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1. 发明专利

TW201827507A 硬化性組成物、化合物、硬化膜、硬化膜之製造方法、濾色器之製造方法、固態攝影元件及紅外線感測器审中-公开
简体标题：硬化性组成物、化合物、硬化膜、硬化膜之制造方法、滤色器之制造方法、固态摄影组件及红外线传感器
公开(公告)号：TW201827507A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW107100639
申请日：2018-01-08
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 水野明夫 , MIZUNO, AKIO , 金子祐士 , KANEKO, YUSHI , 田口貴規 , TAGUCHI, YOSHINORI , 浜田大輔 , HAMADA, DAISUKE
IPC分类号： C08K5/372 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G02B5/20 , H01L27/146 , H04N5/335
摘要：本發明提供一種能夠獲得保存穩定性優異，抑制未曝光部中的殘渣的產生，並且具有優異的圖案形狀之硬化膜之硬化性組成物。又，提供一種化合物、硬化膜、硬化膜之製造方法、濾色器之製造方法、固態攝影元件及紅外線感測器。硬化性組成物含有聚合性化合物、光聚合起始劑、含有具有聚合抑制能力之基團和硫醇基之化合物、著色劑。
简体摘要：本发明提供一种能够获得保存稳定性优异，抑制未曝光部中的残渣的产生，并且具有优异的图案形状之硬化膜之硬化性组成物。又，提供一种化合物、硬化膜、硬化膜之制造方法、滤色器之制造方法、固态摄影组件及红外线传感器。硬化性组成物含有聚合性化合物、光聚合起始剂、含有具有聚合抑制能力之基团和硫醇基之化合物、着色剂。

2. 发明专利

TWI623593B 著色組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、固體攝像元件及圖像顯示裝置有权
简体标题：着色组成物、着色硬化膜、彩色滤光片、固体摄像组件及图像显示设备
公开(公告)号：TWI623593B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW103116329
申请日：2014-05-08
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 鮫島賢 , SAMEJIMA, SUGURU , 原田昌之 , HARADA, MASAYUKI , 出井宏明 , IDEI, HIROAKI , 金子祐士 , KANEKO, YUUSHI , 渡邉哲也 , WATANABE, TETSUYA , 尾田和也 , OOTA, KAZUYA , 村上陽祐 , MURAKAMI, YOUSUKE , 田口貴規 , TAGUCHI, YOSHINORI
IPC分类号： C09B69/10 , G03F7/00 , G02B5/20

3. 发明专利

TWI598331B 二吡咯亞甲基金屬錯合化合物、及含該化合物的著色組成物、油墨片、墨粉、油墨及濾光片有权
简体标题：二吡咯亚甲基金属错合化合物、及含该化合物的着色组成物、油墨片、墨粉、油墨及滤光片
公开(公告)号：TWI598331B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW100135274
申请日：2011-09-29
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：藤江賀彥 , FUJIE, YOSHIHIKO , 佐佐木大輔 , SASAKI, DAISUKE , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI
IPC分类号： C07D207/335 , C07F3/06 , C09D11/00 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03C8/40 , G03G9/08

4. 发明专利

TWI578106B 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用其的抗蝕劑膜、圖案形成方法以及電子裝置的製造方法以及電子裝置有权
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用其的抗蚀剂膜、图案形成方法以及电子设备的制造方法以及电子设备
公开(公告)号：TWI578106B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW102103398
申请日：2013-01-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/038 , C08L33/08 , C08L25/14 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F220/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325

5. 发明专利

TWI541294B 彩色濾光片用著色組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置、有機ＥＬ顯示裝置及固體攝像元件有权
简体标题：彩色滤光片用着色组成物、彩色滤光片及其制造方法、液晶显示设备、有机ＥＬ显示设备及固体摄像组件
公开(公告)号：TWI541294B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW100133655
申请日：2011-09-19
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：兩角一真 , MOROZUMI, KAZUMASA , 安藤豪 , ANDO, TAKESHI , 新居一巳 , NII, KAZUMI , 藤江賀彥 , FUJIE, YOSHIHIKO , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI
IPC分类号： C09B67/22 , G02B5/20 , G02F1/1335

