专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201833181A 可撓性元件基板形成用組成物审中-公开
简体标题：可挠性组件基板形成用组成物
公开(公告)号：TW201833181A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106140874
申请日：2017-11-24
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：葉鎮嘉 , YE, CHENJIA , 北浩 , KITA, HIROSHI
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , C08J5/18 , H05K1/03
摘要：本發明的課題為以提供一種可撓性元件基板形成用組成物作為目的，其係給予維持所謂耐熱性優異，且遲延(Retardation)低，柔軟性優異，進而透明性亦優異之優異性能，同時作為基底薄膜具有優異性能之樹脂薄膜，該基底薄膜係藉由LLO法可輕易從玻璃載體剝離之可撓性顯示器基板等之可撓性元件基板的基底薄膜。　　本發明的解決手段為一種可撓性元件基板形成用組成物，其係包含：包含脂環式四羧酸二酐之四羧酸二酐成分、與包含含氟芳香族二胺及式(D1)表示之二胺之二胺成分的反應物之聚醯亞胺，及有機溶劑。 [式中，E表示 (式中，E1及E2互相獨立表示-CO-NH-、-NH-CO-、-O-、-S-、-SO-或-SO2-，R互相獨立表示氫原子、CH3或CF3，*表示鍵結部)]。
简体摘要：本发明的课题为以提供一种可挠性组件基板形成用组成物作为目的，其系给予维持所谓耐热性优异，且迟延(Retardation)低，柔软性优异，进而透明性亦优异之优异性能，同时作为基底薄膜具有优异性能之树脂薄膜，该基底薄膜系借由LLO法可轻易从玻璃载体剥离之可挠性显示器基板等之可挠性组件基板的基底薄膜。　　本发明的解决手段为一种可挠性组件基板形成用组成物，其系包含：包含脂环式四羧酸二酐之四羧酸二酐成分、与包含含氟芳香族二胺及式(D1)表示之二胺之二胺成分的反应物之聚酰亚胺，及有机溶剂。 [式中，E表示 (式中，E1及E2互相独立表示-CO-NH-、-NH-CO-、-O-、-S-、-SO-或-SO2-，R互相独立表示氢原子、CH3或CF3，*表示键结部)]。

2. 发明专利

TW201843134A 化合物、液晶組成物及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：化合物、液晶组成物及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201843134A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107106838
申请日：2018-03-01
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：保坂和義 , HOSAKA, KAZUYOSHI , 北浩 , KITA, HIROSHI , 三木俊 , MIKI, NORITOSHI
IPC分类号： C07C271/16 , C07C271/34 , C07C271/48 , C08F220/10 , C09K19/54 , G02F1/13 , C08G73/10 , C08G77/26 , G02F1/1337
摘要： [課題]本發明係提供一種液晶顯示元件，其特徵為液晶之垂直配向性高、良好光學的特性，即，無外加電壓時之透明性與外加電壓時之散射特性為良好，進而液晶層與液晶配向膜之密著性高，即使是長時間在高溫高濕或被曝露於光的照射之環境下，可維持該等特性。　　[解決方法]藉由將下述式[1a]之化合物，藉由用於液晶顯示元件之液晶組成物，達成本發明之目的，式中之記號之定義係如說明書記載之所述。
简体摘要： [课题]本发明系提供一种液晶显示组件，其特征为液晶之垂直配向性高、良好光学的特性，即，无外加电压时之透明性与外加电压时之散射特性为良好，进而液晶层与液晶配向膜之密着性高，即使是长时间在高温高湿或被曝露于光的照射之环境下，可维持该等特性。　　[解决方法]借由将下述式[1a]之化合物，借由用于液晶显示组件之液晶组成物，达成本发明之目的，式中之记号之定义系如说明书记载之所述。

