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71. 发明专利

TW201218238A 應用於電子源之燈絲 FILAMENT FOR ELECTRON SOURCE 审中-公开
简体标题：应用于电子源之灯丝 FILAMENT FOR ELECTRON SOURCE
公开(公告)号：TW201218238A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100111424
申请日：2011-03-31
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：竇菊英
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J1/15 , H01J37/065 , H01J2237/0216 , H01J2237/061 , H01J2237/06316
摘要：本發明是有關於一種應用於電子發射陰極之燈絲,該電子發射陰極作為電子源,應用於電子顯微鏡、關鍵尺寸檢查工具、電子束微影裝置、電子束檢測儀器或其他電子束相關系統。本發明之實施例揭露以錸作為熱源的方法,使得傳統鎢燈絲的振動問題得到抑制。
简体摘要：本发明是有关于一种应用于电子发射阴极之灯丝,该电子发射阴极作为电子源,应用于电子显微镜、关键尺寸检查工具、电子束微影设备、电子束检测仪器或其他电子束相关系统。本发明之实施例揭露以铼作为热源的方法,使得传统钨灯丝的振动问题得到抑制。

72. 发明专利

TW201140640A 在電子束系統中具有以光學偵測高度裝置之動態聚焦調整 DYNAMIC FOCUS ADJUSTMENT WITH OPTICAL HEIGHT DETECTION APPARATUS IN ELECTRON BEAM SYSTEM 审中-公开
简体标题：在电子束系统中具有以光学侦测高度设备之动态聚焦调整 DYNAMIC FOCUS ADJUSTMENT WITH OPTICAL HEIGHT DETECTION APPARATUS IN ELECTRON BEAM SYSTEM
公开(公告)号：TW201140640A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW100111421
申请日：2011-03-31
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：汪蘇 , 阮文達 , 王義向 , 招允佳 , 陳仲瑋
IPC分类号： H01J , G01R
CPC分类号： G01B11/22 , G01N23/04 , G01N23/20058 , G01N2223/32 , G01N2223/3301 , G01N2223/3302 , G01N2223/646 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/216 , H01J2237/2482 , H01J2237/2487
摘要：本發明是關於影像系統之動態聚焦調整。藉由一高度偵測次系統的協助，本發明提供一種裝置與方法，通過改變物鏡與樣本台之間的靜電透鏡之磁場強度，或者改變施加於樣本表面之偏壓，進行根據樣本表面高度變化之影像聚焦微調。例如，作為一範例，該發明已應用至掃描式電子檢測系統。但是，本發明也可以適用於其他具有高度偵測裝置，而且使用帶電粒子束作為觀察工具之系統。
简体摘要：本发明是关于影像系统之动态聚焦调整。借由一高度侦测次系统的协助，本发明提供一种设备与方法，通过改变物镜与样本台之间的静电透镜之磁场强度，或者改变施加于样本表面之偏压，进行根据样本表面高度变化之影像聚焦微调。例如，作为一范例，该发明已应用至扫描式电子检测系统。但是，本发明也可以适用于其他具有高度侦测设备，而且使用带电粒子束作为观察工具之系统。

73. 发明专利

TW201120936A 多軸磁力透鏡 A MULTI-AXIS MAGNETIC LENS 审中-公开
简体标题：多轴磁力透镜 A MULTI-AXIS MAGNETIC LENS
公开(公告)号：TW201120936A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW098145747
申请日：2009-12-30
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：陳仲瑋 , 任偉明 , 金井健一 , 劉學東
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/141 , H01J2237/1405
摘要：本發明係關於一種用於帶電粒子束系統（charged particle beam system）的多光軸磁透鏡（multi-axis magnetic lens）。本發明的裝置消除共同激發線圈所產生磁場中之非軸向對稱（non-axisymmetric）之橫向磁場成份，保留軸向對稱磁場成份來聚焦帶電粒子束系統內每一通過此裝置之粒子束。
简体摘要：本发明系关于一种用于带电粒子束系统（charged particle beam system）的多光轴磁透镜（multi-axis magnetic lens）。本发明的设备消除共同激发线圈所产生磁场中之非轴向对称（non-axisymmetric）之横向磁场成份，保留轴向对称磁场成份来聚焦带电粒子束系统内每一通过此设备之粒子束。

