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1. 发明专利

TWI553413B 圖案形成方法、樹脂組成物、多層抗蝕劑圖案、用於有機溶劑顯影的多層膜、抗蝕劑組成物、電子元件的製造方法及電子元件有权
简体标题：图案形成方法、树脂组成物、多层抗蚀剂图案、用于有机溶剂显影的多层膜、抗蚀剂组成物、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TWI553413B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW101139552
申请日：2012-10-25
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 加藤啟太 , KATO, KEITA , 男谷唯宏 , ODANI, TADAHIRO , 中村敦 , NAKAMURA, ATSUSHI , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 岩戶薰 , IWATO, KAORU
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , H01L21/0271

2. 发明专利

TWI546623B 負型圖案形成方法及抗蝕劑圖案有权
简体标题：负型图案形成方法及抗蚀剂图案
公开(公告)号：TWI546623B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW100143842
申请日：2011-11-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 藤井佳奈 , FUJII, KANA , 上村聰 , KAMIMURA, SOU , 岩戶薰 , IWATO, KAORU
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/40 , Y10T428/24802

3. 发明专利

TWI522745B 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物及光阻膜有权
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物及光阻膜
公开(公告)号：TWI522745B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW100100660
申请日：2011-01-07
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：榎本雄一郎 , ENOMOTO, YUICHIRO , 樽谷晉司 , TARUTANI, SHINJI , 上村聰 , KAMIMURA, SOU , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 加藤啟太 , KATOU, KEITA , 涉谷明規 , SHIBUYA, AKINORI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/075 , C08F220/18 , C08F220/32 , C08F234/02 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041

4. 发明专利

TW201327053A 圖案形成方法、多層抗蝕劑圖案、用於有機溶劑顯影的多層膜、電子元件的製造方法以及電子元件审中-公开
简体标题：图案形成方法、多层抗蚀剂图案、用于有机溶剂显影的多层膜、电子组件的制造方法以及电子组件
公开(公告)号：TW201327053A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101139761
申请日：2012-10-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 男谷唯宏 , ODANI, TADAHIRO , 中村敦 , NAKAMURA, ATSUSHI , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 岩戶薰 , IWATO, KAORU
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/095 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/094 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/095 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：一種圖案形成方法包括：藉由使用第一樹脂組成物(I)在基板上形成底部抗反射塗層的步驟(i)；藉由使用第二樹脂組成物(II)在所述底部抗反射塗層上形成抗蝕劑膜的步驟(ii)；將具有所述底部抗反射塗層以及所述抗蝕劑膜之多層膜曝光的步驟(iii)；以及藉由使用含有機溶劑之顯影劑使所述已曝光之多層膜中的所述底部抗反射塗層以及所述抗蝕劑膜顯影以形成負型圖案的步驟(iv)。
简体摘要：一种图案形成方法包括：借由使用第一树脂组成物(I)在基板上形成底部抗反射涂层的步骤(i)；借由使用第二树脂组成物(II)在所述底部抗反射涂层上形成抗蚀剂膜的步骤(ii)；将具有所述底部抗反射涂层以及所述抗蚀剂膜之多层膜曝光的步骤(iii)；以及借由使用含有机溶剂之显影剂使所述已曝光之多层膜中的所述底部抗反射涂层以及所述抗蚀剂膜显影以形成负型图案的步骤(iv)。

5. 发明专利

TW201317711A 圖案形成方法、樹脂組成物以及膜审中-公开
简体标题：图案形成方法、树脂组成物以及膜
公开(公告)号：TW201317711A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101131568
申请日：2012-08-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 中村敦 , NAKAMURA, ATSUSHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C2602/14 , C07C2603/56 , C07C2603/74 , C08F212/08 , C08F220/10 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/325 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , Y10S430/114
摘要：提供一種圖案形成方法，包含使感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成膜；使所述膜曝露於光化射線或放射線；以及用包含有機溶劑之顯影劑使所述經曝光之膜顯影，從而形成負型圖案，其中所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物包含：樹脂（A），樹脂（A）包含重複單元，所述重複單元含有在酸作用下時分解從而產生極性基團之基團且包含芳族基，所述樹脂在酸作用下時降低其在有機溶劑中之溶解度；非離子型化合物（B），非離子型化合物（B）當曝露於光化射線或放射線時產生酸；以及溶劑（C）。
简体摘要：提供一种图案形成方法，包含使感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜；使所述膜曝露于光化射线或放射线；以及用包含有机溶剂之显影剂使所述经曝光之膜显影，从而形成负型图案，其中所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含：树脂（A），树脂（A）包含重复单元，所述重复单元含有在酸作用下时分解从而产生极性基团之基团且包含芳族基，所述树脂在酸作用下时降低其在有机溶剂中之溶解度；非离子型化合物（B），非离子型化合物（B）当曝露于光化射线或放射线时产生酸；以及溶剂（C）。

