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1. 发明专利

TW201840895A 氣體處理裝置及氣體處理方法审中-公开
简体标题：气体处理设备及气体处理方法
公开(公告)号：TW201840895A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106144524
申请日：2017-12-19
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：掛川崇 , KAKEGAWA, TAKASHI , 古屋雄一 , FURUYA, YUICHI , 鳥屋大輔 , TORIYA, DAISUKE
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/02 , H01L21/687 , H01L21/67
摘要：將處理氣體供給至基板，而在該基板面內進行高均勻性之處理。會構成一種裝置，係具備有：氣體擴散板，係將處理氣體噴出至載置台所載置之基板；複數氣體分散部，係設置於透過擴散空間來對向於該氣體擴散板上方側的對向部，並沿著周圍方向來個別形成有複數氣體噴出口；以及處理氣體流道，係上游側會成為各氣體分散部所共通之共通流道，且會在途中分歧而使下游側連接於各氣體分散部，並且從該共通流道到各氣體分散部之長度會互相一致。氣體分散部係沿著中心是分別位在擴散空間中心部周圍，且沿著擴散空間之周圍方向的複數個圓，來在1個該圓中，使得各複數個起自擴散空間之中心部的距離以不同的安排來加以配置。
简体摘要：将处理气体供给至基板，而在该基板面内进行高均匀性之处理。会构成一种设备，系具备有：气体扩散板，系将处理气体喷出至载置台所载置之基板；复数气体分散部，系设置于透过扩散空间来对向于该气体扩散板上方侧的对向部，并沿着周围方向来个别形成有复数气体喷出口；以及处理气体流道，系上游侧会成为各气体分散部所共通之共通流道，且会在途中分歧而使下游侧连接于各气体分散部，并且从该共通流道到各气体分散部之长度会互相一致。气体分散部系沿着中心是分别位在扩散空间中心部周围，且沿着扩散空间之周围方向的复数个圆，来在1个该圆中，使得各复数个起自扩散空间之中心部的距离以不同的安排来加以配置。

2. 发明专利

TWI612178B 成膜裝置有权
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TWI612178B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW103115123
申请日：2014-04-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成嶋健索 , NARUSHIMA, KENSAKU , 鳥屋大輔 , TORIYA, DAISUKE , 朝倉賢太朗 , ASAKURA, KENTARO , 村上誠志 , MURAKAMI, SEISHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/54
CPC分类号： C23C16/4408 , C23C16/34 , C23C16/4405 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/4583 , H01L21/68742 , H01L21/68792

3. 发明专利

TW201506196A 成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TW201506196A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103115123
申请日：2014-04-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成嶋健索 , NARUSHIMA, KENSAKU , 鳥屋大輔 , TORIYA, DAISUKE , 朝倉賢太朗 , ASAKURA, KENTARO , 村上誠志 , MURAKAMI, SEISHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/54
CPC分类号： C23C16/4408 , C23C16/34 , C23C16/4405 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/4583 , H01L21/68742 , H01L21/68792
摘要：提供一種容易組裝或維護等，又可抑制反應氣體進入至波紋管內的成膜裝置。在真空氛圍下供給反應氣體至基板表面而進行成膜處理的處理容器內所配置的升降軸係以從下面側支撐載置有基板之載置台的狀態下延伸於上下方向之方式加以設置，並通過處理容器上所設置的貫通口而連接至外部的升降機構。波紋管係從側方包覆升降軸周圍而將處理容器內保持在真空氛圍；蓋構件係以包圍升降軸之方式加以配置；而吹淨氣體供給部係為了透過升降軸與蓋構件間的間隙來形成流動至處理容器的氣體流，而供給吹淨氣體至該波紋管內。
简体摘要：提供一种容易组装或维护等，又可抑制反应气体进入至波纹管内的成膜设备。在真空氛围下供给反应气体至基板表面而进行成膜处理的处理容器内所配置的升降轴系以从下面侧支撑载置有基板之载置台的状态下延伸于上下方向之方式加以设置，并通过处理容器上所设置的贯通口而连接至外部的直升电梯构。波纹管系从侧方包覆升降轴周围而将处理容器内保持在真空氛围；盖构件系以包围升降轴之方式加以配置；而吹净气体供给部系为了透过升降轴与盖构件间的间隙来形成流动至处理容器的气体流，而供给吹净气体至该波纹管内。

4. 发明专利

TWI464799B 載置台構造及處理裝置有权
简体标题：载置台构造及处理设备
公开(公告)号：TWI464799B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW097101801
申请日：2008-01-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小松智仁 , KOMATSU, TOMOHITO , 山本弘彥 , YAMAMOTO, HIROHIKO , 鳥屋大輔 , TORIYA, DAISUKE
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC分类号： H01L21/67103 , C23C16/4586

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