74. 发明专利

TW201118370A 基板檢查方法 SUBSTRATE INSPECTION METHOD 审中-公开
简体标题：基板检查方法 SUBSTRATE INSPECTION METHOD
公开(公告)号：TW201118370A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：TW099128823
申请日：2010-08-27
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：關鍵
IPC分类号： G01N , G06K
CPC分类号： H01L22/12 , G06T7/001 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148
摘要：本發明揭露一種基板檢查方法。該方法包含(1)提供一個或多個樣本基板之一個或多個影像；(2) 由該等影像，識別一目標圖樣，該目標圖樣出現於該等影像二次或多次；(3)由該等影像互相比較被識別之目標圖樣出現處，藉以決定於被比較之目標圖樣出現處是否有異常存在，進而決定於該目標圖樣出現處，是否真有一個或多個缺陷存在。該方法執行於一電腦程式，該電腦程式以一電腦可讀取媒體編碼，其中，該電腦程式控制一成像裝置，藉以形成所關注之樣本基板之影像；該電腦程式控制一影像分析裝置，藉以由該等影像識別與比較位於樣本基板之目標圖樣出現處。
简体摘要：本发明揭露一种基板检查方法。该方法包含(1)提供一个或多个样本基板之一个或多个影像；(2) 由该等影像，识别一目标图样，该目标图样出现于该等影像二次或多次；(3)由该等影像互相比较被识别之目标图样出现处，借以决定于被比较之目标图样出现处是否有异常存在，进而决定于该目标图样出现处，是否真有一个或多个缺陷存在。该方法运行于一电脑进程，该电脑进程以一电脑可读取媒体编码，其中，该电脑程控一成像设备，借以形成所关注之样本基板之影像；该电脑程控一影像分析设备，借以由该等影像识别与比较位于样本基板之目标图样出现处。

75. 发明专利

TW201113515A 在以帶電粒子束進行檢視的過程中對已辨識出的缺陷定義特徵的方法及其應用 METHOD FOR CHARACTERIZING IDENTIFIED DEFECTS DURING CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION AND APPLICATION THEREOF 审中-公开
简体标题：在以带电粒子束进行视图的过程中对已辨识出的缺陷定义特征的方法及其应用 METHOD FOR CHARACTERIZING IDENTIFIED DEFECTS DURING CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION AND APPLICATION THEREOF
公开(公告)号：TW201113515A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW099119063
申请日：2010-06-11
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：趙炎
IPC分类号： G01N , G01R , G06K
CPC分类号： G01N23/225 , G01N2223/6116
摘要：一種在一樣本以帶電粒子束進行檢視的過程中對已辨識出的缺陷定義特徵的方法。此方法包括藉由使用一帶電粒子束成像設備在一檢視溫度獲得樣本的一電壓對比影像;從電壓對比影像辨識出樣本上至少存在一缺陷;提供樣本的參考資料,其中參考資料顯示出樣本上的至少一參考缺陷;比較樣本上已辨識出的缺陷與參考缺陷的位置或位置分佈,以建立已辨識出的缺陷與檢視溫度的關聯,藉以對已辨識出的缺陷定義特徵。
简体摘要：一种在一样本以带电粒子束进行视图的过程中对已辨识出的缺陷定义特征的方法。此方法包括借由使用一带电粒子束成像设备在一视图温度获得样本的一电压对比影像;从电压对比影像辨识出样本上至少存在一缺陷;提供样本的参考数据,其中参考数据显示出样本上的至少一参考缺陷;比较样本上已辨识出的缺陷与参考缺陷的位置或位置分布,以创建已辨识出的缺陷与视图温度的关联,借以对已辨识出的缺陷定义特征。

