狀部(8),和被設置在R形狀部(8)之上方側,形成屋簷狀之凸塊部(81)。
简体摘要：课题:提供具备有降低磨耗量、防止污染、提高对准度,再者防止飞出之功能的基板保持构件、基板搬运臂及基板搬运设备。解决手段:被安装在基板搬运设备之基板搬运臂,载置基板之周缘而保持基板之基板保持构件(4),具有抵接于基板之背面而保持基板之背面保持部(5),和抵接于基板之端面的端面抵接部(6)。端面抵接部(6)包含具有R形状,抵接于基板之端面而限制基板之偏移的R形状部(8),和被设置在R形状部(8)之上方侧,形成屋檐状之凸块部(81)。

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