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1. 发明专利

TW202010576A 供給裝置、塗覆裝置以及供給方法审中-公开
简体标题：供给设备、涂覆设备以及供给方法
公开(公告)号：TW202010576A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108123250
申请日：2019-07-02
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 水野博喜 , MIZUNO, HIROKI , 瀬川邦彦 , SEGAWA, KUNIHIKO , 伊藤隆介 , ITO, RYUSUKE , 後藤順一 , GOTO, JUNICHI
IPC分类号： B05C5/02 , B05C9/10 , B05C11/10 , B05C17/005 , B05D3/12 , B05D1/26 , H01L21/67
摘要：本發明提供一種能夠效率良好地去除粘度高的液體中的溶解氣體的供給裝置、包括所述供給裝置的塗覆裝置、以及供給方法。所述供給裝置30是用於將高粘度的處理液供給至供給目標22的供給裝置。所述供給裝置30包括對貯存處理液的槽31與所述供給口320進行流路連接的送液配管32、以及從下游側依序介插在送液配管32中的主泵33、脫氣單元34、輔助泵35及過濾器36。輔助泵35在脫氣單元34的上游側，朝向脫氣單元34對處理液進行加壓。脫氣單元34具有收容在殼體內部的多個中空纖維膜、及對中空纖維膜的外側空間進行減壓的減壓機構。由此，能夠效率良好地去除粘度高的處理液中的溶解氣體，並且能夠使裝置小型化。
简体摘要：本发明提供一种能够效率良好地去除粘度高的液体中的溶解气体的供给设备、包括所述供给设备的涂覆设备、以及供给方法。所述供给设备30是用于将高粘度的处理液供给至供给目标22的供给设备。所述供给设备30包括对贮存处理液的槽31与所述供给口320进行流路连接的送液配管32、以及从下游侧依序介插在送液配管32中的主泵33、脱气单元34、辅助泵35及过滤器36。辅助泵35在脱气单元34的上游侧，朝向脱气单元34对处理液进行加压。脱气单元34具有收容在壳体内部的多个中空纤维膜、及对中空纤维膜的外侧空间进行减压的减压机构。由此，能够效率良好地去除粘度高的处理液中的溶解气体，并且能够使设备小型化。

2. 发明专利

TW201843859A 塗布裝置以及塗布方法审中-公开
简体标题：涂布设备以及涂布方法
公开(公告)号：TW201843859A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW106144908
申请日：2017-12-20
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE , 芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO
IPC分类号： H01L51/56
摘要：本發明關於一種在塗布機構的移動方向上隔開的塗布膜的形成，其目的在於提供一種可高水準地維持塗布處理的精度，並可縮短塗布處理時間的技術。與本發明有關的塗布裝置藉由進行使第2塗布機構（16）到達第2端部（16y）的時機晚於第1塗布機構（14）到達第1端部（14y）的時機的時間差控制，使第1塗布機構（14）與第2塗布機構（16）隔開，並使第1塗布機構（14）及第2塗布機構（16）的移動的至少一部分在時間上並行來進行。
简体摘要：本发明关于一种在涂布机构的移动方向上隔开的涂布膜的形成，其目的在于提供一种可高水准地维持涂布处理的精度，并可缩短涂布处理时间的技术。与本发明有关的涂布设备借由进行使第2涂布机构（16）到达第2端部（16y）的时机晚于第1涂布机构（14）到达第1端部（14y）的时机的时间差控制，使第1涂布机构（14）与第2涂布机构（16）隔开，并使第1涂布机构（14）及第2涂布机构（16）的移动的至少一部分在时间上并行来进行。

3. 发明专利

TWI642888B 減壓乾燥裝置、減壓乾燥系統、減壓乾燥方法有权
简体标题：减压干燥设备、减压干燥系统、减压干燥方法
公开(公告)号：TWI642888B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106119539
申请日：2017-06-13
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 水野博喜 , MIZUNO, HIROKI , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE
IPC分类号： F26B5/04 , B05C9/12

