会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 紫外線照射用光源
    • 紫外线照射用光源
    • TW200939294A
    • 2009-09-16
    • TW098104057
    • 2009-02-09
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 田近望 TAJIKA, NOZOMU
    • H01J
    • H01J61/33H01J61/52
    • 【【課題】】提供一種紫外線照射用光源,係具備一種有凹入的棒狀放電燈,該凹入係不讓尖部(tip)從發光管的外表面突出,而將該放電燈配置在水冷夾套內;而可得到一項發光管的尖部(tip)所形成之部分的方向與該部分的失去透明度的關係之知識、同時在形成有發光管的尖部(tip)的部分上,不產生失去透明度之情事。【【解決手段】】放電燈,係將形成有發光管的尖部(tip)的部分,變為在重力方向下方而配置於冷卻夾套內。另外,形成有發光管的尖部(tip)的部分,係最理想為:從該燈的中心,將鉛直方向設為0�而在�45�的範圍內。
    • 【【课题】】提供一种紫外线照射用光源,系具备一种有凹入的棒状放电灯,该凹入系不让尖部(tip)从发光管的外表面突出,而将该放电灯配置在水冷夹套内;而可得到一项发光管的尖部(tip)所形成之部分的方向与该部分的失去透明度的关系之知识、同时在形成有发光管的尖部(tip)的部分上,不产生失去透明度之情事。【【解决手段】】放电灯,系将形成有发光管的尖部(tip)的部分,变为在重力方向下方而配置于冷却夹套内。另外,形成有发光管的尖部(tip)的部分,系最理想为:从该灯的中心,将铅直方向设为0�而在�45�的范围内。
    • 2. 发明专利
    • 放電燈
    • 放电灯
    • TW200910410A
    • 2009-03-01
    • TW097124552
    • 2008-06-30
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 岡沼夫 OKANUMA, TSUNEO中貢 NAKAJIMA, MITSUGU影林由郎 KAGEBAYASHI, YOSHIO
    • H01J
    • 本發明的課題為:本發明的目的要提供一種放電燈,將藉由焊接基體部與蓋部所形成的電極的焊接部的强度予以提高,並且能在電極的密閉空間內毫無障礙地充填氣體。本發明的解決手段為:本發明,在發光管內在其管軸方向配置成相對向的一對電極的其中一方,在藉由:於基端側具有開口的有底筒狀的金屬製的基體部、與嵌入於該基體部的內部空間的金屬製的蓋體所形成的密閉空間內,封入有:由熔點較構成上述基體部的金屬更低的金屬所構成的傳熱體,上述電極具有:沿著該電極的中心軸從上述蓋部的基端部朝向上述密閉空間延伸的氣體導入用流路、以及與該氣體導入用流路連通並且沿著該電極的中心軸延伸的傳熱體捕捉空間;該傳熱體捕捉空間,相較於上述氣體導入用流路,相對於該電極的中心軸而垂直相交方向的寬度較大。
    • 本发明的课题为:本发明的目的要提供一种放电灯,将借由焊接基体部与盖部所形成的电极的焊接部的强度予以提高,并且能在电极的密闭空间内毫无障碍地充填气体。本发明的解决手段为:本发明,在发光管内在其管轴方向配置成相对向的一对电极的其中一方,在借由:于基端侧具有开口的有底筒状的金属制的基体部、与嵌入于该基体部的内部空间的金属制的盖体所形成的密闭空间内,封入有:由熔点较构成上述基体部的金属更低的金属所构成的传热体,上述电极具有:沿着该电极的中心轴从上述盖部的基端部朝向上述密闭空间延伸的气体导入用流路、以及与该气体导入用流路连通并且沿着该电极的中心轴延伸的传热体捕捉空间;该传热体捕捉空间,相较于上述气体导入用流路,相对于该电极的中心轴而垂直相交方向的宽度较大。
    • 3. 发明专利
    • 帶狀工件之曝光裝置及帶狀工件之曝光裝置中的焦距調整方法
    • 带状工件之曝光设备及带状工件之曝光设备中的焦距调整方法
    • TW200907595A
    • 2009-02-16
    • TW097116124
    • 2008-05-01
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 柴田清孝 SHIBATA, KIYOTAKA
