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1. 发明专利

TW201829653A 含有氟化熱酸產生劑的面漆組合物审中-公开
简体标题：含有氟化热酸产生剂的面漆组合物
公开(公告)号：TW201829653A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106135779
申请日：2017-10-18
申请人：美商羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：考爾艾維戴爾 , KAUR, IRVINDER , 康桃樂絲 , KANG, DORIS , 劉聰 , LIU, CONG , 波勒斯格哈德 , POHLERS, GERHARD , 李明琦 , LI, MINGQI
IPC分类号： C09D7/12 , C09D201/00 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要：本發明提供面漆組合物，其包含：基質聚合物；表面活性聚合物；包括陰離子及陽離子的離子性熱酸產生劑，其中所述陰離子、所述陽離子或所述陰離子及所述陽離子經氟化；及溶劑。亦提供經塗佈基板及利用所述面漆組合物的圖案形成方法。本發明特別適用於光刻製程，在製造半導體裝置中作為光致抗蝕劑面漆層。
简体摘要：本发明提供面漆组合物，其包含：基质聚合物；表面活性聚合物；包括阴离子及阳离子的离子性热酸产生剂，其中所述阴离子、所述阳离子或所述阴离子及所述阳离子经氟化；及溶剂。亦提供经涂布基板及利用所述面漆组合物的图案形成方法。本发明特别适用于光刻制程，在制造半导体设备中作为光致抗蚀剂面漆层。

2. 发明专利

TWI614571B 層合構造物、可撓性印刷配線板及其製造方法有权
简体标题：层合构造物、可挠性印刷配线板及其制造方法
公开(公告)号：TWI614571B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW103114237
申请日：2014-04-18
申请人：太陽油墨製造股份有限公司 , TAIYO INK MFG. CO., LTD.
发明人：宮部英和 , MIYABE, HIDEKAZU , 林亮 , HAYASHI, MAKOTO , 橫山裕 , YOKOYAMA, YUTAKA , 小池直之 , KOIKE, NAOYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/095 , H05K1/03 , H05K3/28
CPC分类号： H05K3/28 , H05K3/287 , H05K3/3452 , H05K2201/0195

3. 发明专利

TWI596429B 抗焊劑組成物、及被覆印刷線路板有权
简体标题：抗焊剂组成物、及被覆印刷线路板
公开(公告)号：TWI596429B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105104099
申请日：2016-02-05
申请人：互應化學工業股份有限公司 , GOO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：樋口倫也 , HIGUCHI, MICHIYA , 丸澤尙 , MARUSAWA, HISASHI , 荒井貴 , ARAI, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , C08F290/00 , G03F7/027 , G03F7/031 , C08G59/40 , C09B67/22 , G03F7/095 , H05K3/28
CPC分类号： C08F2/50 , C08F290/00 , C08G59/40 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/095 , H05K3/28

4. 发明专利

TW201708964A 用以使用二次曝光界定多個層圖案的方法审中-公开
简体标题：用以使用二次曝光界定多个层图案的方法
公开(公告)号：TW201708964A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104138455
申请日：2015-11-20
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.
发明人：翁明暉 , WENG, MING HUEI , 張慶裕 , CHANG, CHING YU , 陳俊光 , CHEN, CHUN KUANG
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/20 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/091 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/2022 , G03F7/203 , G03F7/32 , G03F7/38
摘要：本發明提供用以使用二次曝光界定多個層圖案的方法，包含在基板上方形成第一光致抗蝕劑層，保護層材料沉積於第一光致抗蝕劑層上方以形成保護層。在保護層上方形成第二光致抗蝕劑層。通過第一掩模執行第一光刻曝光過程，以曝光第一光致抗蝕劑層及第二光致抗蝕劑層並且形成底部潛在圖案。通過第二掩模執行第二光刻曝光過程，以曝光第一光致抗蝕劑層及第二光致抗蝕劑層並且形成頂部潛在圖案，其中頂部潛在圖案與底部潛在圖案至少部分地重疊。顯影第一光致抗蝕劑層及第二光致抗蝕劑層以及保護層，以形成分別來自底部潛在圖案及頂部潛在圖案的第一主要特徵及第二主要特徵及保護層中的與第二主要特徵垂直對準的開口。
简体摘要：本发明提供用以使用二次曝光界定多个层图案的方法，包含在基板上方形成第一光致抗蚀剂层，保护层材料沉积于第一光致抗蚀剂层上方以形成保护层。在保护层上方形成第二光致抗蚀剂层。通过第一掩模运行第一光刻曝光过程，以曝光第一光致抗蚀剂层及第二光致抗蚀剂层并且形成底部潜在图案。通过第二掩模运行第二光刻曝光过程，以曝光第一光致抗蚀剂层及第二光致抗蚀剂层并且形成顶部潜在图案，其中顶部潜在图案与底部潜在图案至少部分地重叠。显影第一光致抗蚀剂层及第二光致抗蚀剂层以及保护层，以形成分别来自底部潜在图案及顶部潜在图案的第一主要特征及第二主要特征及保护层中的与第二主要特征垂直对准的开口。