3. 发明专利

TW201843297A 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201843297A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107112824
申请日：2018-04-13
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：北浩 , KITA, HIROSHI , 結城達也 , YUKI, TATSUYA
IPC分类号： C09K19/56 , C08G73/10 , C07D207/452 , C07D403/04 , G02F1/1337 , G02F1/13
摘要：一種液晶配向劑，其係含有由具有下述式(1)所示構造之二胺所得之聚合物。 R1表示氫原子、碳數1～5之直鏈或可分枝之烷基或芳基，於相同馬來醯亞胺環上之2個R1可互為相同亦可為相異，2個R1亦可一同形成碳數3～6之伸烷基，W2表示2價有機基，W1表示單鍵或羰基，L1表示選自碳數1～20之直鏈狀伸烷基、碳數3～20之分枝狀伸烷基、碳數3～20之環狀伸烷基、伸苯基及雜環基之二價基，或該二價基複數鍵結而成之基，伸苯基及雜環基係各自獨立亦可被選自烷基、烷氧基、鹵烷基、鹵烷氧基、鹵素基及氰基之相同或相異之1個或複數取代基所取代，該二價基彼此之鍵結為選自單鍵、酯鍵、醯胺鍵、脲鍵、醚鍵、硫醚鍵、胺基鍵及羰基之至少一種，該二價基為複數時，二價基彼此可為相同亦可為相異，上述鍵結為複數時，鍵結彼此可為相同亦可為相異，R表示氫原子或一價有機基，2個R可互為相異，2個R亦可一同形成碳數1～6之伸烷基，2個R之兩者或任一者亦可鍵結於L1。
简体摘要：一种液晶配向剂，其系含有由具有下述式(1)所示构造之二胺所得之聚合物。 R1表示氢原子、碳数1～5之直链或可分枝之烷基或芳基，于相同马来酰亚胺环上之2个R1可互为相同亦可为相异，2个R1亦可一同形成碳数3～6之伸烷基，W2表示2价有机基，W1表示单键或羰基，L1表示选自碳数1～20之直链状伸烷基、碳数3～20之分枝状伸烷基、碳数3～20之环状伸烷基、伸苯基及杂环基之二价基，或该二价基复数键结而成之基，伸苯基及杂环基系各自独立亦可被选自烷基、烷氧基、卤烷基、卤烷氧基、卤素基及氰基之相同或相异之1个或复数取代基所取代，该二价基彼此之键结为选自单键、酯键、酰胺键、脲键、醚键、硫醚键、胺基键及羰基之至少一种，该二价基为复数时，二价基彼此可为相同亦可为相异，上述键结为复数时，键结彼此可为相同亦可为相异，R表示氢原子或一价有机基，2个R可互为相异，2个R亦可一同形成碳数1～6之伸烷基，2个R之两者或任一者亦可键结于L1。

4. 发明专利

TW201833082A 新穎聚合物及二胺化合物、液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：新颖聚合物及二胺化合物、液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201833082A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106145940
申请日：2017-12-27
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：北浩 , KITA, HIROSHI , 結城達也 , YUKI, TATSUYA
IPC分类号： C07D207/40 , C08G73/10 , G02F1/1337
摘要：本發明為一種下述式(1)表示之二胺化合物之製造方法、下述式(1)表示之二胺及由其所得之聚合物、含有該聚合物之液晶配向劑，該製造方法係包含：使下述式(A)表示之雙馬來醯亞胺化合物、與在下述式(B)表示之化合物P1為胺基之二胺基化合物進行反應，或與在下述式(B)表示之化合物P1為硝基之硝基胺基化合物進行反應之步驟。 R表示氫原子或一價之有機基，R1表示氫原子、C1至C5之可成為直鏈或分支之烷基、芳基，同樣於馬來醯亞胺環上有2個R1可彼此相同，亦可彼此相異，2個R1可一起形成C3至C6之伸烷基，W1表示單鍵或2價之有機基，W2表示2價之有機基，Ar1表示芳香族環，L1表示碳原子數1～20之伸烷基。
简体摘要：本发明为一种下述式(1)表示之二胺化合物之制造方法、下述式(1)表示之二胺及由其所得之聚合物、含有该聚合物之液晶配向剂，该制造方法系包含：使下述式(A)表示之双马来酰亚胺化合物、与在下述式(B)表示之化合物P1为胺基之二胺基化合物进行反应，或与在下述式(B)表示之化合物P1为硝基之硝基胺基化合物进行反应之步骤。 R表示氢原子或一价之有机基，R1表示氢原子、C1至C5之可成为直链或分支之烷基、芳基，同样于马来酰亚胺环上有2个R1可彼此相同，亦可彼此相异，2个R1可一起形成C3至C6之伸烷基，W1表示单键或2价之有机基，W2表示2价之有机基，Ar1表示芳香族环，L1表示碳原子数1～20之伸烷基。

