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1. 发明专利

TWI401157B 沿槽送入式傳動匣用的預塗覆金屬片有权
简体标题：沿槽送入式传动匣用的预涂覆金属片
公开(公告)号：TWI401157B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW095143059
申请日：2006-11-21
申请人：古河SKY股份有限公司 , FURUKAWA-SKY ALUMINUM CORP.
发明人：小澤武廣 , OZAWA, TAKEHIRO , 齊藤正次 , SAITO, MASATSUGU
IPC分类号： B32B15/08 , B05C9/10 , B05D3/02 , B05D5/06 , B05D7/14 , C09D4/00
CPC分类号： B05D5/08 , B05D5/02 , C08L77/00 , C09D5/00 , C09D7/65 , C23C22/33 , C23C28/00 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405 , Y10T428/25 , Y10T428/265 , Y10T428/269 , Y10T428/31529 , Y10T428/31605 , Y10T428/31678

2. 发明专利

TW201726263A 噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法审中-公开
简体标题：喷墨涂布设备及喷墨涂布方法
公开(公告)号：TW201726263A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106100249
申请日：2017-01-05
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：浅井一夫 , ASAI, KAZUO , 木浦敦之 , KIURA, ATSUYUKI , 福島雄悟 , FUKUSHIMA, YUGO , 東野繁 , TOHNO, SHIGERU
IPC分类号： B05C13/02 , B05C9/10 , B05D1/26
CPC分类号： B05C5/02 , B05C9/06 , B05D1/26 , B05D1/36 , B41J2/01 , B41M5/00
摘要：本發明提供一種即便於產生噴出不良噴嘴之情形時，亦可抑制塗布膜形成條紋不均之噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法。本發明之噴墨塗布裝置構成為藉由一面使塗布單元與載置台沿特定方向相對地移動，一面將設定塗布量之墨水供給至預先設定之基板上之設定噴附位置而於基板上形成塗布膜，且塗布單元具備：主噴嘴單元，其具有複數個噴嘴；及副噴嘴單元，其具有沿特定方向觀察時至少與主噴嘴單元之噴嘴位置對應之噴嘴；由主噴嘴單元噴出之噴附位置與由副噴嘴單元噴出之噴附位置設定成相同之上述設定噴附位置，且藉由主噴嘴單元及副噴嘴單元分別逐次將墨水噴出至設定噴附位置，而供給設定塗布量之墨水。
简体摘要：本发明提供一种即便于产生喷出不良喷嘴之情形时，亦可抑制涂布膜形成条纹不均之喷墨涂布设备及喷墨涂布方法。本发明之喷墨涂布设备构成为借由一面使涂布单元与载置台沿特定方向相对地移动，一面将设置涂布量之墨水供给至预先设置之基板上之设置喷附位置而于基板上形成涂布膜，且涂布单元具备：主喷嘴单元，其具有复数个喷嘴；及副喷嘴单元，其具有沿特定方向观察时至少与主喷嘴单元之喷嘴位置对应之喷嘴；由主喷嘴单元喷出之喷附位置与由副喷嘴单元喷出之喷附位置设置成相同之上述设置喷附位置，且借由主喷嘴单元及副喷嘴单元分别逐次将墨水喷出至设置喷附位置，而供给设置涂布量之墨水。

3. 发明专利

TW201919854A 塗佈液之製造方法、偏光件之製造方法及塗佈液之製造裝置审中-公开
简体标题：涂布液之制造方法、偏光件之制造方法及涂布液之制造设备
公开(公告)号：TW201919854A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133170
申请日：2018-09-20
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：上条卓史 , KAMIJO, TAKASHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU , 松山裕紀 , MATSUYAMA, HIRONORI
IPC分类号： B29D11/00 , B05C9/10 , G02B5/30 , B29K29/00
摘要：本發明提供一種經抑制透明度降低的聚乙烯醇塗佈液之製造方法。本發明之塗佈液之製造方法係一種含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液之製造方法，且其包含：將含有聚乙烯醇系樹脂之溶液在80℃以上保溫；將80℃以上的溶液冷卻至40℃以下；將經冷卻之溶液作為塗佈液連續供給；及，在停止供給塗佈液時，將經已冷卻之溶液加熱至80℃以上並保溫。
简体摘要：本发明提供一种经抑制透明度降低的聚乙烯醇涂布液之制造方法。本发明之涂布液之制造方法系一种含有聚乙烯醇系树脂之涂布液之制造方法，且其包含：将含有聚乙烯醇系树脂之溶液在80℃以上保温；将80℃以上的溶液冷却至40℃以下；将经冷却之溶液作为涂布液连续供给；及，在停止供给涂布液时，将经已冷却之溶液加热至80℃以上并保温。

