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1. 发明专利

TW201344371A 光罩、極紫外光光罩與其製法审中-公开
简体标题：光罩、极紫外光光罩与其制法
公开(公告)号：TW201344371A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101144267
申请日：2012-11-27
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：許倍誠 , HSU, PEI CHENG , 石志聰 , SHIH, CHIH TSUNG , 陳嘉仁 , CHEN, CHIA JEN , 吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 游信勝 , YU, SHINN SHENG , 李信昌 , LEE, HSIN CHANG , 嚴濤南 , YEN, ANTHONY
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/24 , G03F1/48 , H01L21/0337
摘要：本發明提供一種極紫外光光罩與其製法。極紫外光光罩包括：低熱膨脹材料板；導電層沉積於低熱膨脹材料基板之第一表面上；一反射複合層的堆疊結構沉積於低熱膨脹材料基板之第二表面上；蓋層沉積於反射複合層的堆疊結構之上；第一吸收層沉積於蓋層之上；主要圖案與邊界間的溝槽，而溝槽蝕刻至蓋層；以及第二吸收層填入溝槽內。
简体摘要：本发明提供一种极紫外光光罩与其制法。极紫外光光罩包括：低热膨胀材料板；导电层沉积于低热膨胀材料基板之第一表面上；一反射复合层的堆栈结构沉积于低热膨胀材料基板之第二表面上；盖层沉积于反射复合层的堆栈结构之上；第一吸收层沉积于盖层之上；主要图案与边界间的沟槽，而沟槽蚀刻至盖层；以及第二吸收层填入沟槽内。

2. 发明专利

TW201824957A 高亮度光線的產生方法审中-公开
简体标题：高亮度光线的产生方法
公开(公告)号：TW201824957A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106133358
申请日：2017-09-28
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 張俊霖 , CHANG, CHUN LIN LOUIS
IPC分类号： H05G2/00
摘要：一種高亮度光線的產生方法，包括將氣態材料引入標靶材料。上述方法更包括將標靶材料供應至燃料標靶產生器中。上述方法亦包括藉由推進具有氣態材料的標靶材料離開燃料標靶產生器而產生標靶。另外，上述方法包括將標靶中的氣態材料擴展以轉換標靶為標靶霧。上述方法亦包括將主要脈衝雷射聚焦於標靶霧上以產生放射高亮度光線的電漿。
简体摘要：一种高亮度光线的产生方法，包括将气态材料引入标靶材料。上述方法更包括将标靶材料供应至燃料标靶产生器中。上述方法亦包括借由推进具有气态材料的标靶材料离开燃料标靶产生器而产生标靶。另外，上述方法包括将标靶中的气态材料扩展以转换标靶为标靶雾。上述方法亦包括将主要脉冲激光聚焦于标靶雾上以产生放射高亮度光线的等离子。

3. 发明专利

TW201643549A 極紫外線輻射裝置以及輻射產生方法审中-公开
简体标题：极紫外线辐射设备以及辐射产生方法
公开(公告)号：TW201643549A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW104138762
申请日：2015-11-23
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 許照榮 , SHIN, JAW JUNG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H05G2/005 , G03F7/70033 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要：本揭示文件係關於一種極紫外線(Extreme ultraviolet；EUV)輻射裝置及相關方法，極紫外線輻射裝置產生具有受電磁場控制之軌道的帶電錫液滴。在一些實施例中，極紫外線輻射裝置具有產生雷射束的雷射。帶電燃料液滴產生器將具有淨電荷的複數個帶電燃料液滴提供至極紫外線源容器。電磁場產生器產生電場及/或磁場。帶電燃料液滴之淨電荷引發電場或磁場對帶電燃料液滴產生力，力控制帶電燃料液滴之軌道與雷射束相交。藉由使用電場或磁場控制帶電燃料液滴之軌道，極紫外線系統能夠避免雷射束與帶電燃料液滴之間的聚焦問題。
简体摘要：本揭示文档系关于一种极紫外线(Extreme ultraviolet；EUV)辐射设备及相关方法，极紫外线辐射设备产生具有受电磁场控制之轨道的带电锡液滴。在一些实施例中，极紫外线辐射设备具有产生激光束的激光。带电燃料液滴产生器将具有净电荷的复数个带电燃料液滴提供至极紫外线源容器。电磁场产生器产生电场及/或磁场。带电燃料液滴之净电荷引发电场或磁场对带电燃料液滴产生力，力控制带电燃料液滴之轨道与激光束相交。借由使用电场或磁场控制带电燃料液滴之轨道，极紫外线系统能够避免激光束与带电燃料液滴之间的聚焦问题。