5. 发明专利

TW201831563A 可撓性元件基板形成用組成物审中-公开
简体标题：可挠性组件基板形成用组成物
公开(公告)号：TW201831563A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106140869
申请日：2017-11-24
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：葉鎮嘉 , YE, CHENJIA , 北浩 , KITA, HIROSHI
IPC分类号： C08G73/10 , C07D307/89 , C07C211/52 , C08J5/18 , H05K1/03
摘要：本發明的課題為提供一種可撓性元件基板形成用組成物作為目的，其係維持耐熱性優異，且遲延(Retardation)低，柔軟性優異，進而透明性亦優異之優異性能，同時給予作為基底薄膜亦具有優異性能之樹脂薄膜，該基底薄膜係藉由LLO法可輕易從玻璃載體剝離之可撓性顯示器基板等之可撓性元件基板的基底薄膜。　　本發明的解決手段為一種可撓性元件基板形成用組成物，其係包含：包含脂環式四羧酸二酐及式(D1)表示之芳香族四羧酸二酐之四羧酸二酐成分、與包含含氟芳香族二胺之二胺成分的反應物之聚醯亞胺及有機溶劑。(式中，E係表示單鍵、羰基、氧原子、硫原子、SO或SO2)。
简体摘要：本发明的课题为提供一种可挠性组件基板形成用组成物作为目的，其系维持耐热性优异，且迟延(Retardation)低，柔软性优异，进而透明性亦优异之优异性能，同时给予作为基底薄膜亦具有优异性能之树脂薄膜，该基底薄膜系借由LLO法可轻易从玻璃载体剥离之可挠性显示器基板等之可挠性组件基板的基底薄膜。　　本发明的解决手段为一种可挠性组件基板形成用组成物，其系包含：包含脂环式四羧酸二酐及式(D1)表示之芳香族四羧酸二酐之四羧酸二酐成分、与包含含氟芳香族二胺之二胺成分的反应物之聚酰亚胺及有机溶剂。(式中，E系表示单键、羰基、氧原子、硫原子、SO或SO2)。

6. 发明专利

TWI572642B 含矽烷醇基的聚矽氧烷溶液之安定化方法、安定化的含矽烷醇基的聚矽氧烷溶液之製造方法及安定化的含矽烷醇基的聚矽氧烷溶液有权
简体标题：含硅烷醇基的聚硅氧烷溶液之安定化方法、安定化的含硅烷醇基的聚硅氧烷溶液之制造方法及安定化的含硅烷醇基的聚硅氧烷溶液
公开(公告)号：TWI572642B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW101140140
申请日：2012-10-30
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：高瀬顕司 , TAKASE, KENJI , 北浩 , KITA, HIROSHI
IPC分类号： C08G77/32 , C08G77/16 , B01J47/00
CPC分类号： C08L83/06 , C08G77/16 , C08G77/32 , C08K5/05 , C08K5/06 , C08L25/18 , C08L83/04 , C08L101/02