4. 发明专利

TW201527000A 膜形成裝置以及膜形成方法审中-公开
简体标题：膜形成设备以及膜形成方法
公开(公告)号：TW201527000A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103100989
申请日：2014-01-10
申请人：石井表記股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA ISHII HYOKI
发明人：小澤康博 , KOZAWA, YASUHIRO , 吉岡正博 , YOSHIOKA, MASAHIRO
IPC分类号： B05C9/10 , B05C11/10 , B05D1/32 , H01L21/31
摘要：本發明提供一種膜形成裝置以及膜形成方法，使噴墨頭4的噴嘴4的排列寬度設為在基板2相對移動時基板2的膜形成面2A的寬度方向最大長度以上，在使兩者2、2A的相對移動完成為止的期間內，對多個噴嘴4中噴出膜液6的噴嘴4的個數進行可變控制，使得噴出的膜液6的附著終止於基板2的膜形成面2A與外周端部2c的邊界，以抑制膜液6自基板2的外周端部2b向背面2c側附著。
简体摘要：本发明提供一种膜形成设备以及膜形成方法，使喷墨头4的喷嘴4的排列宽度设为在基板2相对移动时基板2的膜形成面2A的宽度方向最大长度以上，在使两者2、2A的相对移动完成为止的期间内，对多个喷嘴4中喷出膜液6的喷嘴4的个数进行可变控制，使得喷出的膜液6的附着终止于基板2的膜形成面2A与外周端部2c的边界，以抑制膜液6自基板2的外周端部2b向背面2c侧附着。

5. 发明专利

TW201501814A 排氣弁系統审中-公开
简体标题：排气弁系统
公开(公告)号：TW201501814A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103120367
申请日：2014-06-12
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：堀內展雄 , HORIUCHI, NOBUO
IPC分类号： B05C9/10 , B05C5/02
摘要：本發明之目的係提供一種排氣弁系統，其係可以短時間進行排氣弁處理，且可抑制塗佈液劣化而再利用以排氣弁處理排出之塗佈液。本發明係一種塗佈裝置之排氣弁系統，該塗佈裝置係藉由使具有貯留塗佈液之岐管及狹縫噴嘴之口型板部自上述狹縫噴嘴噴出塗佈液且進行掃描而於基板上形成塗佈膜，且該排氣弁系統採用如下構成：於上述口型板部中，設置有將塗佈液供給於岐管之塗佈液供給孔、及藉由自該塗佈液供給孔供給塗佈液而排出存在於上述岐管之空氣之排氣弁孔，且包含：排氣弁槽，其貯留自上述排氣弁孔排出之包含空氣之塗佈液；及減壓器，其將上述排氣弁槽之壓力減壓。
简体摘要：本发明之目的系提供一种排气弁系统，其系可以短时间进行排气弁处理，且可抑制涂布液劣化而再利用以排气弁处理排出之涂布液。本发明系一种涂布设备之排气弁系统，该涂布设备系借由使具有贮留涂布液之岐管及狭缝喷嘴之口型板部自上述狭缝喷嘴喷出涂布液且进行扫描而于基板上形成涂布膜，且该排气弁系统采用如下构成：于上述口型板部中，设置有将涂布液供给于岐管之涂布液供给孔、及借由自该涂布液供给孔供给涂布液而排出存在于上述岐管之空气之排气弁孔，且包含：排气弁槽，其贮留自上述排气弁孔排出之包含空气之涂布液；及减压器，其将上述排气弁槽之压力减压。

