专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI666527B 顯影方法有权
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TWI666527B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106144209
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30

2. 发明专利

TW201629641A 顯影方法审中-公开
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TW201629641A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105100269
申请日：2016-01-06
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：於顯影方法中，對繞中心部旋轉之基板上且偏離中心部之預先設定之位置，藉由顯影噴嘴開始進行顯影液之吐出。藉此，可自吐出開始後立刻於離心力較小之中心部產生顯影液之液流。因此，相較於對中心部開始進行顯影液之吐出之情形，可效率佳地將光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出開始後立刻產生之藉由顯影噴嘴直接被吐出之顯影液之抵達位置會分散之情形，尤其能抑制光阻圖案在基板之中心部變細之情形，從而抑制處理的不均。
简体摘要：于显影方法中，对绕中心部旋转之基板上且偏离中心部之预先设置之位置，借由显影喷嘴开始进行显影液之吐出。借此，可自吐出开始后立刻于离心力较小之中心部产生显影液之液流。因此，相较于对中心部开始进行显影液之吐出之情形，可效率佳地将光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出开始后立刻产生之借由显影喷嘴直接被吐出之显影液之抵达位置会分散之情形，尤其能抑制光阻图案在基板之中心部变细之情形，从而抑制处理的不均。

3. 发明专利

TW201809917A 顯影方法审中-公开
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TW201809917A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106144209
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：於顯影方法中，對繞中心部旋轉之基板上且偏離中心部之預先設定之位置，藉由顯影噴嘴開始進行顯影液之吐出。藉此，可自吐出開始後立刻於離心力較小之中心部產生顯影液之液流。因此，相較於對中心部開始進行顯影液之吐出之情形，可效率佳地將光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出開始後立刻產生之藉由顯影噴嘴直接被吐出之顯影液之抵達位置會分散之情形，尤其能抑制光阻圖案在基板之中心部變細之情形，從而抑制處理的不均。
简体摘要：于显影方法中，对绕中心部旋转之基板上且偏离中心部之预先设置之位置，借由显影喷嘴开始进行显影液之吐出。借此，可自吐出开始后立刻于离心力较小之中心部产生显影液之液流。因此，相较于对中心部开始进行显影液之吐出之情形，可效率佳地将光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出开始后立刻产生之借由显影喷嘴直接被吐出之显影液之抵达位置会分散之情形，尤其能抑制光阻图案在基板之中心部变细之情形，从而抑制处理的不均。

4. 发明专利

TWI614066B 塗佈方法有权
简体标题：涂布方法
公开(公告)号：TWI614066B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW105107884
申请日：2016-03-15
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI
IPC分类号： B05D1/40 , B05D3/04 , H01L21/027
CPC分类号： B05D1/40 , B05D1/005 , B05D3/04 , H01L21/027 , H01L21/6708 , H01L21/6715

5. 发明专利

TWI634397B 顯影方法有权
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TWI634397B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW105100269
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30

6. 发明专利

TW201641168A 塗佈方法审中-公开
简体标题：涂布方法
公开(公告)号：TW201641168A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105107884
申请日：2016-03-15
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI
IPC分类号： B05D1/40 , B05D3/00
CPC分类号： B05D1/40 , B05D1/005 , B05D3/04 , H01L21/027 , H01L21/6708 , H01L21/6715
摘要：藉由保持旋轉部2使基板W旋轉而於基板W上形成塗佈液膜RS，並且藉由伴隨基板W之旋轉所產生之離心力將剩餘之塗佈液RS之至少一部分推向基板W之周緣部E擠推，使剩餘之塗佈液RS沿著基板W之周緣部E隆起。此外，藉由氣體噴嘴4朝向基板W之周緣部E噴吹氣體，將在周緣部E隆起之剩餘之塗佈液RS朝基板W外排出。藉由利用氣體噴嘴4朝向基板W之周緣部E噴吹氣體GS，可將因表面張力未被排出於基板W外而停留且隆起之塗佈液RS的均衡狀態加以破壞。因此，可藉由旋轉，一邊較厚地形成塗佈液膜RS，一邊使塗佈液膜RS之厚度變均勻。
简体摘要：借由保持旋转部2使基板W旋转而于基板W上形成涂布液膜RS，并且借由伴随基板W之旋转所产生之离心力将剩余之涂布液RS之至少一部分推向基板W之周缘部E挤推，使剩余之涂布液RS沿着基板W之周缘部E隆起。此外，借由气体喷嘴4朝向基板W之周缘部E喷吹气体，将在周缘部E隆起之剩余之涂布液RS朝基板W外排出。借由利用气体喷嘴4朝向基板W之周缘部E喷吹气体GS，可将因表面张力未被排出于基板W外而停留且隆起之涂布液RS的均衡状态加以破坏。因此，可借由旋转，一边较厚地形成涂布液膜RS，一边使涂布液膜RS之厚度变均匀。

7. 发明专利

TWI644345B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI644345B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106104127
申请日：2017-02-08
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027

8. 发明专利

TWI682433B 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法有权
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI682433B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW106135709
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

9. 发明专利

TW201833670A 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201833670A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106135708
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/16
摘要：一種曝光裝置，係具備投光部、照度計、遮光部及投光控制部。藉由投光部來對基板之被處理面照射真空紫外線。在真空紫外線從投光部往基板的照射期間，藉由照度計來接收真空紫外線之一部分，且計測所接收到的真空紫外線之照明度。在照射期間藉由遮光部來斷續地遮蔽真空紫外線往照度計之受光面的射入。基於藉由照、度計所計測到的照明度來停止藉由投光部所為的真空紫外線往基板之照射。
简体摘要：一种曝光设备，系具备投光部、照度计、遮光部及投光控制部。借由投光部来对基板之被处理面照射真空紫外线。在真空紫外线从投光部往基板的照射期间，借由照度计来接收真空紫外线之一部分，且计测所接收到的真空紫外线之照明度。在照射期间借由遮光部来断续地屏蔽真空紫外线往照度计之受光面的射入。基于借由照、度计所计测到的照明度来停止借由投光部所为的真空紫外线往基板之照射。

10. 发明专利

TW201820409A 顯像裝置、基板處理裝置、顯像方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：显像设备、基板处理设备、显像方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201820409A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106135707
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32
摘要：於基板的一表面上形成有含金屬塗佈膜，於含金屬塗佈膜上藉由感光性的有機材料而形成有機塗佈膜，有機塗佈膜被曝光成預定的圖案。顯像液藉由細縫噴嘴而供給於有機塗佈膜，藉此有機塗佈膜形成預定的圖案。另外，置換液係藉由置換噴嘴而供給於有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜，藉此含金屬塗佈膜的部分被去除，於含金屬塗佈膜形成預定的圖案。清洗液藉由清洗噴嘴而供給於具有有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜的圖案的基板。
简体摘要：于基板的一表面上形成有含金属涂布膜，于含金属涂布膜上借由感光性的有机材料而形成有机涂布膜，有机涂布膜被曝光成预定的图案。显像液借由细缝喷嘴而供给于有机涂布膜，借此有机涂布膜形成预定的图案。另外，置换液系借由置换喷嘴而供给于有机涂布膜的图案及含金属涂布膜，借此含金属涂布膜的部分被去除，于含金属涂布膜形成预定的图案。清洗液借由清洗喷嘴而供给于具有有机涂布膜的图案及含金属涂布膜的图案的基板。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式