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    • 5. 发明专利
    • 光阻組成物 RESIST COMPOSITION
    • 光阻组成物 RESIST COMPOSITION
    • TWI300882B
    • 2008-09-11
    • TW092104432
    • 2003-03-03
    • 旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
    • 岡田伸治 OKADA, SHINJI川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE武部洋子 TAKEBE, YOKO金子勇 KANEKO, ISAMU兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI
    • G03F
    • G03F7/0046G03F7/0395Y10S430/115Y10S430/146
    • 一種光阻組成物,其包含以下各者:氟聚合物(A),
      於照光之下可產生酸的酸產生化合物(B)及有機溶劑(C):
      氟聚合物(A):帶有封端的酸性基團之氟聚合物,此
      氟聚合物帶有由式(1)的氟化二烯之環聚合所形成的單體單
      元,及由式(2)的丙烯酸單體之聚合所形成的單體單元,且
      當聚合式(1)的氟化二烯與式(2)的丙烯酸單體而得到的共
      聚物,不帶有封端的酸性基團時,其係藉由在該共聚物中
      形成封端的酸性基團而:
      CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)
      其中各個R1與R2係相互獨立為氫原子、氟原子、甲基基
      團或三氟甲基基團,且Q為二價有機基團,其係為能藉酸
      形成酸性基團之封端酸性基團、酸性基團、或可轉化為封
      端酸性基團之非酸性基團;
      CH2=CR3-CO2R4(2)
      其中R3為氫原子、氟原子、甲基基團或三氟甲基基團,
      且R4為氫原子、烴基團、帶有酸性基團的有機基團、帶
      有能藉由酸而形成酸性基團之封端酸性基團之有機基團、
      或內含可轉化為封端酸性基團之非酸性基團的有機基團。
    • 一种光阻组成物,其包含以下各者:氟聚合物(A), 于照光之下可产生酸的酸产生化合物(B)及有机溶剂(C): 氟聚合物(A):带有封端的酸性基团之氟聚合物,此 氟聚合物带有由式(1)的氟化二烯之环聚合所形成的单体单 元,及由式(2)的丙烯酸单体之聚合所形成的单体单元,且 当聚合式(1)的氟化二烯与式(2)的丙烯酸单体而得到的共 聚物,不带有封端的酸性基团时,其系借由在该共聚物中 形成封端的酸性基团而: CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1) 其中各个R1与R2系相互独立为氢原子、氟原子、甲基基 团或三氟甲基基团,且Q为二价有机基团,其系为能藉酸 形成酸性基团之封端酸性基团、酸性基团、或可转化为封 端酸性基团之非酸性基团; CH2=CR3-CO2R4(2) 其中R3为氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团, 且R4为氢原子、烃基团、带有酸性基团的有机基团、带 有能借由酸而形成酸性基团之封端酸性基团之有机基团、 或内含可转化为封端酸性基团之非酸性基团的有机基团。