基本信息:
- 专利标题： 用於光罩製作之積體電路設計方法
- 专利标题（英）：Method for making a mask for an integrated circuit design
- 专利标题（中）：用于光罩制作之集成电路设计方法
- 申请号：TW102122906 申请日：2013-06-27
- 公开(公告)号：TWI476509B 公开(公告)日：2015-03-11
- 发明人： 許照榮 , SHIN, JAW JUNG , 林世杰 , LIN, SHY JAY , 林華泰 , LIN, HUA TAI , 林本堅 , LIN, BURN JENG
- 申请人： 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 申请人地址： 新竹市
- 专利权人： 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人： 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 新竹市
- 代理人： 洪澄文; 顏錦順
- 优先权： 13/534,765 20120627
- 主分类号： G03F1/36
- IPC分类号： G03F1/36 ; H01L21/31 ; G06F17/50
公开/授权文献:
- TW201407264A 用於光罩製作之積體電路設計方法 公开/授权日：2014-02-16