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1. 发明专利

TWI666527B 顯影方法有权
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TWI666527B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106144209
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30

2. 发明专利

TW201809917A 顯影方法审中-公开
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TW201809917A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106144209
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：於顯影方法中，對繞中心部旋轉之基板上且偏離中心部之預先設定之位置，藉由顯影噴嘴開始進行顯影液之吐出。藉此，可自吐出開始後立刻於離心力較小之中心部產生顯影液之液流。因此，相較於對中心部開始進行顯影液之吐出之情形，可效率佳地將光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出開始後立刻產生之藉由顯影噴嘴直接被吐出之顯影液之抵達位置會分散之情形，尤其能抑制光阻圖案在基板之中心部變細之情形，從而抑制處理的不均。
简体摘要：于显影方法中，对绕中心部旋转之基板上且偏离中心部之预先设置之位置，借由显影喷嘴开始进行显影液之吐出。借此，可自吐出开始后立刻于离心力较小之中心部产生显影液之液流。因此，相较于对中心部开始进行显影液之吐出之情形，可效率佳地将光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出开始后立刻产生之借由显影喷嘴直接被吐出之显影液之抵达位置会分散之情形，尤其能抑制光阻图案在基板之中心部变细之情形，从而抑制处理的不均。

3. 发明专利

TWI634397B 顯影方法有权
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TWI634397B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW105100269
申请日：2016-01-06
申请人：日商思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30

4. 发明专利

TWI688027B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI688027B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW106145500
申请日：2017-12-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324

5. 发明专利

TWI653664B 熱處理裝置、基板處理裝置、熱處理方法及基板處理方法有权
简体标题：热处理设备、基板处理设备、热处理方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI653664B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW106123770
申请日：2017-07-17
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , B05D3/02 , B05D3/04

6. 发明专利

TWI653663B 顯影單元、基板處理裝置、顯影方法及基板處理方法有权
简体标题：显影单元、基板处理设备、显影方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI653663B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW106104239
申请日：2017-02-09
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , G03F7/30 , G03F7/32 , B05C11/08

7. 发明专利

TWI644345B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI644345B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106104127
申请日：2017-02-08
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027

8. 发明专利

TW201830553A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201830553A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106145500
申请日：2017-12-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324
摘要：一種基板處理方法，其係將形成有處理膜之基板載置於熱處理腔室內之熱處理空間進行熱處理，且上述方法包含以下步驟：排氣步驟，其將上述熱處理空間之氣體排氣；惰性氣體供給步驟，其對上述熱處理空間供給惰性氣體；及熱處理步驟，其對上述熱處理空間之基板進行熱處理。
简体摘要：一种基板处理方法，其系将形成有处理膜之基板载置于热处理腔室内之热处理空间进行热处理，且上述方法包含以下步骤：排气步骤，其将上述热处理空间之气体排气；惰性气体供给步骤，其对上述热处理空间供给惰性气体；及热处理步骤，其对上述热处理空间之基板进行热处理。

9. 发明专利

TW201712730A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201712730A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105116502
申请日：2016-05-26
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：本發明之基板處理裝置包含：旋轉夾盤，其保持基板；處理液供給單元，其對由基板保持部保持之基板之被處理面供給具有第1比重之第1處理液與具有第2比重之第2處理液；貯存部，其貯存對基板供給後之使用過之第1及第2處理液；及處理液分離機構，其將貯存於貯存部之第1處理液與第2處理液基於比重而分離。以旋轉夾盤保持基板。在該狀態下，藉由塗佈處理單元對基板之被處理面供給第1及第2處理液。此處，第2處理液之比重小於第1處理液之比重。將對基板供給後之使用過之第1及第2處理液貯存於回收槽。藉由處理液分離機構將貯存於回收槽內之第1處理液及第2處理液基於比重而分離。
简体摘要：本发明之基板处理设备包含：旋转夹盘，其保持基板；处理液供给单元，其对由基板保持部保持之基板之被处理面供给具有第1比重之第1处理液与具有第2比重之第2处理液；贮存部，其贮存对基板供给后之使用过之第1及第2处理液；及处理液分离机构，其将贮存于贮存部之第1处理液与第2处理液基于比重而分离。以旋转夹盘保持基板。在该状态下，借由涂布处理单元对基板之被处理面供给第1及第2处理液。此处，第2处理液之比重小于第1处理液之比重。将对基板供给后之使用过之第1及第2处理液贮存于回收槽。借由处理液分离机构将贮存于回收槽内之第1处理液及第2处理液基于比重而分离。

10. 发明专利

TW201629641A 顯影方法审中-公开
简体标题：显影方法
公开(公告)号：TW201629641A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105100269
申请日：2016-01-06
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 宮城聰 , MIYAGI, TADASHI , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：於顯影方法中，對繞中心部旋轉之基板上且偏離中心部之預先設定之位置，藉由顯影噴嘴開始進行顯影液之吐出。藉此，可自吐出開始後立刻於離心力較小之中心部產生顯影液之液流。因此，相較於對中心部開始進行顯影液之吐出之情形，可效率佳地將光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出開始後立刻產生之藉由顯影噴嘴直接被吐出之顯影液之抵達位置會分散之情形，尤其能抑制光阻圖案在基板之中心部變細之情形，從而抑制處理的不均。
简体摘要：于显影方法中，对绕中心部旋转之基板上且偏离中心部之预先设置之位置，借由显影喷嘴开始进行显影液之吐出。借此，可自吐出开始后立刻于离心力较小之中心部产生显影液之液流。因此，相较于对中心部开始进行显影液之吐出之情形，可效率佳地将光阻之溶解生成物排出至基板外。而且，可抑制吐出开始后立刻产生之借由显影喷嘴直接被吐出之显影液之抵达位置会分散之情形，尤其能抑制光阻图案在基板之中心部变细之情形，从而抑制处理的不均。

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