    • G03FH05K
    • 本發明之課題在於可在曝光處理中途進行焦距調整,且無須追加焦距調整專用照明手段或受像手段,即可在短時間內調整焦距。本發明係在將形成在遮罩M的圖案投影在帶狀工件W而進行曝光的帶狀工件之曝光裝置中,在遮罩M之對準標記MAM的內側形成投影透鏡用焦距調整圖案FP。此外,在工件載台10的貫穿孔或缺口10a上配置光透過構件10b,而形成對準顯微鏡用焦距調整圖案AP。利用對準顯微鏡12檢測遮罩與帶狀工件的對準標記,進行遮罩M與帶狀工件W的對位,接著,藉由對準顯微鏡12,檢測投影透鏡用焦距調整圖案FP與上述對準顯微鏡用焦距調整圖案AP來進行焦距調整。
    • 本发明之课题在于可在曝光处理中途进行焦距调整,且无须追加焦距调整专用照明手段或受像手段,即可在短时间内调整焦距。本发明系在将形成在遮罩M的图案投影在带状工件W而进行曝光的带状工件之曝光设备中,在遮罩M之对准标记MAM的内侧形成投影透镜用焦距调整图案FP。此外,在工件载台10的贯穿孔或缺口10a上配置光透过构件10b,而形成对准显微镜用焦距调整图案AP。利用对准显微镜12检测遮罩与带状工件的对准标记,进行遮罩M与带状工件W的对位,接着,借由对准显微镜12,检测投影透镜用焦距调整图案FP与上述对准显微镜用焦距调整图案AP来进行焦距调整。
    • 4. 发明专利
    • 印表機
    • 打印机
    • TW200906639A
    • 2009-02-16
    • TW097116654
    • 2008-05-06
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 生井昌仁 NAMAI, MASAHITO仲田重範 NAKATA, SHIGENORI榎本幸司 ENOMOTO, KOJI
    • B41J
    • B41J11/002H01J61/025H01J61/822H01J61/86
    • 本發明係使用300 nm以下波長的光幾乎不予放射的燈來作為光源,即使燈的電力加大,仍不會有基材受到加熱而導致變形的事態。放電燈11是一種在放電容器內配置一對相對向的電極,放電容器內封入0.08-0.30 mg╱mm^3的水銀、及稀有氣體、鹵素,電極間距離為0.5-2.0 mm之短弧型的超高壓水銀燈,多量含有300-400 nm波長的光之成分,但幾乎未含有300 nm以下波長的光。放電燈11係以連結該一對電極的直線沿著具有迴轉拋物面狀的反射面之反射器12的光軸延伸的方式配置,從燈11所放射的光經由反射器12成為平行光,其中一部分直接從光射出口14a射出,另一外部分則以反射鏡13反射而從光射出口14a射出。在基材5上形成有細長的光照射區域IA。
    • 本发明系使用300 nm以下波长的光几乎不予放射的灯来作为光源,即使灯的电力加大,仍不会有基材受到加热而导致变形的事态。放电灯11是一种在放电容器内配置一对相对向的电极,放电容器内封入0.08-0.30 mg╱mm^3的水银、及稀有气体、卤素,电极间距离为0.5-2.0 mm之短弧型的超高压水银灯,多量含有300-400 nm波长的光之成分,但几乎未含有300 nm以下波长的光。放电灯11系以链接该一对电极的直线沿着具有掉头抛物面状的反射面之反射器12的光轴延伸的方式配置,从灯11所放射的光经由反射器12成为平行光,其中一部分直接从光射出口14a射出,另一外部分则以反射镜13反射而从光射出口14a射出。在基材5上形成有细长的光照射区域IA。
    • 5. 发明专利
    • 雷射二極體晶片及其製造方法
    • 激光二极管芯片及其制造方法
    • TW200849756A
    • 2008-12-16
    • TW097107490
    • 2008-03-04
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 今井勇次 IMAI, YUJI
    • H01SH01L
    • H01S5/22H01S5/2231H01S5/4031H01S5/4087
