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1. 发明专利

TW200421025A 光阻組成物失效
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW200421025A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW092131287
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：本發明係提供對F2激元激光等真空紫外線具有透明性，且易形成具有優良敏感度、解像度、平坦性、耐熱性等之光阻圖案的光阻組成物。該光阻組成物之特徵係含有，具有環烷基，具有1個以上該環烷基之有機基或二環烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可產生酸之產酸化合物(B)及有機溶劑(C)。
简体摘要：本发明系提供对F2激元激光等真空紫外线具有透明性，且易形成具有优良敏感度、解像度、平坦性、耐热性等之光阻图案的光阻组成物。该光阻组成物之特征系含有，具有环烷基，具有1个以上该环烷基之有机基或二环烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可产生酸之产酸化合物(B)及有机溶剂(C)。

2. 发明专利

TW200415445A 含氟聚合物审中-公开
公开(公告)号：TW200415445A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092131286
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU , 金子勇 KANEKO, ISAMU
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： C08F214/18 , C08F36/20 , C08F2/60
摘要：本發明係提供對250nm以下激發雷射(excimerlaser)之抗蝕刻材料用基質聚合物為恰當之含氟聚合物。本發明係具有下記式(3)所示含氟二烯化合物為環化聚合之單體單位的含氟聚合物。CF2＝CFCF2－C(CF3)(R^5)－CH2CH＝CH2(3)但，R^5為–CHR^7–0–R^8所嵌段化之羥基或具有該羥基之有機基，R^8表示，可具有取代基之環烷基等之環式飽和烴，具有該環式飽和烴之有機基。
简体摘要：本发明系提供对250nm以下激发激光(excimerlaser)之抗蚀刻材料用基质聚合物为恰当之含氟聚合物。本发明系具有下记式(3)所示含氟二烯化合物为环化聚合之单体单位的含氟聚合物。CF2＝CFCF2－C(CF3)(R^5)－CH2CH＝CH2(3)但，R^5为–CHR^7–0–R^8所嵌段化之羟基或具有该羟基之有机基，R^8表示，可具有取代基之环烷基等之环式饱和烃，具有该环式饱和烃之有机基。

3. 发明专利

TWI240146B 光阻用組成物失效
简体标题：光阻用组成物
公开(公告)号：TWI240146B
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：TW091102234
申请日：2002-02-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：金子勇 KANEKO, ISAMU , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , Y10T428/3154
摘要：提供給予對放射性之透明性乾蝕性優越，再者靈敏度、解析度、平坦性、耐熱性等優越的光阻圖案之化學增幅型光阻用組成物。
以具有以式(1)表示的含氟二烯已環化聚合的重複單位之含氟聚合物，且於Q上具有嵌段化酸性基之含氟聚合物(A)，接受光照射且發生酸之酸發生化合物(B)及有機溶劑(C)為特徵之光阻用組成物。 CF2=CR1-Q-CR2=CH2 (1)(惟R1，R2係各自獨立的表示氫原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Q表示二價之有機基且具有由酸顯現酸性基之嵌段化酸性基或該可轉換成嵌段化酸性基之基之有機基。)
简体摘要：提供给予对放射性之透明性干蚀性优越，再者灵敏度、分辨率、平坦性、耐热性等优越的光阻图案之化学增幅型光阻用组成物。以具有以式(1)表示的含氟二烯已环化聚合的重复单位之含氟聚合物，且于Q上具有嵌段化酸性基之含氟聚合物(A)，接受光照射且发生酸之酸发生化合物(B)及有机溶剂(C)为特征之光阻用组成物。 CF2=CR1-Q-CR2=CH2 (1)(惟R1，R2系各自独立的表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Q表示二价之有机基且具有由酸显现酸性基之嵌段化酸性基或该可转换成嵌段化酸性基之基之有机基。)

4. 发明专利

TW200530300A 透明薄膜及新穎之含氟聚合物审中-公开
简体标题：透明薄膜及新颖之含氟聚合物
公开(公告)号：TW200530300A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW093137550
申请日：2004-12-03
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：松倉郁生 MATSUKURA, IKUO , 山本弘賢 YAMAMOTO, HIROMASA , 石橋雄一郎 ISHIBASHI, YUICHIRO , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 代田直子 SHIROTA, NAOKO
IPC分类号： C08G , C07D , G03F , C08J
CPC分类号： G03F1/62 , C08G65/007 , C08G65/226 , G03F7/0046 , Y10T428/24331 , Y10T428/3154
摘要：本發明提供適合使用為透明薄膜材料等之對短波長光(振盪波長193nm之ArF準分子雷射、振盪波長157nm之F2準分子雷射)具有高度透明性與耐久性的含氟聚合物。透明膜及／或該黏著劑所使用之聚合物(I)，係由以下述單位(1)為必要成份之聚合物所成的透明薄膜；所謂單位(1)，係指形成含氟原子的聚合物主鏈之鏈，為由碳原子與醚性氧原子所成，形成該主鏈之碳原子的一個以上為形成環基之碳原子，且形成該主鏈之醚性氧原子的一個以上為不形成環基之氧原子的單位，例如以下式(A1)表示之單位(式中，n為1或2；R^F1為–F或–CF3；R^F2為–F或碳數1～5之全氟烷基。)。093137550-p01.bmp
简体摘要：本发明提供适合使用为透明薄膜材料等之对短波长光(振荡波长193nm之ArF准分子激光、振荡波长157nm之F2准分子激光)具有高度透明性与耐久性的含氟聚合物。透明膜及／或该黏着剂所使用之聚合物(I)，系由以下述单位(1)为必要成份之聚合物所成的透明薄膜；所谓单位(1)，系指形成含氟原子的聚合物主链之链，为由碳原子与醚性氧原子所成，形成该主链之碳原子的一个以上为形成环基之碳原子，且形成该主链之醚性氧原子的一个以上为不形成环基之氧原子的单位，例如以下式(A1)表示之单位(式中，n为1或2；R^F1为–F或–CF3；R^F2为–F或碳数1～5之全氟烷基。)。093137550-p01.bmp