6. 发明专利

TW201510644A 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：着色组成物、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件及图像显示设备
公开(公告)号：TW201510644A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103125763
申请日：2014-07-29
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 渡邉哲也 , WATANABE, TETSUYA , 金子祐士 , KANEKO, YUUSHI , 鮫島賢 , SAMEJIMA, SUGURU , 尾田和也 , OOTA, KAZUYA , 田口貴規 , TAGUCHI, YOSHINORI , 室祐継 , MURO, NAOTSUGU
IPC分类号： G03F7/004 , C09B69/10 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , H04N5/335
CPC分类号： G02B5/201 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F220/38 , C08L101/02 , C09B69/103 , C09B69/105 , C09B69/108 , C09B69/109 , G02B5/20 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/105 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08F220/06
摘要：本發明提供一種耐熱性及溶劑溶解性優異且可形成色移得到抑制的圖案的著色組成物、利用著色組成物的硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置。本發明的著色組成物含有聚合物陰離子與具有陽離子結構的色素，所述聚合物陰離子具有含有低親核性陰離子結構的重複單元；其中，所謂低親核性陰離子結構，表示具有低於硫酸的pKa之pKa的有機酸解離而成的陰離子結構。
简体摘要：本发明提供一种耐热性及溶剂溶解性优异且可形成色移得到抑制的图案的着色组成物、利用着色组成物的硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件及图像显示设备。本发明的着色组成物含有聚合物阴离子与具有阳离子结构的色素，所述聚合物阴离子具有含有低亲核性阴离子结构的重复单元；其中，所谓低亲核性阴离子结构，表示具有低于硫酸的pKa之pKa的有机酸解离而成的阴离子结构。

7. 发明专利

TW201506094A 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：着色组成物、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件及图像显示设备
公开(公告)号：TW201506094A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103125613
申请日：2014-07-28
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：室祐継 , MURO, NAOTSUGU , 尾田和也 , OOTA, KAZUYA , 田口貴規 , TAGUCHI, YOSHINORI , 渡邉哲也 , WATANABE, TETSUYA , 金子祐士 , KANEKO, YUUSHI , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 鮫島賢 , SAMEJIMA, SUGURU
IPC分类号： C09B69/10 , G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/40 , G02B5/20 , G02B5/22 , H04N5/335 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/201 , C09B11/24 , C09B57/10 , C09B67/0064 , C09B69/109 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/105 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36
摘要：本發明提供一種即便長期放置於低氧濃度下亦可維持良好的耐光性的著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置。本發明的著色組成物含有(A)色素多聚物及(B)溶劑，並且(A)色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位，著色組成物中的含水率為0.01質量%~3.0質量%。
简体摘要：本发明提供一种即便长期放置于低氧浓度下亦可维持良好的耐光性的着色组成物、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件及图像显示设备。本发明的着色组成物含有(A)色素多聚物及(B)溶剂，并且(A)色素多聚物具有来源于具有阳离子部位的氧杂蒽色素的部分结构及阴离子部位，着色组成物中的含水率为0.01质量%~3.0质量%。