4. 发明专利

TW202010559A 處理裝置、處理系統以及處理方法审中-公开
简体标题：处理设备、处理系统以及处理方法
公开(公告)号：TW202010559A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108120552
申请日：2019-06-13
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 水野博喜 , MIZUNO, HIROKI , 伊藤隆介 , ITO, RYUSUKE , 後藤順一 , GOTO, JUNICHI , 川上剛史 , KAWAKAMI, TAKESHI , 廣瀬幹也 , HIROSE, MIKIYA
IPC分类号： B01D35/16
摘要：本發明提供一種技術，當對黏度高的液體進行過濾時，在過濾器的使用開始時，抑制異物從過濾器的脫離。所述處理裝置1是用於對用來過濾高黏度處理液的過濾器100進行處理的處理裝置。處理裝置1包括：循環配管22，使處理液循環；送液機構23，使循環配管22內產生處理液的流動；以及安裝機構25及異物去除過濾器24，介插在循環配管22的流路途中。安裝機構25裝卸自如地安裝過濾器100。若使用如上所述的處理裝置1來進行過濾器100的時效處理，則循環使用處理液，從而能夠降低處理液的消耗量。而且，能夠利用與安裝過濾器100的裝置獨立的裝置來去除從過濾器100脫離的異物，因此不需要中斷安裝目標裝置中的處理。
简体摘要：本发明提供一种技术，当对黏度高的液体进行过滤时，在过滤器的使用开始时，抑制异物从过滤器的脱离。所述处理设备1是用于对用来过滤高黏度处理液的过滤器100进行处理的处理设备。处理设备1包括：循环配管22，使处理液循环；送液机构23，使循环配管22内产生处理液的流动；以及安装机构25及异物去除过滤器24，介插在循环配管22的流路途中。安装机构25装卸自如地安装过滤器100。若使用如上所述的处理设备1来进行过滤器100的时效处理，则循环使用处理液，从而能够降低处理液的消耗量。而且，能够利用与安装过滤器100的设备独立的设备来去除从过滤器100脱离的异物，因此不需要中断安装目标设备中的处理。

5. 发明专利

TW201812236A 減壓乾燥裝置、減壓乾燥系統、減壓乾燥方法审中-公开
简体标题：减压干燥设备、减压干燥系统、减压干燥方法
公开(公告)号：TW201812236A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106119539
申请日：2017-06-13
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 水野博喜 , MIZUNO, HIROKI , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE
IPC分类号： F26B5/04 , B05C9/12
摘要：本發明的減壓乾燥裝置包括：支撐部，對塗布有膜的基板進行支撐；基板收容部，包含可連接分離的第1覆蓋部及第2覆蓋部，將支撐於支撐部的基板收容於第1覆蓋部與第2覆蓋部之間的處理空間；連接分離驅動部，藉由使第1覆蓋部與第2覆蓋部接觸而封閉處理空間，另一方面，藉由使第1覆蓋部與第2覆蓋部分離而打開處理空間；減壓機構，藉由使經封閉的處理空間減壓，而使塗布於基板上的膜乾燥；以及排氣機構，配置在基板收容部的外側，從分離的第1覆蓋部及第2覆蓋部各自的周緣部之間排出處理空間內的氣化成分。
简体摘要：本发明的减压干燥设备包括：支撑部，对涂布有膜的基板进行支撑；基板收容部，包含可连接分离的第1覆盖部及第2覆盖部，将支撑于支撑部的基板收容于第1覆盖部与第2覆盖部之间的处理空间；连接分离驱动部，借由使第1覆盖部与第2覆盖部接触而封闭处理空间，另一方面，借由使第1覆盖部与第2覆盖部分离而打开处理空间；减压机构，借由使经封闭的处理空间减压，而使涂布于基板上的膜干燥；以及排气机构，配置在基板收容部的外侧，从分离的第1覆盖部及第2覆盖部各自的周缘部之间排出处理空间内的气化成分。

6. 发明专利

TW201813722A 噴嘴洗滌方法、塗布裝置审中-公开
简体标题：喷嘴洗涤方法、涂布设备
公开(公告)号：TW201813722A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106119914
申请日：2017-06-15
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE , 伊藤隆介 , ITO, RYUSUKE
IPC分类号： B05B15/02
摘要：本發明提供一種噴嘴洗滌方法、塗布裝置。本發明的噴嘴洗滌方法包括如下工程：在對安裝於塗布裝置的安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使黏度低於塗布液的洗滌液在從噴嘴的排出口出來並回到噴嘴的供給口的第1循環系統中循環；從安裝部位拆下藉由第1循環系統中的洗滌液的循環而洗滌的噴嘴，對噴嘴執行規定操作之後，將噴嘴安裝於安裝部位；以及在對執行規定操作而安裝於安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使洗滌液在從排出口出來並回到供給口並且在排出口到供給口之間具有過濾器的第2循環系統中循環。
简体摘要：本发明提供一种喷嘴洗涤方法、涂布设备。本发明的喷嘴洗涤方法包括如下工程：在对安装于涂布设备的安装部位的喷嘴的喷出口进行了密封的状态下，使黏度低于涂布液的洗涤液在从喷嘴的排出口出来并回到喷嘴的供给口的第1循环系统中循环；从安装部位拆下借由第1循环系统中的洗涤液的循环而洗涤的喷嘴，对喷嘴运行规定操作之后，将喷嘴安装于安装部位；以及在对运行规定操作而安装于安装部位的喷嘴的喷出口进行了密封的状态下，使洗涤液在从排出口出来并回到供给口并且在排出口到供给口之间具有过滤器的第2循环系统中循环。