6. 发明专利

TW202010576A 供給裝置、塗覆裝置以及供給方法审中-公开
简体标题：供给设备、涂覆设备以及供给方法
公开(公告)号：TW202010576A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108123250
申请日：2019-07-02
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：芳川典生 , YOSHIKAWA, NORIO , 水野博喜 , MIZUNO, HIROKI , 瀬川邦彦 , SEGAWA, KUNIHIKO , 伊藤隆介 , ITO, RYUSUKE , 後藤順一 , GOTO, JUNICHI
IPC分类号： B05C5/02 , B05C9/10 , B05C11/10 , B05C17/005 , B05D3/12 , B05D1/26 , H01L21/67
摘要：本發明提供一種能夠效率良好地去除粘度高的液體中的溶解氣體的供給裝置、包括所述供給裝置的塗覆裝置、以及供給方法。所述供給裝置30是用於將高粘度的處理液供給至供給目標22的供給裝置。所述供給裝置30包括對貯存處理液的槽31與所述供給口320進行流路連接的送液配管32、以及從下游側依序介插在送液配管32中的主泵33、脫氣單元34、輔助泵35及過濾器36。輔助泵35在脫氣單元34的上游側，朝向脫氣單元34對處理液進行加壓。脫氣單元34具有收容在殼體內部的多個中空纖維膜、及對中空纖維膜的外側空間進行減壓的減壓機構。由此，能夠效率良好地去除粘度高的處理液中的溶解氣體，並且能夠使裝置小型化。
简体摘要：本发明提供一种能够效率良好地去除粘度高的液体中的溶解气体的供给设备、包括所述供给设备的涂覆设备、以及供给方法。所述供给设备30是用于将高粘度的处理液供给至供给目标22的供给设备。所述供给设备30包括对贮存处理液的槽31与所述供给口320进行流路连接的送液配管32、以及从下游侧依序介插在送液配管32中的主泵33、脱气单元34、辅助泵35及过滤器36。辅助泵35在脱气单元34的上游侧，朝向脱气单元34对处理液进行加压。脱气单元34具有收容在壳体内部的多个中空纤维膜、及对中空纤维膜的外侧空间进行减压的减压机构。由此，能够效率良好地去除粘度高的处理液中的溶解气体，并且能够使设备小型化。

7. 发明专利

TWI626998B 流體吐出裝置、流體吐出方法及流體塗布裝置有权
简体标题：流体吐出设备、流体吐出方法及流体涂布设备
公开(公告)号：TWI626998B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW105100891
申请日：2016-01-13
申请人：千住金屬工業股份有限公司 , SENJU METAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：名内孝 , NAUCHI, TAKASHI , 中村秀樹 , NAKAMURA, HIDEKI , 六辻利彦 , MUTSUJI, TOSHIHIKO , 北沢和哉 , KITAZAWA, KAZUYA
IPC分类号： B05C9/10 , B05C9/14 , B05C11/10 , H05K3/34

8. 发明专利

TW201709985A 用於將塗料施加到基板的方法及裝置审中-公开
简体标题：用于将涂料施加到基板的方法及设备
公开(公告)号：TW201709985A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105110913
申请日：2016-04-07
申请人：蘇士微科技印刷術股份有限公司 , SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH
发明人：法克歐瑪 , FAKHR, OMAR
IPC分类号： B05C9/10
CPC分类号： B05D1/34 , B05C5/02 , B05D1/02 , B05D1/28 , G03F7/16 , H01L21/0271 , H01L21/6715 , H01L21/67253
摘要：本發明關於一種用於將塗料施加到基板(3)的裝置，其包括：計量裝置(5)，塗料流體(2)可藉由計量裝置作為噴流而被施加到基板(3)；以及溶劑分配器(10)，以預定量的溶劑(14)可被施用到計量裝置(5)的前端的這種方式，其被偏心地佈置且被佈置到計量裝置(5)的前端的側邊。本發明亦關於一種用於藉由前述申請專利範圍任一項的裝置來將塗料施加到基板(3)的方法，其中，在塗料流體(2)被施加之前，以溶劑(14)接觸位在那裡的塗料流體(2)的這種方式，預定量的溶劑(14)被帶到計量裝置(5)的前端，以及，在等待期間之後，接著藉由計量裝置(5)將塗料流體(2)施加到基板(3)。
简体摘要：本发明关于一种用于将涂料施加到基板(3)的设备，其包括：计量设备(5)，涂料流体(2)可借由计量设备作为喷流而被施加到基板(3)；以及溶剂分配器(10)，以预定量的溶剂(14)可被施用到计量设备(5)的前端的这种方式，其被偏心地布置且被布置到计量设备(5)的前端的侧边。本发明亦关于一种用于借由前述申请专利范围任一项的设备来将涂料施加到基板(3)的方法，其中，在涂料流体(2)被施加之前，以溶剂(14)接触位在那里的涂料流体(2)的这种方式，预定量的溶剂(14)被带到计量设备(5)的前端，以及，在等待期间之后，接着借由计量设备(5)将涂料流体(2)施加到基板(3)。