8. 发明专利

TW201439178A 圖案形成方法、樹脂組成物、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：图案形成方法、树脂组成物、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201439178A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103106370
申请日：2014-02-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI
IPC分类号： C08L33/04 , C08K5/42 , C08K5/435 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/311 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C08L33/16 , C08L2203/16 , C08L2312/06 , C09D133/16 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/325
摘要：本發明提供一種線寬粗糙度等粗糙度性能、局部的圖案尺寸的均一性、及曝光寬容度優異，可抑制利用顯影所形成的圖案部的膜厚下降，即所謂的膜薄化的圖案形成方法，用於該圖案形成方法的樹脂組成物，其為感光化射線性或感放射線性，以及使用該些的電子元件的製造方法及電子元件，上述圖案形成方法包括：(i)利用樹脂組成物來形成膜的步驟，上述樹脂組成物為感光化射線性或感放射線性，包含(A)含有具有極性基由因酸的作用而分解並脫離的脫離基保護的結構的重複單元(p)的樹脂、及(B)藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物；(ii)對該膜進行曝光的步驟；以及(iii)使用包含有機溶劑的顯影液對該經曝光的膜進行顯影而形成負型的圖案的步驟；上述重複單元(p)含有具有羧基中的氫原子被因酸的作用而分解並脫離的脫離基取代的結構的重複單元(p1)，且上述重複單元(p1)中的上述脫離基為具有與上述羧基中的-COO-基直接鍵結的四級碳原子、及極性基的基。
简体摘要：本发明提供一种线宽粗糙度等粗糙度性能、局部的图案尺寸的均一性、及曝光宽容度优异，可抑制利用显影所形成的图案部的膜厚下降，即所谓的膜薄化的图案形成方法，用于该图案形成方法的树脂组成物，其为感光化射线性或感放射线性，以及使用该些的电子组件的制造方法及电子组件，上述图案形成方法包括：(i)利用树脂组成物来形成膜的步骤，上述树脂组成物为感光化射线性或感放射线性，包含(A)含有具有极性基由因酸的作用而分解并脱离的脱离基保护的结构的重复单元(p)的树脂、及(B)借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物；(ii)对该膜进行曝光的步骤；以及(iii)使用包含有机溶剂的显影液对该经曝光的膜进行显影而形成负型的图案的步骤；上述重复单元(p)含有具有羧基中的氢原子被因酸的作用而分解并脱离的脱离基取代的结构的重复单元(p1)，且上述重复单元(p1)中的上述脱离基为具有与上述羧基中的-COO-基直接键结的四级碳原子、及极性基的基。

9. 发明专利

TW201331715A 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、電子元件的製造方法以及電子元件审中-公开
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、电子组件的制造方法以及电子组件
公开(公告)号：TW201331715A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101150333
申请日：2012-12-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32 , C08L33/14 , C08L33/08 , C08L25/16 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F220/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
摘要：提供圖案形成方法，其包括(i)藉由使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成膜之步驟，所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有能夠在酸作用下增加極性以降低其對含有有機溶劑之顯影劑之溶解度的樹脂(A)，能夠在光化射線或放射線照射時產生酸之化合物(B)，溶劑(C)，以及實質上不含氟原子以及矽原子且與樹脂(A)不同之樹脂(D)，(ii)使膜曝光之步驟，以及(iii)藉由使用含有有機溶劑之顯影劑進行顯影以形成負型圖案之步驟。
简体摘要：提供图案形成方法，其包括(i)借由使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜之步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有能够在酸作用下增加极性以降低其对含有有机溶剂之显影剂之溶解度的树脂(A)，能够在光化射线或放射线照射时产生酸之化合物(B)，溶剂(C)，以及实质上不含氟原子以及硅原子且与树脂(A)不同之树脂(D)，(ii)使膜曝光之步骤，以及(iii)借由使用含有有机溶剂之显影剂进行显影以形成负型图案之步骤。

10. 发明专利

TW201326105A 樹脂組成物、及使用其的膜、圖案形成方法、電子裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：树脂组成物、及使用其的膜、图案形成方法、电子设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201326105A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101141189
申请日：2012-11-06
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 徳川葉子 , TOKUGAWA, YOKO , 松田知樹 , MATSUDA, TOMOKI , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI , 福原敏明 , FUKUHARA, TOSHIAKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 吉留正洋 , YOSHIDOME, MASAHIRO , 杉山真一 , SUGIYAMA, SHINICHI
IPC分类号： C07C381/12 , C08F20/18 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07D295/16 , C07D327/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：本發明提供一種曝光寬容度以及線寬粗糙度(line width roughness，LWR)等圖案粗糙度優異、隨時間經過的顆粒產生少、且在液浸曝光的情況下所產生的酸在液浸液中的溶出少的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用其的感光化射線性或感放射線性膜以及圖案形成方法。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有：(A)下述通式(1)所表示的藉由照射光化射線或放射線而產生酸的化合物、以及(B)樹脂。[化1]
简体摘要：本发明提供一种曝光宽容度以及线宽粗糙度(line width roughness，LWR)等图案粗糙度优异、随时间经过的颗粒产生少、且在液浸曝光的情况下所产生的酸在液浸液中的溶出少的感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用其的感光化射线性或感放射线性膜以及图案形成方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有：(A)下述通式(1)所表示的借由照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、以及(B)树脂。[化1]

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