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    • 2. 发明专利
    • 磁控管電漿處理裝置
    • 磁控管等离子处理设备
    • TW516115B
    • 2003-01-01
    • TW089117806
    • 2000-08-31
    • 東京威力科創股份有限公司信越化學工業股份有限公司
    • 山 智美木村英利荒見淳一小野博夫輿石 公宮田浩二
    • H01LC23FH01JH05HC23C
    • H01J37/3266H01J37/3408
    • 在對基板(30)進行磁控管電漿處理時,設置一具有多數環狀配置於處理室(1)外周壁周圍之各向異性切片磁石(22)的偶極子磁石(21),而於一與彼此相隔之成對平行電極間的電場方向垂直相交之平面內,沿著與磁場方向 B垂直相交之方向,形成一磁場強度自E極側朝向W極側逐漸變小之磁場梯度,而前述複數之各向異性切片磁石則係包含有一由配置於被處理基板之E極側端部外側之領域 A附近,且將其N極朝向該領域之各向異性切片磁石所構成之第1部分a,及一由將其S極朝向前述領域而配置之各向異性切片磁石所構成之第2部分b,而藉該等第1部分及第2部分局部提高前述第1及第2領域之磁場強度。
    • 在对基板(30)进行磁控管等离子处理时,设置一具有多数环状配置于处理室(1)外周壁周围之各向异性切片磁石(22)的偶极子磁石(21),而于一与彼此相隔之成对平行电极间的电场方向垂直相交之平面内,沿着与磁场方向 B垂直相交之方向,形成一磁场强度自E极侧朝向W极侧逐渐变小之磁场梯度,而前述复数之各向异性切片磁石则系包含有一由配置于被处理基板之E极侧端部外侧之领域 A附近,且将其N极朝向该领域之各向异性切片磁石所构成之第1部分a,及一由将其S极朝向前述领域而配置之各向异性切片磁石所构成之第2部分b,而藉该等第1部分及第2部分局部提高前述第1及第2领域之磁场强度。
    • 7. 发明专利
    • 電漿加工裝置
    • 等离子加工设备
    • TW351825B
    • 1999-02-01
    • TW086113219
    • 1997-09-11
    • 信越化學工業股份有限公司
    • 宮田浩二
    • H01L
    • H01J37/32082H01J37/32623H01J37/3266
    • 一種電漿處理裝置包含一個處理容器其中具有電漿產生區,一個感受器設置於處理容器內供支撐具有處理面的基材,及一種進氣裝置供引進處理氣體至電槳產生區。一個偶極環磁鐵設置包圍處理容器外周邊供於電漿處理區產生具有磁力線的磁場,故於電漿產生區產生處理氣體電漿。偶極環磁鐵具有多個各向異性節段磁鐵設置於卵形軌上,此等磁鐵為具有相同形狀及大小及於直徑方向磁化的圓柱形永久磁鐵。
    • 一种等离子处理设备包含一个处理容器其中具有等离子产生区,一个感受器设置于处理容器内供支撑具有处理面的基材,及一种进气设备供引进处理气体至电桨产生区。一个偶极环磁铁设置包围处理容器外周边供于等离子处理区产生具有磁力线的磁场,故于等离子产生区产生处理气体等离子。偶极环磁铁具有多个各向异性节段磁铁设置于卵形轨上,此等磁铁为具有相同形状及大小及于直径方向磁化的圆柱形永久磁铁。