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    • 2. 发明专利
    • 極紫外線輻射裝置以及輻射產生方法
    • 极紫外线辐射设备以及辐射产生方法
    • TW201643549A
    • 2016-12-16
    • TW104138762
    • 2015-11-23
    • 台灣積體電路製造股份有限公司TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
    • 吳小真WU, TSIAO CHEN許照榮SHIN, JAW JUNG
    • G03F7/20
    • H05G2/005G03F7/70033H05G2/006H05G2/008
    • 本揭示文件係關於一種極紫外線(Extreme ultraviolet;EUV)輻射裝置及相關方法,極紫外線輻射裝置產生具有受電磁場控制之軌道的帶電錫液滴。在一些實施例中,極紫外線輻射裝置具有產生雷射束的雷射。帶電燃料液滴產生器將具有淨電荷的複數個帶電燃料液滴提供至極紫外線源容器。電磁場產生器產生電場及/或磁場。帶電燃料液滴之淨電荷引發電場或磁場對帶電燃料液滴產生力,力控制帶電燃料液滴之軌道與雷射束相交。藉由使用電場或磁場控制帶電燃料液滴之軌道,極紫外線系統能夠避免雷射束與帶電燃料液滴之間的聚焦問題。
    • 本揭示文档系关于一种极紫外线(Extreme ultraviolet;EUV)辐射设备及相关方法,极紫外线辐射设备产生具有受电磁场控制之轨道的带电锡液滴。在一些实施例中,极紫外线辐射设备具有产生激光束的激光。带电燃料液滴产生器将具有净电荷的复数个带电燃料液滴提供至极紫外线源容器。电磁场产生器产生电场及/或磁场。带电燃料液滴之净电荷引发电场或磁场对带电燃料液滴产生力,力控制带电燃料液滴之轨道与激光束相交。借由使用电场或磁场控制带电燃料液滴之轨道,极紫外线系统能够避免激光束与带电燃料液滴之间的聚焦问题。