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1. 发明专利

TWI644345B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI644345B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106104127
申请日：2017-02-08
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027

2. 发明专利

TWI649642B 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法有权
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI649642B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106135708
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/16

3. 发明专利

TW201835686A 曝光裝置、基板處理裝置、基板的曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板的曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201835686A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106136368
申请日：2017-10-23
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/16
摘要：一種曝光裝置，係具備：處理室，係收容基板且具有開口；透光性之窗構件，係安裝於處理室之開口；光源部，係通過窗構件對處理室內部之基板照射真空紫外線；以及氣流形成部，用以形成沿著窗構件之一表面的惰性氣體之流動。在該曝光裝置中係能通過已安裝於處理室之開口的透光性之窗構件，藉由光源部對已收容於處理室內部的基板照射真空紫外線。另外，藉由氣流形成部來形成沿著窗構件之一表面的惰性氣體之流動。
简体摘要：一种曝光设备，系具备：处理室，系收容基板且具有开口；透光性之窗构件，系安装于处理室之开口；光源部，系通过窗构件对处理室内部之基板照射真空紫外线；以及气流形成部，用以形成沿着窗构件之一表面的惰性气体之流动。在该曝光设备中系能通过已安装于处理室之开口的透光性之窗构件，借由光源部对已收容于处理室内部的基板照射真空紫外线。另外，借由气流形成部来形成沿着窗构件之一表面的惰性气体之流动。

4. 发明专利

TW201842543A 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201842543A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106135709
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：一種曝光裝置，係以曝光模式和維護模式來切換曝光裝置之動作模式。在曝光模式中係以框體內部之氧濃度成為比大氣中之氧濃度更低的曝光濃度之方式使框體內部之氛圍自抽吸裝置進行排氣。在此狀態下，藉由自光源部對框體內部之基板照射真空紫外線來曝光基板。在維護模式中係在框體內部之氧濃度比曝光模式中的氧濃度更高的狀態下，藉由自光源部對框體內部之氛圍照射真空紫外線來產生臭氧。
简体摘要：一种曝光设备，系以曝光模式和维护模式来切换曝光设备之动作模式。在曝光模式中系以框体内部之氧浓度成为比大气中之氧浓度更低的曝光浓度之方式使框体内部之氛围自抽吸设备进行排气。在此状态下，借由自光源部对框体内部之基板照射真空紫外线来曝光基板。在维护模式中系在框体内部之氧浓度比曝光模式中的氧浓度更高的状态下，借由自光源部对框体内部之氛围照射真空紫外线来产生臭氧。

5. 发明专利

TWI636490B 顯像裝置、基板處理裝置、顯像方法以及基板處理方法有权
简体标题：显像设备、基板处理设备、显像方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI636490B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW106135707
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32

6. 发明专利

TWI635436B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI635436B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW106113085
申请日：2017-04-19
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA
IPC分类号： G06F7/16 , G06F7/20 , H01L21/67

7. 发明专利

TW201742111A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201742111A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106104127
申请日：2017-02-08
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/027
摘要：一種基板處理裝置及基板處理方法，係在基板之被處理面形成有包含金屬成分及感光性材料的阻劑膜之後，藉由邊緣曝光部來對基板之周緣部照射光。藉此，能使基板之周緣部上的阻劑膜之部分曝光。接著，藉由顯影液噴嘴來對基板之周緣部供給顯影液，藉此進行被曝光後的阻劑膜之部分的顯影處理。藉此，能除去基板之周緣部上所形成的阻劑膜之部分。之後，基板被搬運至曝光裝置。在曝光裝置中對基板進行曝光處理，藉此在阻劑膜形成有曝光圖案，接著在顯影處理單元中對曝光處理後之基板供給顯影液，藉此進行阻劑膜之顯影處理。
简体摘要：一种基板处理设备及基板处理方法，系在基板之被处理面形成有包含金属成分及感光性材料的阻剂膜之后，借由边缘曝光部来对基板之周缘部照射光。借此，能使基板之周缘部上的阻剂膜之部分曝光。接着，借由显影液喷嘴来对基板之周缘部供给显影液，借此进行被曝光后的阻剂膜之部分的显影处理。借此，能除去基板之周缘部上所形成的阻剂膜之部分。之后，基板被搬运至曝光设备。在曝光设备中对基板进行曝光处理，借此在阻剂膜形成有曝光图案，接着在显影处理单元中对曝光处理后之基板供给显影液，借此进行阻剂膜之显影处理。

8. 发明专利

TWI682433B 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法有权
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI682433B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW106135709
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

9. 发明专利

TW201833670A 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201833670A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106135708
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/16
摘要：一種曝光裝置，係具備投光部、照度計、遮光部及投光控制部。藉由投光部來對基板之被處理面照射真空紫外線。在真空紫外線從投光部往基板的照射期間，藉由照度計來接收真空紫外線之一部分，且計測所接收到的真空紫外線之照明度。在照射期間藉由遮光部來斷續地遮蔽真空紫外線往照度計之受光面的射入。基於藉由照、度計所計測到的照明度來停止藉由投光部所為的真空紫外線往基板之照射。
简体摘要：一种曝光设备，系具备投光部、照度计、遮光部及投光控制部。借由投光部来对基板之被处理面照射真空紫外线。在真空紫外线从投光部往基板的照射期间，借由照度计来接收真空紫外线之一部分，且计测所接收到的真空紫外线之照明度。在照射期间借由遮光部来断续地屏蔽真空紫外线往照度计之受光面的射入。基于借由照、度计所计测到的照明度来停止借由投光部所为的真空紫外线往基板之照射。

10. 发明专利

TW201820409A 顯像裝置、基板處理裝置、顯像方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：显像设备、基板处理设备、显像方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201820409A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106135707
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32
摘要：於基板的一表面上形成有含金屬塗佈膜，於含金屬塗佈膜上藉由感光性的有機材料而形成有機塗佈膜，有機塗佈膜被曝光成預定的圖案。顯像液藉由細縫噴嘴而供給於有機塗佈膜，藉此有機塗佈膜形成預定的圖案。另外，置換液係藉由置換噴嘴而供給於有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜，藉此含金屬塗佈膜的部分被去除，於含金屬塗佈膜形成預定的圖案。清洗液藉由清洗噴嘴而供給於具有有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜的圖案的基板。
简体摘要：于基板的一表面上形成有含金属涂布膜，于含金属涂布膜上借由感光性的有机材料而形成有机涂布膜，有机涂布膜被曝光成预定的图案。显像液借由细缝喷嘴而供给于有机涂布膜，借此有机涂布膜形成预定的图案。另外，置换液系借由置换喷嘴而供给于有机涂布膜的图案及含金属涂布膜，借此含金属涂布膜的部分被去除，于含金属涂布膜形成预定的图案。清洗液借由清洗喷嘴而供给于具有有机涂布膜的图案及含金属涂布膜的图案的基板。

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