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1. 发明专利

TWI692675B 撥水性保護膜形成用藥液、其調製方法、及表面處理體之製造方法有权
简体标题：拨水性保护膜形成用药液、其调制方法、及表面处理体之制造方法
公开(公告)号：TWI692675B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108104742
申请日：2019-02-13
申请人：日商中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：奧村雄三 , OKUMURA, YUZO , 近藤克哉 , KONDO, KATSUYA , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 両川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 福井由季 , FUKUI, YUKI
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/32 , H01L21/027

2. 发明专利

TWI425002B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI425002B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW100119865
申请日：2011-06-07
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C07F7/10 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/306 , G03F7/40

3. 发明专利

TWI460263B 保護膜形成用藥液有权
简体标题：保护膜形成用药液
公开(公告)号：TWI460263B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW100117675
申请日：2011-05-19
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C09K3/18 , C07F7/18 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02057 , C09D183/08 , H01L21/0206 , H01L21/302 , H01L21/3105

4. 发明专利

TW201329220A 保護膜形成用藥液之調製方法审中-公开
简体标题：保护膜形成用药液之调制方法
公开(公告)号：TW201329220A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144844
申请日：2012-11-29
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 橋本陽祐 , HASHIMOTO, YOSUKE
IPC分类号： C09K3/18 , C11D17/00 , C11D11/00 , C11D7/08 , C11D7/26 , C11D7/50 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02282 , C09D5/00 , H01L21/02057 , H01L21/02068
摘要：本發明係一種斥水性保護膜形成用藥液之調製方法，其係用以於表面具有凹凸圖案之晶圓之該凹凸圖案之至少凹部表面形成斥水性保護膜、具有溶劑與斥水性保護膜形成劑者，且其包括如下步驟：第1純化步驟，其藉由蒸餾溶劑或藉由除粒子膜及離子交換樹脂膜而去除上述溶劑中之Na、Mg、K、Ca、Mn、Fe、Cu、Li、Al、Cr、Ni、Zn及Ag之各元素(金屬雜質)；混合步驟，其將第1純化步驟後之溶劑與斥水性保護膜形成劑混合；及第2純化步驟，其藉由除粒子膜而去除混合步驟後之藥液中之微粒。
简体摘要：本发明系一种斥水性保护膜形成用药液之调制方法，其系用以于表面具有凹凸图案之晶圆之该凹凸图案之至少凹部表面形成斥水性保护膜、具有溶剂与斥水性保护膜形成剂者，且其包括如下步骤：第1纯化步骤，其借由蒸馏溶剂或借由除粒子膜及离子交换树脂膜而去除上述溶剂中之Na、Mg、K、Ca、Mn、Fe、Cu、Li、Al、Cr、Ni、Zn及Ag之各元素(金属杂质)；混合步骤，其将第1纯化步骤后之溶剂与斥水性保护膜形成剂混合；及第2纯化步骤，其借由除粒子膜而去除混合步骤后之药液中之微粒。

5. 发明专利

TWI619656B 壓送容器、使用壓送容器之保管方法、及使用壓送容器之移液方法有权
简体标题：压送容器、使用压送容器之保管方法、及使用压送容器之移液方法
公开(公告)号：TWI619656B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103117509
申请日：2014-05-19
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 橋本陽祐 , HASHIMOTO, YOSUKE , 出田知愛 , IDETA, CHIAKI , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI
IPC分类号： B65D85/84 , B65D83/28
CPC分类号： B65B31/00 , H01L21/67017

6. 发明专利

TWI465557B 保護膜形成用藥液之調製方法有权
简体标题：保护膜形成用药液之调制方法
公开(公告)号：TWI465557B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101144844
申请日：2012-11-29
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU , 橋本陽祐 , HASHIMOTO, YOSUKE
IPC分类号： C09K3/18 , C11D17/00 , C11D11/00 , C11D7/08 , C11D7/26 , C11D7/50 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02282 , C09D5/00 , H01L21/02057 , H01L21/02068

7. 发明专利

TWI601810B 保護膜形成用藥液之調製方法有权
简体标题：保护膜形成用药液之调制方法
公开(公告)号：TWI601810B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW101144842
申请日：2012-11-29
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU
IPC分类号： C09K3/18 , C11D17/00 , C11D11/00 , C11D7/08 , C11D7/26 , C11D7/50 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/0206 , B08B3/08 , C09D7/63 , H01L21/02057 , H01L21/3105 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