5. 发明专利

TWI300882B 光阻組成物 RESIST COMPOSITION 失效
简体标题：光阻组成物 RESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TWI300882B
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：TW092104432
申请日：2003-03-03
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：岡田伸治 OKADA, SHINJI , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：一種光阻組成物,其包含以下各者:氟聚合物(A),
於照光之下可產生酸的酸產生化合物(B)及有機溶劑(C):
氟聚合物(A):帶有封端的酸性基團之氟聚合物,此
氟聚合物帶有由式(1)的氟化二烯之環聚合所形成的單體單
元,及由式(2)的丙烯酸單體之聚合所形成的單體單元,且
當聚合式(1)的氟化二烯與式(2)的丙烯酸單體而得到的共
聚物,不帶有封端的酸性基團時,其係藉由在該共聚物中
形成封端的酸性基團而:
CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)
其中各個R1與R2係相互獨立為氫原子、氟原子、甲基基
團或三氟甲基基團,且Q為二價有機基團,其係為能藉酸
形成酸性基團之封端酸性基團、酸性基團、或可轉化為封
端酸性基團之非酸性基團;
CH2=CR3-CO2R4(2)
其中R3為氫原子、氟原子、甲基基團或三氟甲基基團,
且R4為氫原子、烴基團、帶有酸性基團的有機基團、帶
有能藉由酸而形成酸性基團之封端酸性基團之有機基團、
或內含可轉化為封端酸性基團之非酸性基團的有機基團。
简体摘要：一种光阻组成物,其包含以下各者:氟聚合物(A), 于照光之下可产生酸的酸产生化合物(B)及有机溶剂(C): 氟聚合物(A):带有封端的酸性基团之氟聚合物,此氟聚合物带有由式(1)的氟化二烯之环聚合所形成的单体单元,及由式(2)的丙烯酸单体之聚合所形成的单体单元,且当聚合式(1)的氟化二烯与式(2)的丙烯酸单体而得到的共聚物,不带有封端的酸性基团时,其系借由在该共聚物中形成封端的酸性基团而: CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1) 其中各个R1与R2系相互独立为氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团,且Q为二价有机基团,其系为能藉酸形成酸性基团之封端酸性基团、酸性基团、或可转化为封端酸性基团之非酸性基团; CH2=CR3-CO2R4(2) 其中R3为氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团, 且R4为氢原子、烃基团、带有酸性基团的有机基团、带有能借由酸而形成酸性基团之封端酸性基团之有机基团、或内含可转化为封端酸性基团之非酸性基团的有机基团。

6. 发明专利

TWI276918B 光阻組成物失效
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI276918B
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：TW092131287
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：本發明係提供對F2準分子雷射等真空紫外線具有透明性，且易形成具有優良敏感度、解像度、平坦性、耐熱性等之光阻圖案的光阻組成物。
該光阻組成物之特徵係含有，具有環烷基，具有1個以上該環烷基之有機基或二環烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可產生酸之產酸化合物(B)及有機溶劑(C)。
简体摘要：本发明系提供对F2准分子激光等真空紫外线具有透明性，且易形成具有优良敏感度、解像度、平坦性、耐热性等之光阻图案的光阻组成物。该光阻组成物之特征系含有，具有环烷基，具有1个以上该环烷基之有机基或二环烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可产生酸之产酸化合物(B)及有机溶剂(C)。

7. 发明专利

TW200404818A 含氟化合物,含氟聚合物及其製造方法审中-公开
简体标题：含氟化合物,含氟聚合物及其制造方法
公开(公告)号：TW200404818A
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW092123051
申请日：2003-08-21
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
摘要：本發明係提供一種可取得高官能基濃度之充足的官能基特性者，且，不降低Tg之含氟聚合物者。式(1)所示官能基含有含氟二烯藉由環化聚合後形成具有單體單位之含氟聚合物。CFR^1＝CR^2–Q–CR^3＝CHR^4(1)(式中，R^1～R^4互為獨立之氫原子、氟原子、碳數8以下之烷基，或環狀脂肪族烴基，至少1個為環狀脂肪族烴基者。烷基及環狀脂肪族烴基中氫原子亦可被氟原子、烷基或氟烷基取代之。Q為2價有機基，且，藉由酸可發現酸性基之嵌段化酸性基或具有可變換呈嵌段化酸性基之有機基者。)
简体摘要：本发明系提供一种可取得高官能基浓度之充足的官能基特性者，且，不降低Tg之含氟聚合物者。式(1)所示官能基含有含氟二烯借由环化聚合后形成具有单体单位之含氟聚合物。CFR^1＝CR^2–Q–CR^3＝CHR^4(1)(式中，R^1～R^4互为独立之氢原子、氟原子、碳数8以下之烷基，或环状脂肪族烃基，至少1个为环状脂肪族烃基者。烷基及环状脂肪族烃基中氢原子亦可被氟原子、烷基或氟烷基取代之。Q为2价有机基，且，借由酸可发现酸性基之嵌段化酸性基或具有可变换呈嵌段化酸性基之有机基者。)

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