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1. 发明专利

TWI648387B 硏磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI648387B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW104107909
申请日：2015-03-12
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B7/20 , B28D5/00 , B24B37/00 , H01L21/304

2. 发明专利

TW201536904A 硏磨用組成物审中-公开
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TW201536904A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104107909
申请日：2015-03-12
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B7/20 , B28D5/00 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K5/20 , C09G1/04 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/30625
摘要：本發明係提供一種適於研磨具有含有IV族材料之層之研磨對象物，且可防止IV族材料溶解之研磨用組成物。本發明係一種研磨用組成物，其含有含鹵原子之氧化劑及含醯胺鍵之有機化合物。
简体摘要：本发明系提供一种适于研磨具有含有IV族材料之层之研磨对象物，且可防止IV族材料溶解之研磨用组成物。本发明系一种研磨用组成物，其含有含卤原子之氧化剂及含酰胺键之有机化合物。

3. 发明专利

TWI567181B 研磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI567181B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW101143733
申请日：2012-11-22
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：橫田周吾 , YOKOTA, SHUUGO , 大和泰之 , YAMATO, YASUYUKI , 鎗田哲 , YARITA, SATORU , 赤塚朝彥 , AKATSUKA, TOMOHIKO , 玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/8258

4. 发明专利

TWI550078B 硏磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI550078B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW102109302
申请日：2013-03-15
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI , 鎗田哲 , YARITA, SATORU
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C23F1/30 , C23F1/40 , C23F3/02 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , H01L21/3212

5. 发明专利

TWI638883B 研磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI638883B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW103132069
申请日：2014-09-17
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B28D5/00 , B24B37/00 , B24B37/04 , H01L21/304 , H01L21/3105

6. 发明专利

TWI567182B 研磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI567182B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW101143736
申请日：2012-11-22
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：橫田周吾 , YOKOTA, SHUUGO , 大和泰之 , YAMATO, YASUYUKI , 鎗田哲 , YARITA, SATORU , 赤塚朝彥 , AKATSUKA, TOMOHIKO , 玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , B24B1/00 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L29/16 , H01L29/20

7. 发明专利

TWI506128B 研磨用組成物及研磨方法有权
简体标题：研磨用组成物及研磨方法
公开(公告)号：TWI506128B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW100127926
申请日：2011-08-05
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI , 平野達彥 , HIRANO, TATSUHIKO , 梅田剛宏 , UMEDA, TAKAHIRO , 角田和也 , SUMITA, KAZUYA , 井澤由裕 , IZAWA, YOSHIHIRO
IPC分类号： C09K3/14 , C08G73/02 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212

8. 发明专利

TW201307540A 研磨用組成物及研磨方法审中-公开
简体标题：研磨用组成物及研磨方法
公开(公告)号：TW201307540A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101111060
申请日：2012-03-29
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI , 平野達彥 , HIRANO, TATSUHIKO , 井澤由裕 , IZAWA, YOSHIHIRO , 大西正吾 , ONISHI, SHOGO
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C23F3/06 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：本發明揭示一種研磨用組成物，係含有於水溶液中而在與氧化劑之共存下能使pH降低之物質、及pH緩衝劑之研磨用組成物。其特徵為：剛對此種研磨用組成物100g添加31重量%過氧化氫水5.16g後之研磨用組成物之pH、與從添加過氧化氫水並經靜置8日後之研磨用組成物之pH之差，以絕對值計，為0.5以下。又，本發明揭示一種另一研磨用組成物，係含有於水溶液中而在與氧化劑之共存下能使pH降低之物質、及pH控制劑之研磨用組成物，其特徵為：相較於剛對研磨用組成物100ml添加31重量%過氧化氫水5.16g後之研磨用組成物中的鹼性物質的量，從添加過氧化氫水並經靜置8日後之研磨用組成物中的鹼性物質的量為增加0.1mM(毫莫耳)以上。
简体摘要：本发明揭示一种研磨用组成物，系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH缓冲剂之研磨用组成物。其特征为：刚对此种研磨用组成物100g添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物之pH、与从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物之pH之差，以绝对值计，为0.5以下。又，本发明揭示一种另一研磨用组成物，系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH控制剂之研磨用组成物，其特征为：相较于刚对研磨用组成物100ml添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物中的碱性物质的量，从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物中的碱性物质的量为增加0.1mM(毫莫耳)以上。

9. 发明专利

TW201807117A 研磨用組成物及其製造方法以及磁氣研磨方法审中-公开
简体标题：研磨用组成物及其制造方法以及磁气研磨方法
公开(公告)号：TW201807117A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106110857
申请日：2017-03-30
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI , 森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 菱田翔太 , HISHIDA, SHOTA , 安井大祐 , YASUI, DAISUKE
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , B24B31/112 , B24B37/00
摘要：本發明為提供一種難以產生磁性粒子的氧化之研磨用組成物及磁氣研磨方法。研磨用組成物(1)係含有磁性粒子、與抑制磁性粒子的氧化之抗氧化劑、與水。施加磁場於此研磨用組成物(1)，形成含有磁性粒子之磁簇(Magnetic cluster)(3)，使磁簇(3)與研磨對象物(5)接觸來研磨研磨對象物(5)。
简体摘要：本发明为提供一种难以产生磁性粒子的氧化之研磨用组成物及磁气研磨方法。研磨用组成物(1)系含有磁性粒子、与抑制磁性粒子的氧化之抗氧化剂、与水。施加磁场于此研磨用组成物(1)，形成含有磁性粒子之磁簇(Magnetic cluster)(3)，使磁簇(3)与研磨对象物(5)接触来研磨研磨对象物(5)。

10. 发明专利

TWI570198B 硏磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI570198B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102112847
申请日：2013-04-11
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：玉田修一 , TAMADA, SHUICHI
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , B24B1/00 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/30625

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