7. 发明专利

TW201811441A 噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置、塗布裝置审中-公开
简体标题：喷嘴清扫构件、喷嘴清扫设备、涂布设备
公开(公告)号：TW201811441A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106119866
申请日：2017-06-14
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE
IPC分类号： B05B15/02 , B05C5/02 , B05C21/00
摘要：本發明提供一種噴嘴清掃構件、噴嘴清掃裝置及塗布裝置，一方面可以利用噴嘴清掃構件來執行適合於從噴嘴穩定地噴出塗布液的清掃，一方面可以抑制伴隨著噴嘴清掃構件的更換而產生的運營成本。本發明的噴嘴清掃構件通過相對於從設置於前端的噴出口噴出塗布液的噴嘴相對地移動，而刮除附著於噴嘴上的塗布液，所述噴嘴清掃構件包括：樹脂制的對向部，在噴嘴的兩側面相對向；以及橡膠制的抵接部，設置於噴嘴的兩側面的各自的前端之間，抵接於噴出口形成開口的噴嘴的前端面。
简体摘要：本发明提供一种喷嘴清扫构件、喷嘴清扫设备及涂布设备，一方面可以利用喷嘴清扫构件来运行适合于从喷嘴稳定地喷出涂布液的清扫，一方面可以抑制伴随着喷嘴清扫构件的更换而产生的运营成本。本发明的喷嘴清扫构件通过相对于从设置于前端的喷出口喷出涂布液的喷嘴相对地移动，而刮除附着于喷嘴上的涂布液，所述喷嘴清扫构件包括：树脂制的对向部，在喷嘴的两侧面相对向；以及橡胶制的抵接部，设置于喷嘴的两侧面的各自的前端之间，抵接于喷出口形成开口的喷嘴的前端面。

8. 发明专利

TW201734394A 減壓乾燥方法及減壓乾燥裝置审中-公开
简体标题：减压干燥方法及减压干燥设备
公开(公告)号：TW201734394A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106108335
申请日：2017-03-14
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE
IPC分类号： F26B21/10 , B05D3/12 , H01L21/02
摘要：本發明的課題在於縮短對塗佈於基板上的包含聚醯亞胺前驅物及溶劑的塗佈液的塗佈膜進行減壓乾燥所需的時間。本發明包括：將塗佈於基板上的包含聚醯亞胺前驅物及溶劑的塗佈液的塗佈膜以第一溫度進行減壓乾燥的步驟，以及將經過了所述步驟的所述基板上的所述塗佈膜以比所述第一溫度高的第二溫度進行減壓乾燥的步驟。
简体摘要：本发明的课题在于缩短对涂布于基板上的包含聚酰亚胺前驱物及溶剂的涂布液的涂布膜进行减压干燥所需的时间。本发明包括：将涂布于基板上的包含聚酰亚胺前驱物及溶剂的涂布液的涂布膜以第一温度进行减压干燥的步骤，以及将经过了所述步骤的所述基板上的所述涂布膜以比所述第一温度高的第二温度进行减压干燥的步骤。

9. 发明专利

TWI623717B 減壓乾燥方法及減壓乾燥裝置有权
简体标题：减压干燥方法及减压干燥设备
公开(公告)号：TWI623717B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW106108335
申请日：2017-03-14
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 時枝大佐 , TOKIEDA, DAISUKE
IPC分类号： F26B21/10 , B05D3/12 , H01L21/02

10. 发明专利

TWI505393B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI505393B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW102103479
申请日：2013-01-30
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：富藤幸雄 , TOMIFUJI, YUKIO , 南茂樹 , MINAMI, SHIGEKI , 上代和男 , JODAI, KAZUO , 芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H05K3/00
CPC分类号： B08B3/022 , H05K3/0085 , H05K2203/104 , H05K2203/1509 , H05K2203/1545 , H05K2203/1572

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