    • 本發明的課題是在於提供一種可取得大的發光强度及高發光效率,且可放出較廣的波長寬的光,因此可作為照明裝置的光源的構成材料適用之雷射二極體晶片及其製造方法。雷射二極體晶片是具有在基板上至少依序積層第1包覆層、活性層及第2包覆層,且第1包覆層、活性層及第2包覆層的各個構成材料為特定的組合所成的構成,分別在平行形成於第2包覆層的上面之複數的溝狀凹部內具備液體氧化膜所燒成的電流狹窄層,在藉由該等複數的電流狹窄層所劃成的發光單位區域的各個活性層內形成有發光點,該電流狹窄層的最大深度為5.0���m以下。
    • 本发明的课题是在于提供一种可取得大的发光强度及高发光效率,且可放出较广的波长宽的光,因此可作为照明设备的光源的构成材料适用之激光二极管芯片及其制造方法。激光二极管芯片是具有在基板上至少依序积层第1包覆层、活性层及第2包覆层,且第1包覆层、活性层及第2包覆层的各个构成材料为特定的组合所成的构成,分别在平行形成于第2包覆层的上面之复数的沟状凹部内具备液体氧化膜所烧成的电流狭窄层,在借由该等复数的电流狭窄层所划成的发光单位区域的各个活性层内形成有发光点,该电流狭窄层的最大深度为5.0���m以下。
    • 6. 发明专利
    • 白熾燈及光照射式加熱處理裝置
    • 白炽灯及光照射式加热处理设备
    • TW200847227A
    • 2008-12-01
    • TW097107337
    • 2008-03-03
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 鈴木信二 SUZUKI, SHINJI水川洋一 MIZUKAWA, YOICHI
    • H01KH01L
    • 課題提供每一裝置地解決被處理體上的放射分布的參差不齊的白熾燈及光照射式加熱處理裝置。解決手段一種白熾燈,屬於在形成有封閉部2a、2b的長管狀的發光管3內部,連結有盤管狀的燈絲411-451與將電力供應於該燈絲的導線412a-452a、412b-452b所成的複數燈絲體41-45,為各燈絲沿著發光管的管軸延伸般地依次排列配設,各燈絲體的各該導線對於配設於封閉部的複數的各該導電性構件81a-85a、81b-85b被電性地連接而對於各燈絲分別獨立地饋電的白熾燈1,其特徵為:在燈絲411-451內側,插通有燈絲體41-45的導線412a-452a、412b-452b。
    • 课题提供每一设备地解决被处理体上的放射分布的参差不齐的白炽灯及光照射式加热处理设备。解决手段一种白炽灯,属于在形成有封闭部2a、2b的长管状的发光管3内部,链接有盘管状的灯丝411-451与将电力供应于该灯丝的导线412a-452a、412b-452b所成的复数灯丝体41-45,为各灯丝沿着发光管的管轴延伸般地依次排列配设,各灯丝体的各该导线对于配设于封闭部的复数的各该导电性构件81a-85a、81b-85b被电性地连接而对于各灯丝分别独立地馈电的白炽灯1,其特征为:在灯丝411-451内侧,插通有灯丝体41-45的导线412a-452a、412b-452b。
    • 7. 发明专利
    • 超高壓放電燈用電極、及超高壓放電燈
    • 超高压放电灯用电极、及超高压放电灯
    • TW200845101A
    • 2008-11-16
    • TW097109382
    • 2008-03-17
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 塚本卓也 TSUKAMOTO, TAKUYA堀川好廣 HORIKAWA, YOSHIHIRO
    • H01J
    • H01J61/0732H01J61/36H01J61/366H01J61/86
    • [課題]本發明的課題在於提供一種防止超高壓放電燈因電極封著部分產生之裂痕的破損,對耐破損之可靠性高且壽命長的超高壓放電燈、及超高壓放電燈用電極。[解決手段]本發明係為面對面配置一對電極,在放電容器內封入0.15mg/mm^3以上的水銀,該電極的端部熔接在埋設於封固部的金屬箔,該金屬箔與該電極的一部分被封著在玻璃的超高壓放電燈,其特徵為:該電極是具有橫跨整周對燈軸略軸對稱的大徑部、和連接在該大徑部的縮徑部,且經由連接該大徑部與該縮徑部的外表面形成一體的電極,封著在該電極之玻璃的部分之表面,是沿著該電極之軸向的條紋狀部,橫跨於正交在該軸向的斷面圓周整體而形成凹凸部。
