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1. 发明专利

TWI639485B 基板保持裝置、研磨裝置、及研磨方法有权
简体标题：基板保持设备、研磨设备、及研磨方法
公开(公告)号：TWI639485B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW102100196
申请日：2013-01-04
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI, KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI, SHINGO , 山木曉 , YAMAKI, SATORU
IPC分类号： B24B37/04

2. 发明专利

TWI674171B 基板保持裝置、研磨裝置、及研磨方法有权
简体标题：基板保持设备、研磨设备、及研磨方法
公开(公告)号：TWI674171B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：TW107108374
申请日：2013-01-04
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA,MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA,HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI,KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA,OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI,SHINGO , 山木曉 , YAMAKI,SATORU
IPC分类号： B24B37/04

3. 发明专利

TWI628043B 彈性膜、基板保持裝置、及研磨裝置有权
简体标题：弹性膜、基板保持设备、及研磨设备
公开(公告)号：TWI628043B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106116286
申请日：2015-03-20
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI, KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI, SHINGO , 山木暁 , YAMAKI, SATORU , 磯野慎太郎 , ISONO, SHINTARO
IPC分类号： B24B37/30 , H01L21/304

4. 发明专利

TWI630068B 基板保持裝置及研磨裝置有权
简体标题：基板保持设备及研磨设备
公开(公告)号：TWI630068B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW104101638
申请日：2015-01-19
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 岸本雅彥 , KISHIMOTO, MASAHIKO
IPC分类号： B24B37/27

5. 发明专利

TW201819109A 基板保持裝置、研磨裝置、及研磨方法审中-公开
简体标题：基板保持设备、研磨设备、及研磨方法
公开(公告)号：TW201819109A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW107108374
申请日：2013-01-04
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA,MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA,HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI,KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA,OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI,SHINGO , 山木曉 , YAMAKI,SATORU
IPC分类号： B24B37/04
摘要：基板保持裝置係保持基板而壓住研磨墊之裝置。基板保持裝置係獨立於頂環本體而可垂直移動，其具備：內固定環，其配置為包圍基板；內壓緊機構，其相對於研磨墊之研磨面壓緊內固定環；外固定環，獨立於內固定環及頂環本體而可垂直移動；外壓緊機構，其相對於研磨面壓緊外固定環；及支持機構，其在基板之研磨中承受來自基板加諸於內固定環之橫方向之力，同時支持外固定環為可傾斜移動。
简体摘要：基板保持设备系保持基板而压住研磨垫之设备。基板保持设备系独立于顶环本体而可垂直移动，其具备：内固定环，其配置为包围基板；内压紧机构，其相对于研磨垫之研磨面压紧内固定环；外固定环，独立于内固定环及顶环本体而可垂直移动；外压紧机构，其相对于研磨面压紧外固定环；及支持机构，其在基板之研磨中承受来自基板加诸于内固定环之横方向之力，同时支持外固定环为可倾斜移动。

6. 发明专利

TW201808531A 彈性膜、基板保持裝置、及研磨裝置审中-公开
简体标题：弹性膜、基板保持设备、及研磨设备
公开(公告)号：TW201808531A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106116286
申请日：2015-03-20
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI, KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI, SHINGO , 山木暁 , YAMAKI, SATORU , 磯野慎太郎 , ISONO, SHINTARO
IPC分类号： B24B37/07 , B24B37/20 , H01L21/687
CPC分类号： B24B37/30
摘要：本發明提供一種可在晶圓邊緣部之狹窄區域精密調整研磨剖面之彈性膜。彈性膜10具備：抵接於基板之抵接部11；從抵接部11周端部延伸於上方之第一邊緣周壁10h；及具有連接於第一邊緣周壁10h之內周面101的水平部111之第二邊緣周壁10g，第一邊緣周壁10h之內周面101具有對抵接部11垂直延伸之上側內周面101a及下側內周面101b，上側內周面101a從第二邊緣周壁10g之水平部111延伸於上方，下側內周面101b從第二邊緣周壁10g之水平部111延伸於下方。
简体摘要：本发明提供一种可在晶圆边缘部之狭窄区域精密调整研磨剖面之弹性膜。弹性膜10具备：抵接于基板之抵接部11；从抵接部11周端部延伸于上方之第一边缘周壁10h；及具有连接于第一边缘周壁10h之内周面101的水平部111之第二边缘周壁10g，第一边缘周壁10h之内周面101具有对抵接部11垂直延伸之上侧内周面101a及下侧内周面101b，上侧内周面101a从第二边缘周壁10g之水平部111延伸于上方，下侧内周面101b从第二边缘周壁10g之水平部111延伸于下方。