5. 发明专利

TW201641277A 膜、膜的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器审中-公开
简体标题：膜、膜的制造方法、固体摄像组件及红外线传感器
公开(公告)号：TW201641277A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105111569
申请日：2016-04-14
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：尾田和也 , OOTA, KAZUYA , 荒山恭平 , ARAYAMA, KYOHEI , 森全弘 , MORI, MASAHIRO
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/18 , C09B23/00 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/095 , H01L27/14 , H04N9/07 , H04N5/335
CPC分类号： G03F7/0007 , C09B57/00 , C09B57/004 , C09B67/0097 , G02B5/208 , G02B5/22 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/40 , H01L27/14 , H01L27/144 , H01L27/1462 , H01L27/14621 , H01L27/14627
摘要：本發明提供一種膜、膜的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器。膜的膜厚度方向上之光的透射率在波長450～650nm的範圍中之最大值為20%以下，膜厚度方向上之波長835nm的光的透射率為20%以下，膜厚度方向上之光的透射率在波長1000～1300nm的範圍中之最小值為70%以上，該膜的製造方法具有形成第1分光層之步驟及形成第2分光層之步驟，用於製造該膜之套組具有第1組成物和第2組成物。
简体摘要：本发明提供一种膜、膜的制造方法、固体摄像组件及红外线传感器。膜的膜厚度方向上之光的透射率在波长450～650nm的范围中之最大值为20%以下，膜厚度方向上之波长835nm的光的透射率为20%以下，膜厚度方向上之光的透射率在波长1000～1300nm的范围中之最小值为70%以上，该膜的制造方法具有形成第1分光层之步骤及形成第2分光层之步骤，用于制造该膜之套组具有第1组成物和第2组成物。

6. 实用新型

TWM497811U 面板結構失效
简体标题：皮肤结构
公开(公告)号：TWM497811U
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW103213669
申请日：2014-08-01
申请人：明興光電股份有限公司 , UNIDISPLAY INC.
发明人：蔡岳如 , TSAI, YUEH JU , 王威捷 , WANG, WEI JIE , 林俊亨 , LIN, CHUN HENG , 林聖賢 , LIN, SHENG HSIEN , 姜智遠 , CHIANG, CHIH YUAN
IPC分类号： G06F3/041 , G03F7/095

7. 发明专利

TW201439683A 圖案形成方法审中-公开
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TW201439683A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103104488
申请日：2014-02-11
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 片山和弘 , KATAYAMA, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2024 , G03F7/0035 , G03F7/0397
摘要：一種圖案形成方法，其特徵為:在被加工基板上塗佈包含含有具酸不安定基的重複單元且藉由酸不安定基之脫離會變成不溶於有機溶劑顯影液的樹脂、光酸產生劑及第1有機溶劑的第1光阻材料，藉由預烘去除不要的溶劑，對於該光阻膜以高能射線進行圖案照射，進行曝光後加熱，以該有機溶劑顯影液顯影而獲得負型圖案，加熱第1負圖案而給與對於在第2光阻材料使用之第2有機溶劑之耐性，經由塗佈第2光阻材料、預烘、曝光、PEB、以有機溶劑進行的顯影之步驟形成與第1負圖案相異之負圖案，而同時形成第1光阻材料之負圖案與第2光阻材料之負圖案。依本發明，可形成以1次之負圖案無法形成的圖案。
简体摘要：一种图案形成方法，其特征为:在被加工基板上涂布包含含有具酸不安定基的重复单元且借由酸不安定基之脱离会变成不溶于有机溶剂显影液的树脂、光酸产生剂及第1有机溶剂的第1光阻材料，借由预烘去除不要的溶剂，对于该光阻膜以高能射线进行图案照射，进行曝光后加热，以该有机溶剂显影液显影而获得负型图案，加热第1负图案而给与对于在第2光阻材料使用之第2有机溶剂之耐性，经由涂布第2光阻材料、预烘、曝光、PEB、以有机溶剂进行的显影之步骤形成与第1负图案相异之负图案，而同时形成第1光阻材料之负图案与第2光阻材料之负图案。依本发明，可形成以1次之负图案无法形成的图案。