6. 发明专利

TW201303506A 圖案形成方法及用於該方法的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物审中-公开
简体标题：图案形成方法及用于该方法的感光化射线性或感放射线性树脂组成物
公开(公告)号：TW201303506A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101122912
申请日：2012-06-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 加藤啟太 , KATO, KEITA
IPC分类号： G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/40
摘要：提供一種可廉價地實施且於階差基板上之圖案形成性優異之圖案形成方法、及用於該方法的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物。本發明之圖案形成方法之特徵在於包含如下步驟：(一)使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物而形成膜的步驟，所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有具有由下述通式(I)及通式(II)之至少1個所表示之至少1種重複單元(a)、以及由下述通式(III)、通式(IV)及通式(V)之至少1個所表示之至少1種重複單元(b)的樹脂(P)與藉由照射光化射線或放射線而產生酸之化合物(B)；(二)藉由KrF準分子雷射對所述膜進行曝光的步驟；(三)使用包含有機溶劑之顯影液對所述膜進行顯影，形成負型圖案的步驟。
简体摘要：提供一种可廉价地实施且于阶差基板上之图案形成性优异之图案形成方法、及用于该方法的感光化射线性或感放射线性树脂组成物。本发明之图案形成方法之特征在于包含如下步骤：(一)使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物而形成膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有具有由下述通式(I)及通式(II)之至少1个所表示之至少1种重复单元(a)、以及由下述通式(III)、通式(IV)及通式(V)之至少1个所表示之至少1种重复单元(b)的树脂(P)与借由照射光化射线或放射线而产生酸之化合物(B)；(二)借由KrF准分子激光对所述膜进行曝光的步骤；(三)使用包含有机溶剂之显影液对所述膜进行显影，形成负型图案的步骤。

7. 发明专利

TW201303495A 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201303495A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101119042
申请日：2012-05-29
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 齊藤翔一 , SAITOH, SHOICHI , 吉野文博 , YOSHINO, FUMIHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
摘要：一種圖案形成方法，包括：(i)藉由使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成膜之步驟，所述組成物含有：含有具有能夠藉由酸作用而分解產生極性基團之基團的重複單元的樹脂(A)，能夠在用光化射線或放射線照射時產生酸之化合物(B)，以及溶劑(C)；(ii)使所述膜曝光之步驟；以及(iii)藉由使用含有機溶劑之顯影劑使經曝光之膜顯影形成負型圖案之步驟，其中以樹脂(A)中之所有重複單元計，由下式(I)表示之重複單元的含量小於20莫耳%，且樹脂(A)含有除由特定式表示之重複單元以外的具有非酚芳族基之重複單元。
简体摘要：一种图案形成方法，包括：(i)借由使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜之步骤，所述组成物含有：含有具有能够借由酸作用而分解产生极性基团之基团的重复单元的树脂(A)，能够在用光化射线或放射线照射时产生酸之化合物(B)，以及溶剂(C)；(ii)使所述膜曝光之步骤；以及(iii)借由使用含有机溶剂之显影剂使经曝光之膜显影形成负型图案之步骤，其中以树脂(A)中之所有重复单元计，由下式(I)表示之重复单元的含量小于20莫耳%，且树脂(A)含有除由特定式表示之重复单元以外的具有非酚芳族基之重复单元。

8. 发明专利

TWI556058B 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、電子元件的製造方法及電子元件有权
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TWI556058B
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW101119042
申请日：2012-05-29
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 齊藤翔一 , SAITOH, SHOICHI , 吉野文博 , YOSHINO, FUMIHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325

9. 发明专利

TWI541617B 圖案形成方法有权
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TWI541617B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW100133211
申请日：2011-09-15
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：上村聰 , KAMIMURA, SOU , 山中司 , YAMANAKA, TSUKASA , 榎本雄一郎 , ENOMOTO, YUICHIRO , 加藤啟太 , KATO, KEITA
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/405 , Y10T428/24802

10. 发明专利

TWI514077B 圖案形成方法、樹脂組成物、膜以及製造半導體元件之方法有权
简体标题：图案形成方法、树脂组成物、膜以及制造半导体组件之方法
公开(公告)号：TWI514077B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW101131568
申请日：2012-08-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啟太 , KATO, KEITA , 中村敦 , NAKAMURA, ATSUSHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C2602/14 , C07C2603/56 , C07C2603/74 , C08F212/08 , C08F220/10 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/325 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , Y10S430/114

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