7. 发明专利

TW201529226A 基板保持裝置及研磨裝置审中-公开
简体标题：基板保持设备及研磨设备
公开(公告)号：TW201529226A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW104101638
申请日：2015-01-19
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 岸本雅彥 , KISHIMOTO, MASAHIKO
IPC分类号： B24B37/27
CPC分类号： B24B37/32 , B24B37/107
摘要：本發明提供一種基板保持裝置及研磨裝置，該基板保持裝置具有：頂環主體(10)，該頂環主體具有對基板進行保持並將該基板按壓到研磨面上的基板保持面；以及擋環(40)，該擋環圍住基板地配置且與研磨面接觸，該基板保持裝置具有傳動環(41)，該傳動環具有：在下表面保持擋環(40)的環部件；配置在頂環主體(10)的中心部且支承於頂環主體(10)的中心部件(41C)；以及將環部件(41R)與中心部件(41C)予以連結用的連結部，傳動環(41)由第一材料和縱彈性係數比該第一材料小的第二材料構成。採用本發明，對從擋環傳遞到頂環主體的振動進行衰減，由此可減輕頂環整體的振動。
简体摘要：本发明提供一种基板保持设备及研磨设备，该基板保持设备具有：顶环主体(10)，该顶环主体具有对基板进行保持并将该基板按压到研磨面上的基板保持面；以及挡环(40)，该挡环围住基板地配置且与研磨面接触，该基板保持设备具有传动环(41)，该传动环具有：在下表面保持挡环(40)的环部件；配置在顶环主体(10)的中心部且支承于顶环主体(10)的中心部件(41C)；以及将环部件(41R)与中心部件(41C)予以链接用的链接部，传动环(41)由第一材料和纵弹性系数比该第一材料小的第二材料构成。采用本发明，对从挡环传递到顶环主体的振动进行衰减，由此可减轻顶环整体的振动。

8. 发明专利

TWI471924B 磨光方法及磨光裝置有权
简体标题：磨光方法及磨光设备
公开(公告)号：TWI471924B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW098102804
申请日：2009-01-23
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 戶川哲二 , TOGAWA, TETSUJI , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 齊藤真吾 , SAITO, SHINGO
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/04
CPC分类号： B24B37/345

9. 发明专利

TW201334917A 基板保持裝置、研磨裝置、及研磨方法审中-公开
简体标题：基板保持设备、研磨设备、及研磨方法
公开(公告)号：TW201334917A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW102100196
申请日：2013-01-04
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI, KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI, SHINGO , 山木曉 , YAMAKI, SATORU
IPC分类号： B24B37/04
CPC分类号： B24B37/32 , B24B37/04 , B24B37/042 , B24B37/30
摘要：基板保持裝置係保持基板而壓住研磨墊之裝置。基板保持裝置係獨立於頂環本體而可垂直移動，其具備：內固定環，其配置為包圍基板；內壓緊機構，其相對於研磨墊之研磨面壓緊內固定環；外固定環，獨立於內固定環及頂環本體而可垂直移動；外壓緊機構，其相對於研磨面壓緊外固定環；及支持機構，其在基板之研磨中承受來自基板加諸於內固定環之橫方向之力，同時支持外固定環為可傾斜移動。
简体摘要：基板保持设备系保持基板而压住研磨垫之设备。基板保持设备系独立于顶环本体而可垂直移动，其具备：内固定环，其配置为包围基板；内压紧机构，其相对于研磨垫之研磨面压紧内固定环；外固定环，独立于内固定环及顶环本体而可垂直移动；外压紧机构，其相对于研磨面压紧外固定环；及支持机构，其在基板之研磨中承受来自基板加诸于内固定环之横方向之力，同时支持外固定环为可倾斜移动。

10. 发明专利

TWI589396B 彈性膜、基板保持裝置、及研磨裝置有权
简体标题：弹性膜、基板保持设备、及研磨设备
公开(公告)号：TWI589396B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW104108920
申请日：2015-03-20
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：福島誠 , FUKUSHIMA, MAKOTO , 安田穗積 , YASUDA, HOZUMI , 並木計介 , NAMIKI, KEISUKE , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 富樫真吾 , TOGASHI, SHINGO , 山木暁 , YAMAKI, SATORU , 磯野慎太郎 , ISONO, SHINTARO
IPC分类号： B24B37/30 , B24B37/005 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/30

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