4. 发明专利

TW201416804A 紫外光微影裝置及圖案化的方法审中-公开
简体标题：紫外光微影设备及图案化的方法
公开(公告)号：TW201416804A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102133443
申请日：2013-09-16
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：張書豪 , CHANG, SHU HAO , 吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 許家豪 , HSU, CHIA HAO , 陳家楨 , CHEN, CHIA CHEN , 陳映予 , CHEN, YING YU , 李慈莉 , LEE, TZU LI , 簡上傑 , CHIEN, SHANG CHIEH , 陳政宏 , CHEN, JENG HORNG , 嚴濤南 , YEN, ANTHONY
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2002 , G03F7/20 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要：本發明揭露一種紫外光及極紫外光微影圖案化的裝置及方法。產生紫外光線或極紫外光線並導向設置於一平台且塗佈光阻的一基板的表面上。在曝光(即，微影製程的操作步驟)期間，一層流的惰性氣體流過且接近塗佈光阻的基板表面。在曝光處，惰性氣體快速地排出且共振時間短。惰性氣體流體可防止光阻釋放氣體而產生的煙道氣體及其他汙染物沉澱及汙染微影製程裝置中的其他特徵部件。
简体摘要：本发明揭露一种紫外光及极紫外光微影图案化的设备及方法。产生紫外光线或极紫外光线并导向设置于一平台且涂布光阻的一基板的表面上。在曝光(即，微影制程的操作步骤)期间，一层流的惰性气体流过且接近涂布光阻的基板表面。在曝光处，惰性气体快速地排出且共振时间短。惰性气体流体可防止光阻释放气体而产生的烟道气体及其他污染物沉淀及污染微影制程设备中的其他特征部件。

5. 发明专利

TWI572997B 極紫外線輻射裝置以及輻射產生方法有权
简体标题：极紫外线辐射设备以及辐射产生方法
公开(公告)号：TWI572997B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104138762
申请日：2015-11-23
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 許照榮 , SHIN, JAW JUNG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H05G2/005 , G03F7/70033 , H05G2/006 , H05G2/008

6. 发明专利

TWI519903B 紫外光微影裝置及圖案化的方法有权
简体标题：紫外光微影设备及图案化的方法
公开(公告)号：TWI519903B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW102133443
申请日：2013-09-16
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：張書豪 , CHANG, SHU HAO , 吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 許家豪 , HSU, CHIA HAO , 陳家楨 , CHEN, CHIA CHEN , 陳映予 , CHEN, YING YU , 李慈莉 , LEE, TZU LI , 簡上傑 , CHIEN, SHANG CHIEH , 陳政宏 , CHEN, JENG HORNG , 嚴濤南 , YEN, ANTHONY
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2002 , G03F7/20 , G03F7/70916 , G03F7/70933

7. 发明专利

TWI477927B 光罩、極紫外光光罩與其製法有权
简体标题：光罩、极紫外光光罩与其制法
公开(公告)号：TWI477927B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW101144267
申请日：2012-11-27
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：許倍誠 , HSU, PEI CHENG , 石志聰 , SHIH, CHIH TSUNG , 陳嘉仁 , CHEN, CHIA JEN , 吳小真 , WU, TSIAO CHEN , 游信勝 , YU, SHINN SHENG , 李信昌 , LEE, HSIN CHANG , 嚴濤南 , YEN, ANTHONY
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/24 , G03F1/48 , H01L21/0337

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