8. 发明专利

TW201509770A 壓送容器、使用壓送容器之保管方法、及使用壓送容器之移液方法审中-公开
简体标题：压送容器、使用压送容器之保管方法、及使用压送容器之移液方法
公开(公告)号：TW201509770A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103117509
申请日：2014-05-19
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 橋本陽祐 , HASHIMOTO, YOSUKE , 出田知愛 , IDETA, CHIAKI , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI
IPC分类号： B65D85/84 , B65D83/28
CPC分类号： B65B31/00 , H01L21/67017
摘要：本發明提供一種壓送容器，其即便長時間保管保護膜形成用藥液或用以製備該藥液之保護膜形成用藥液套組後，亦可確保該藥液或該藥液套組等之液體之清潔性，且可抑制該液體之帶電。本發明之壓送容器之特徵在於：其保管用以在表面具有凹凸圖案且該凹凸圖案之至少一部分包含矽元素之晶圓之該凹凸圖案之至少凹部表面形成撥水性保護膜的保護膜形成用藥液、或藉由進行混合而成為上述保護膜形成用藥液之保護膜形成用藥液套組，且構成為可藉由對內部加壓而進行移液，上述保護膜形成用藥液含有非水有機溶劑、矽烷化劑及酸或鹼，上述保護膜形成用藥液套組包含含有非水有機溶劑及矽烷化劑之處理液A、以及含有非水有機溶劑及酸或鹼之處理液B，上述壓送容器包括供上述保護膜形成用藥液、上述處理液A及上述處理液B中之任一液體填充之容器本體，以及為了對上述容器本體填充及/或取出上述液體而使上述液體通過之通液噴嘴，上述容器本體由將與上述液體接觸之部分設為樹脂材料之金屬罐體所構成，於上述通液噴嘴設置有降低上述液體之帶電電位之去靜電機構，上述通液噴嘴中除上述去靜電機構以外之接液部分由樹脂材料所構成。
简体摘要：本发明提供一种压送容器，其即便长时间保管保护膜形成用药液或用以制备该药液之保护膜形成用药液套组后，亦可确保该药液或该药液套组等之液体之清洁性，且可抑制该液体之带电。本发明之压送容器之特征在于：其保管用以在表面具有凹凸图案且该凹凸图案之至少一部分包含硅元素之晶圆之该凹凸图案之至少凹部表面形成拨水性保护膜的保护膜形成用药液、或借由进行混合而成为上述保护膜形成用药液之保护膜形成用药液套组，且构成为可借由对内部加压而进行移液，上述保护膜形成用药液含有非水有机溶剂、硅烷化剂及酸或碱，上述保护膜形成用药液套组包含含有非水有机溶剂及硅烷化剂之处理液A、以及含有非水有机溶剂及酸或碱之处理液B，上述压送容器包括供上述保护膜形成用药液、上述处理液A及上述处理液B中之任一液体填充之容器本体，以及为了对上述容器本体填充及/或取出上述液体而使上述液体通过之通液喷嘴，上述容器本体由将与上述液体接触之部分设为树脂材料之金属罐体所构成，于上述通液喷嘴设置有降低上述液体之带电电位之去静电机构，上述通液喷嘴中除上述去静电机构以外之接液部分由树脂材料所构成。

9. 发明专利

TW201329219A 保護膜形成用藥液之調製方法审中-公开
简体标题：保护膜形成用药液之调制方法
公开(公告)号：TW201329219A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144842
申请日：2012-11-29
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兩川敦 , RYOKAWA, ATSUSHI , 山田周平 , YAMADA, SHUHEI , 藤谷昌弘 , FUJITANI, MASAHIRO , 公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 荒田忍 , ARATA, SHINOBU
IPC分类号： C09K3/18 , C11D17/00 , C11D11/00 , C11D7/08 , C11D7/26 , C11D7/50 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/0206 , B08B3/08 , C09D7/63 , H01L21/02057 , H01L21/3105 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明之課題在於提供一種保護膜形成用藥液之調製方法及該藥液，上述保護膜形成用藥液於表面具有凹凸圖案且該凹凸圖案之至少一部分含有矽元素的晶圓之製造方法中，改善易引發圖案崩塌之清洗步驟，尤其該改善效果之持續性(適用期)優異，於晶圓之凹凸圖案表面形成斥水性保護膜。本發明之斥水性保護膜形成用藥液之調製方法之特徵在於：上述斥水性保護膜形成用藥液係用以於上述晶圓之清洗時於該凹凸圖案之至少凹部表面形成斥水性保護膜的具有非水有機溶劑、矽烷化劑及酸或鹼者，且上述斥水性保護膜形成用藥液之調製方法包括如下步驟：脫水步驟，其將非水有機溶劑中之水分濃度調整為200質量ppm以下；及混合步驟，其將脫水步驟後之非水有機溶劑、矽烷化劑及酸或鹼進行混合。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种保护膜形成用药液之调制方法及该药液，上述保护膜形成用药液于表面具有凹凸图案且该凹凸图案之至少一部分含有硅元素的晶圆之制造方法中，改善易引发图案崩塌之清洗步骤，尤其该改善效果之持续性(适用期)优异，于晶圆之凹凸图案表面形成斥水性保护膜。本发明之斥水性保护膜形成用药液之调制方法之特征在于：上述斥水性保护膜形成用药液系用以于上述晶圆之清洗时于该凹凸图案之至少凹部表面形成斥水性保护膜的具有非水有机溶剂、硅烷化剂及酸或碱者，且上述斥水性保护膜形成用药液之调制方法包括如下步骤：脱水步骤，其将非水有机溶剂中之水分浓度调整为200质量ppm以下；及混合步骤，其将脱水步骤后之非水有机溶剂、硅烷化剂及酸或碱进行混合。

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