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    • 8. 发明专利
    • 研磨用組成物及研磨方法
    • 研磨用组成物及研磨方法
    • TW201307540A
    • 2013-02-16
    • TW101111060
    • 2012-03-29
    • 福吉米股份有限公司FUJIMI INCORPORATED
    • 玉田修一TAMADA, SHUICHI平野達彥HIRANO, TATSUHIKO井澤由裕IZAWA, YOSHIHIRO大西正吾ONISHI, SHOGO
    • C09K3/14H01L21/304
    • C23F3/06C09G1/02C09K3/1409C09K3/1463H01L21/3212
    • 本發明揭示一種研磨用組成物,係含有於水溶液中而在與氧化劑之共存下能使pH降低之物質、及pH緩衝劑之研磨用組成物。其特徵為:剛對此種研磨用組成物100g添加31重量%過氧化氫水5.16g後之研磨用組成物之pH、與從添加過氧化氫水並經靜置8日後之研磨用組成物之pH之差,以絕對值計,為0.5以下。又,本發明揭示一種另一研磨用組成物,係含有於水溶液中而在與氧化劑之共存下能使pH降低之物質、及pH控制劑之研磨用組成物,其特徵為:相較於剛對研磨用組成物100ml添加31重量%過氧化氫水5.16g後之研磨用組成物中的鹼性物質的量,從添加過氧化氫水並經靜置8日後之研磨用組成物中的鹼性物質的量為增加0.1mM(毫莫耳)以上。
    • 本发明揭示一种研磨用组成物,系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH缓冲剂之研磨用组成物。其特征为:刚对此种研磨用组成物100g添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物之pH、与从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物之pH之差,以绝对值计,为0.5以下。又,本发明揭示一种另一研磨用组成物,系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH控制剂之研磨用组成物,其特征为:相较于刚对研磨用组成物100ml添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物中的碱性物质的量,从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物中的碱性物质的量为增加0.1mM(毫莫耳)以上。