    • [课题]本发明的课题在于提供一种防止超高压放电灯因电极封着部分产生之裂痕的破损,对耐破损之可靠性高且寿命长的超高压放电灯、及超高压放电灯用电极。[解决手段]本发明系为面对面配置一对电极,在放电容器内封入0.15mg/mm^3以上的水银,该电极的端部熔接在埋设于封固部的金属箔,该金属箔与该电极的一部分被封着在玻璃的超高压放电灯,其特征为:该电极是具有横跨整周对灯轴略轴对称的大径部、和连接在该大径部的缩径部,且经由连接该大径部与该缩径部的外表面形成一体的电极,封着在该电极之玻璃的部分之表面,是沿着该电极之轴向的条纹状部,横跨于正交在该轴向的断面圆周整体而形成凹凸部。
    • 8. 发明专利
    • 表面處理裝置 SURFACE-TREATING APPARATUS
    • 表面处理设备 SURFACE-TREATING APPARATUS
    • TW200834716A
    • 2008-08-16
    • TW097100832
    • 2008-01-09
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA國立大學法人東北大學 TOHOKU UNIVERSITY
    • 寒川誠二 SAMUKAWA, SEIJI小田史彥 ODA, FUMIHIKO森本幸裕 MORIMOTO, YUKIHIRO
    • H01L
    • 提供一種使用中性粒子束的表面處理裝置,藉由該表面處理裝置根本地實行高品質的表面處理,以及達成高表面處理速率。該表面處理裝置用於藉由中性粒子束來實行待被處理的物體之表面處理,該待被處理的物體係配置在真空處理室中,並且設置有光源,用於以光來照射該待被處理的物體。在該表面處理裝置中,施加至該待被處理的物體之光係為包括具有380 nm或更短波長之光線的光。具有380 nm或更短波長的該些光線,在該待被處理的物體之待被處理的表面上之照度係為7 mW/㎝^2或更高。該光源較佳係為氙閃光燈,且在該待被處理的物體之待被處理的表面上之照度係為20 mW/㎝^2或更高。
    • 提供一种使用中性粒子束的表面处理设备,借由该表面处理设备根本地实行高品质的表面处理,以及达成高表面处理速率。该表面处理设备用于借由中性粒子束来实行待被处理的物体之表面处理,该待被处理的物体系配置在真空处理室中,并且设置有光源,用于以光来照射该待被处理的物体。在该表面处理设备中,施加至该待被处理的物体之光系为包括具有380 nm或更短波长之光线的光。具有380 nm或更短波长的该些光线,在该待被处理的物体之待被处理的表面上之照度系为7 mW/㎝^2或更高。该光源较佳系为氙闪光灯,且在该待被处理的物体之待被处理的表面上之照度系为20 mW/㎝^2或更高。
    • 9. 发明专利
    • 準分子燈裝置
    • 准分子灯设备
    • TW200823929A
    • 2008-06-01
    • TW096126192
    • 2007-07-18
    • 牛尾電機股份有限公司 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
    • 菱沼宣是 HISHINUMA, NOBUYUKI遠藤真一 ENDO, SHINICHI
    • G21KF21SB08B
    • 【課題】提供可合適地對應基板的大型化同時可降低運轉成本(running cost),可確實地進行基板表面的處理之準分子燈裝置。【解決手段】關於本發明的準分子燈裝置,係具備:收納準分子燈的燈室、和配置於燈室內而對準分子燈平行而且交互地配設之設置了氣體噴出口而形成之氣體供給用配管、和對氣體供給用配管導入含有水蒸氣之惰性氣體之氣體供給手段;藉由前述氣體供給手段而供給絕對濕度被控制在特定之惰性氣體於前述氣體供給用配管。另外,前述絕對濕度係換算為重量絕對濕度為0.5~6.5g/㎏為佳。
    • 【课题】提供可合适地对应基板的大型化同时可降低运转成本(running cost),可确实地进行基板表面的处理之准分子灯设备。【解决手段】关于本发明的准分子灯设备,系具备:收纳准分子灯的灯室、和配置于灯室内而对准分子灯平行而且交互地配设之设置了气体喷出口而形成之气体供给用配管、和对气体供给用配管导入含有水蒸气之惰性气体之气体供给手段;借由前述气体供给手段而供给绝对湿度被控制在特定之惰性气体于前述气体供给用配管。另外,前述绝对湿度系换算为重量绝对湿度为0.5~6.5g/㎏为佳。