8. 发明专利

TWI686451B 含有氟化熱酸產生劑的面漆組合物有权
简体标题：含有氟化热酸产生剂的面漆组合物
公开(公告)号：TWI686451B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW106135779
申请日：2017-10-18
申请人：美商羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：考爾艾維戴爾 , KAUR, IRVINDER , 康桃樂絲 , KANG, DORIS , 劉聰 , LIU, CONG , 波勒斯格哈德 , POHLERS, GERHARD , 李明琦 , LI, MINGQI
IPC分类号： C09D7/40 , C09D201/00 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027

9. 发明专利

TW201835685A 凹版之製造方法及凹版製造裝置审中-公开
简体标题：凹版之制造方法及凹版制造设备
公开(公告)号：TW201835685A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107103609
申请日：2018-02-01
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：村元秀次 , MURAMOTO, SHUJI , 川越理史 , KAWAGOE, MASAFUMI , 増尾純一 , MASUO, JUNICHI
IPC分类号： G03F7/12 , G03F7/20 , G03F7/095
摘要：本發明提供一種技術，其藉由使感光性材料曝光而製造凹版，其可針對每一種開口尺寸個別地控制凹部之深度，且可縮短製造所需之時間。有關具有平坦部與複數個凹部之凹版之製造方法之本發明具備：第1步驟(步驟S103)，其使由光硬化性材料形成之感光層中之成為平坦部之區域以為了將凹部中之開口尺寸為最小之第1尺寸之凹部設為目標深度所需之第1曝光量進行曝光而硬化；及第2步驟(步驟S106)，其不使感光層中之成為具有第1尺寸之凹部之第1區域曝光，而使感光層中之成為開口尺寸為較第1尺寸大之第2尺寸之凹部之第2區域以第2曝光量進行曝光。
简体摘要：本发明提供一种技术，其借由使感光性材料曝光而制造凹版，其可针对每一种开口尺寸个别地控制凹部之深度，且可缩短制造所需之时间。有关具有平坦部与复数个凹部之凹版之制造方法之本发明具备：第1步骤(步骤S103)，其使由光硬化性材料形成之感光层中之成为平坦部之区域以为了将凹部中之开口尺寸为最小之第1尺寸之凹部设为目标深度所需之第1曝光量进行曝光而硬化；及第2步骤(步骤S106)，其不使感光层中之成为具有第1尺寸之凹部之第1区域曝光，而使感光层中之成为开口尺寸为较第1尺寸大之第2尺寸之凹部之第2区域以第2曝光量进行曝光。

10. 发明专利

TW201826024A 圖案形成方法、積層體的製造方法及電子裝置的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、积层体的制造方法及电子设备的制造方法
公开(公告)号：TW201826024A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106128841
申请日：2017-08-25
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：犬島孝能 , INUJIMA, TAKAYOSHI , 伊藤勝志 , ITO, KATSUYUKI , 萬克魯斯特斯特凡 , VANCLOOSTER, STEFAN , 村山哲 , MURAYAMA, SATORU
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/095 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種能夠以解析度良好地形成厚度不同之兩種以上的圖案之圖案形成方法、積層體的製造方法及電子裝置的製造方法。本發明的圖案形成方法，其使用包含樹脂及光聚合起始劑之負型感光性樹脂組成物來形成負型感光性樹脂組成物層，並對負型感光性樹脂組成物層進行曝光及顯影而同時形成厚度不同之兩種以上的圖案，同時形成之厚度不同之圖案中的最厚的圖案的厚度為最薄的圖案的厚度的1.5～10倍，且作為負型感光性樹脂組成物使用能夠解析厚度15μm、線寬15μm以下的圖案之曝光量的最大值與最小值之差為600mJ/cm2以上。
简体摘要：本发明提供一种能够以分辨率良好地形成厚度不同之两种以上的图案之图案形成方法、积层体的制造方法及电子设备的制造方法。本发明的图案形成方法，其使用包含树脂及光聚合起始剂之负型感光性树脂组成物来形成负型感光性树脂组成物层，并对负型感光性树脂组成物层进行曝光及显影而同时形成厚度不同之两种以上的图案，同时形成之厚度不同之图案中的最厚的图案的厚度为最薄的图案的厚度的1.5～10倍，且作为负型感光性树脂组成物使用能够解析厚度15μm、线宽15μm以下的图案之曝光量的最大值与最小值之差为600mJ/cm2以上。

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