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1. 发明专利

TW201620032A 晶圓之洗淨方法及用於該洗淨方法之藥液审中-公开
简体标题：晶圆之洗净方法及用于该洗净方法之药液
公开(公告)号：TW201620032A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104130481
申请日：2015-09-15
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 奧村雄三 , OKUMURA, YUZO , 福井由季 , FUKUI, YUKI , 公文創一 , KUMON, SOICHI
IPC分类号： H01L21/306 , B08B3/08
CPC分类号： H01L21/02087 , C07C309/03 , C07F7/081 , H01L21/02057 , H01L21/0209 , H01L21/31138
摘要：本發明提供一種於使用含有氯乙烯樹脂作為接液構件之晶圓之洗淨裝置的晶圓之洗淨中，在不會使上述氯乙烯樹脂劣化之狀況下於晶圓之凹凸圖案表面形成撥水性保護膜的撥水性保護膜形成用藥液及使用該藥液之晶圓之洗淨方法。本發明係一種晶圓之洗淨方法，其係利用含有氯乙烯樹脂作為接液構件之晶圓之洗淨裝置，洗淨於表面具有微細之凹凸圖案且該凹凸圖案之至少一部分含有矽元素之晶圓的方法，且將撥水性保護膜形成用藥液保持於上述凹凸圖案之至少凹部，而於該凹部表面形成撥水性保護膜，該撥水性保護膜形成用藥液包含下述通式[1]所表示之單烷氧基矽烷、下述通式[2]所表示之磺酸、及稀釋溶劑，且該稀釋溶劑含有相對於稀釋溶劑之總量100質量%為80~100質量%之醇，(R1)aSi(H)3-a(OR2) [1] [式[1]中，R1分別相互獨立地為選自一部分或全部氫元素可被取代為氟元素之碳數為1~18之一價烴基中的至少一種基，R2為一部分或全部氫元素可被取代為氟元素之碳數為1~18之一價烴基，a為1~3之整數]，R3-S(=O)2OH [2] [式[2]中，R3為選自由一部分或全部氫元素可被取代為氟元素之碳數為1~8之一價烴基、及羥基所組成之群中之基]。
简体摘要：本发明提供一种于使用含有氯乙烯树脂作为接液构件之晶圆之洗净设备的晶圆之洗净中，在不会使上述氯乙烯树脂劣化之状况下于晶圆之凹凸图案表面形成拨水性保护膜的拨水性保护膜形成用药液及使用该药液之晶圆之洗净方法。本发明系一种晶圆之洗净方法，其系利用含有氯乙烯树脂作为接液构件之晶圆之洗净设备，洗净于表面具有微细之凹凸图案且该凹凸图案之至少一部分含有硅元素之晶圆的方法，且将拨水性保护膜形成用药液保持于上述凹凸图案之至少凹部，而于该凹部表面形成拨水性保护膜，该拨水性保护膜形成用药液包含下述通式[1]所表示之单烷氧基硅烷、下述通式[2]所表示之磺酸、及稀释溶剂，且该稀释溶剂含有相对于稀释溶剂之总量100质量%为80~100质量%之醇，(R1)aSi(H)3-a(OR2) [1] [式[1]中，R1分别相互独立地为选自一部分或全部氢元素可被取代为氟元素之碳数为1~18之一价烃基中的至少一种基，R2为一部分或全部氢元素可被取代为氟元素之碳数为1~18之一价烃基，a为1~3之整数]，R3-S(=O)2OH [2] [式[2]中，R3为选自由一部分或全部氢元素可被取代为氟元素之碳数为1~8之一价烃基、及羟基所组成之群中之基]。

2. 发明专利

TW201715010A 晶圓之洗淨方法及用於該洗淨方法之藥液审中-公开
简体标题：晶圆之洗净方法及用于该洗净方法之药液
公开(公告)号：TW201715010A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105126435
申请日：2016-08-18
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 奧村雄三 , OKUMURA, YUZO , 福井由季 , FUKUI, YUKI , 深澤宏紀 , FUKAZAWA, HIROKI , 高田朋宏 , TAKATA, TOMOHIRO , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 阿部一之 , ABE, KAZUYUKI , 渡辺翔太 , WATANABE, SHOTA , 井町昌義 , IMACHI, MASAYOSHI
IPC分类号： C09K3/00 , B08B3/04 , H01L21/304 , H01L21/3105 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/304
摘要：本發明提供一種使用含有氯乙烯樹脂作為接液構件之洗淨裝置之晶圓之洗淨方法中所使用之撥水性保護膜形成用藥液。本發明使用如下藥液，該藥液含有：下述通式[1]所表示之烷氧基矽烷、及選自由下述通式[2]所表示之磺酸、該磺酸之酐、該磺酸之鹽及下述通式[3]所表示之磺酸衍生物所組成之群中之至少一種、以及稀釋溶劑；且上述稀釋溶劑含有選自由烴、醚及硫醇所組成之群中之至少一種溶劑。 (R1)aSi(H)b(OR2)4-a-b[1] R3-S(=O)2OH [2] R3-S(=O)2O-Si(H)3-c(R4)c[3]
简体摘要：本发明提供一种使用含有氯乙烯树脂作为接液构件之洗净设备之晶圆之洗净方法中所使用之拨水性保护膜形成用药液。本发明使用如下药液，该药液含有：下述通式[1]所表示之烷氧基硅烷、及选自由下述通式[2]所表示之磺酸、该磺酸之酐、该磺酸之盐及下述通式[3]所表示之磺酸衍生物所组成之群中之至少一种、以及稀释溶剂；且上述稀释溶剂含有选自由烃、醚及硫醇所组成之群中之至少一种溶剂。 (R1)aSi(H)b(OR2)4-a-b[1] R3-S(=O)2OH [2] R3-S(=O)2O-Si(H)3-c(R4)c[3]

3. 发明专利

TWI692675B 撥水性保護膜形成用藥液、其調製方法、及表面處理體之製造方法有权
简体标题：拨水性保护膜形成用药液、其调制方法、及表面处理体之制造方法
公开(公告)号：TWI692675B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108104742
申请日：2019-02-13
申请人：日商中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：奧村雄三 , OKUMURA, YUZO , 近藤克哉 , KONDO, KATSUYA , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 両川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 福井由季 , FUKUI, YUKI
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/32 , H01L21/027

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