9. 发明专利

TW201637724A 流體吐出裝置、流體吐出方法及流體塗布裝置审中-公开
简体标题：流体吐出设备、流体吐出方法及流体涂布设备
公开(公告)号：TW201637724A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105100891
申请日：2016-01-13
申请人：千住金屬工業股份有限公司 , SENJU METAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：名内孝 , NAUCHI, TAKASHI , 中村秀樹 , NAKAMURA, HIDEKI , 六辻利彦 , MUTSUJI, TOSHIHIKO , 北沢和哉 , KITAZAWA, KAZUYA
IPC分类号： B05C9/10 , B05C9/14 , B05C11/10 , H05K3/34
CPC分类号： B05C5/001 , B05C5/00 , B05C11/10 , B05D1/26 , B23K3/06 , H01L24/11 , H01L24/742 , H01L2224/11001 , H01L2224/11312 , H05K3/34 , H05K3/4007 , H05K2203/046 , H05K2203/074 , H05K2203/128
摘要：流體吐出裝置係有隨著流體吐出量變得微小而發生即便吐出流體亦不會充填於遮罩內之不良情形之情事。為了將流體充填於工件中，必須以流體置換吐出部分之工件的空氣，藉由在事先將工件中的空氣排氣而使流體充填於工件中。使用一種流體吐出裝置，於吐出噴頭的一端形成有用以吸引工件上的遮罩中的空氣之吸引口以及用以吐出流體之吐出噴嘴。
简体摘要：流体吐出设备系有随着流体吐出量变得微小而发生即便吐出流体亦不会充填于遮罩内之不良情形之情事。为了将流体充填于工件中，必须以流体置换吐出部分之工件的空气，借由在事先将工件中的空气排气而使流体充填于工件中。使用一种流体吐出设备，于吐出喷头的一端形成有用以吸引工件上的遮罩中的空气之吸引口以及用以吐出流体之吐出喷嘴。

10. 发明专利

TW201544194A 可控制溶劑揮發速率的旋轉塗佈裝置审中-公开
简体标题：可控制溶剂挥发速率的旋转涂布设备
公开(公告)号：TW201544194A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW103117324
申请日：2014-05-16
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B05C9/10 , B05C11/10 , H01L21/027
摘要：一種可控制溶劑揮發速率的旋轉塗佈裝置，包含：一殼體、一承載座、一蓋體單元及一旋轉馬達。該承載座可旋轉地設置於該殼體內，並供一基板放置於該承載座上。該蓋體單元包括一可位移地蓋合該殼體的外蓋，及一可沿一上下方向位移地離開該外蓋，並罩覆於該基板上方的內蓋。藉此，可以依據需要形成在基板上的膜的厚薄程度，來調整該內蓋的上下位移，用以調整基板上方的空間，進而控制該溶劑的揮發速度。不論厚膜或是薄膜均可均勻形成在基板上。
简体摘要：一种可控制溶剂挥发速率的旋转涂布设备，包含：一壳体、一承载座、一盖体单元及一旋转马达。该承载座可旋转地设置于该壳体内，并供一基板放置于该承载座上。该盖体单元包括一可位移地盖合该壳体的外盖，及一可沿一上下方向位移地离开该外盖，并罩覆于该基板上方的内盖。借此，可以依据需要形成在基板上的膜的厚薄程度，来调整该内盖的上下位移，用以调整基板上方的空间，进而控制该溶剂的挥发速度。不论厚膜或是薄膜均可均匀形成在基板上。

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