7. 发明专利

TW201739838A 可撓性元件基板形成用組成物审中-公开
简体标题：可挠性组件基板形成用组成物
公开(公告)号：TW201739838A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106100500
申请日：2017-01-06
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：小山欣也 , KOYAMA, YOSHINARI , 北浩 , KITA, HIROSHI , 葉鎮嘉 , YE, CHENJIA , 何邦慶 , HO, BANGCHING
IPC分类号： C08L79/08 , C08G73/10 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08J5/18 , H05K1/03
CPC分类号： C08G73/10 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08L79/08 , H05K1/03
摘要：本發明的課題為提供一種亦具有耐熱性優異，且遲延(Retardation)低之特徵的樹脂薄膜，尤其是給予適合作為可撓性元件之基板的樹脂薄膜，給予吸收可適用雷射剝離法的特定波長光線之樹脂薄膜的可撓性元件基板形成用組成物作為目的。本發明的解決手段為一種可撓性元件基板形成用組成物及由該可撓性元件基板形成用組成物所形成之樹脂薄膜，該可撓性元件基板形成用組成物係包含：聚醯亞胺、粒子徑為3nm~200nm之二氧化鈦粒子、從藉由氮吸著法所測定之比表面積值所算出之平均粒子徑為100nm以下之二氧化矽粒子及有機溶劑。
简体摘要：本发明的课题为提供一种亦具有耐热性优异，且迟延(Retardation)低之特征的树脂薄膜，尤其是给予适合作为可挠性组件之基板的树脂薄膜，给予吸收可适用激光剥离法的特定波长光线之树脂薄膜的可挠性组件基板形成用组成物作为目的。本发明的解决手段为一种可挠性组件基板形成用组成物及由该可挠性组件基板形成用组成物所形成之树脂薄膜，该可挠性组件基板形成用组成物系包含：聚酰亚胺、粒子径为3nm~200nm之二氧化钛粒子、从借由氮吸着法所测定之比表面积值所算出之平均粒子径为100nm以下之二氧化硅粒子及有机溶剂。

8. 发明专利

TWI494374B 液晶配向處理劑、液晶配向膜、及使用其之液晶顯示元件有权
简体标题：液晶配向处理剂、液晶配向膜、及使用其之液晶显示组件
公开(公告)号：TWI494374B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW099145804
申请日：2010-12-24
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：保坂和義 , HOSAKA, KAZUYOSHI , 北浩 , KITA, HIROSHI , 片山雅章 , KATAYAMA, MASAAKI , 園山幸司 , SONOYAMA, KOJI
IPC分类号： C08L79/08 , C07C211/00 , G02F1/1337
CPC分类号： C07D305/06 , C08G73/1075 , C08G73/1078 , C08L79/08 , G02F1/133723

9. 发明专利

TWI490207B 二胺化合物，液晶配向處理劑，及使用其之液晶顯示元件有权
简体标题：二胺化合物，液晶配向处理剂，及使用其之液晶显示组件
公开(公告)号：TWI490207B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098103101
申请日：2009-01-23
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：南悟志 , MINAMI, SATOSHI , 後藤耕平 , GOTO, KOHEI , 須賀貴裕 , SUGA, TAKAHIRO , 北浩 , KITA, HIROSHI
IPC分类号： C07D213/40 , C07D213/30 , C07D213/38 , C07D213/46 , C07D213/54 , C08G73/10 , G02F1/1337
CPC分类号： C07D213/40 , C07D213/30 , C07D213/36 , C07D213/80 , C07D213/82 , C08G73/10

10. 发明专利

TWI464144B 四羧酸衍生物，其製造方法，及液晶配向劑有权
简体标题：四羧酸衍生物，其制造方法，及液晶配向剂
公开(公告)号：TWI464144B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW099104781
申请日：2010-02-12
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：作本直樹 , SAKUMOTO, NAOKI , 近藤光正 , KONDO, MITSUMASA , 德永健一 , TOKUNAGA, KENICHI , 長尾將人 , NAGAO, MASATO , 北浩 , KITA, HIROSHI
IPC分类号： C07C69/757 , C07C69/74 , C07C67/08 , C07C67/307 , C08G73/10 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133723 , C07C67/08 , C07C67/307 , C07C2601/04 , C08G73/10 , C08L79/08 , C07C69/74

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式