76. 发明专利

TW201106411A 以帶電粒子束陣列掃描位於連續模式的平台上之圖案化基板以獲得影像的裝置與方法 METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING IMAGES BY RASTER SCANNING CHARGED-PARTICLE BEAM OVER PATTERNED SUBSTRATE ON A CONTINUOUS MODE STAGE 审中-公开
简体标题：以带电粒子束数组扫描位于连续模式的平台上之图案化基板以获得影像的设备与方法 METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING IMAGES BY RASTER SCANNING CHARGED-PARTICLE BEAM OVER PATTERNED SUBSTRATE ON A CONTINUOUS MODE STAGE
公开(公告)号：TW201106411A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099108483
申请日：2010-03-23
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：金井健一 , 趙炎
IPC分类号： H01J , G01N
摘要：本發明揭露一種於一連續移動平台上陣列掃描一試片以進行該試片帶電粒子束成像的方法。此方法包含以一帶電粒子束重複線掃描過試片表面以形成至少一具有複數相鄰掃描線之二維線陣列於表面上。執行每一線掃描係藉由帶電粒子束沿平台移動方向偏移一額外預定距離,額外預定距離至少等於第一線陣列之第一線掃描起始至現有線陣列(即將形成)掃描之現有線掃描(即將執行)之起始之間的一時間中平台之一移動距離。
简体摘要：本发明揭露一种于一连续移动平台上数组扫描一试片以进行该试片带电粒子束成像的方法。此方法包含以一带电粒子束重复线扫描过试片表面以形成至少一具有复数相邻扫描线之二维线数组于表面上。运行每一线扫描系借由带电粒子束沿平台移动方向偏移一额外预定距离,额外预定距离至少等于第一线数组之第一线扫描起始至现有线数组(即将形成)扫描之现有线扫描(即将运行)之起始之间的一时间中平台之一移动距离。

77. 发明专利

TW201039086A 密封空間之進氣方法與其氣體供應裝置 METHOD FOR VENTING GAS INTO CLOSED SPACE AND GAS SUPPLY ASSEMBLY THEREOF 审中-公开
简体标题：密封空间之进气方法与其气体供应设备 METHOD FOR VENTING GAS INTO CLOSED SPACE AND GAS SUPPLY ASSEMBLY THEREOF
公开(公告)号：TW201039086A
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW098145557
申请日：2009-12-29
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：王友金
IPC分类号： G05D , G01N
CPC分类号： G05D16/2013 , H01J37/185 , H01J37/28 , H01J2237/006 , H01J2237/182 , H01J2237/184 , H01J2237/186 , Y10T137/0396
摘要：一種密封空間之進氣方法係被揭露,在進氣過程開始時,充進氣體的流速由零開始,接著流速以有差別的增加率增加至少一段時期,當密閉空間內部達到一預定義的飽和壓力時,充進氣體的流速維持或增加以加速進氣過程。
简体摘要：一种密封空间之进气方法系被揭露,在进气过程开始时,充进气体的流速由零开始,接着流速以有差别的增加率增加至少一段时期,当密闭空间内部达到一预定义的饱和压力时,充进气体的流速维持或增加以加速进气过程。

78. 发明专利

TW201037755A 帶電粒子束成像裝置與其方法 CHARGED PARTICLE BEAM IMAGING ASSEMBLY AND IMAGING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：带电粒子束成像设备与其方法 CHARGED PARTICLE BEAM IMAGING ASSEMBLY AND IMAGING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201037755A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW098145546
申请日：2009-12-29
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：方偉 , 招允家 , 趙炎
IPC分类号： H01J , G01N
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/026 , H01J2237/004 , H01J2237/0044 , H01J2237/0048
摘要：本發明揭露增效帶電粒子束顯微鏡影像品質之方法，其影像是帶電粒子束成像系統所形成之影像。本方法包含利用第一掃描電子束在至少一第一掃描線上掃描樣品之表面，利用第二掃描電子束在至少一第二掃描線上掃描樣品之表面，其中該第二掃描電子束係於第一掃描線之尾端與下一第一掃描線之開端期間，掃描樣品之表面。同時揭示應用帶電粒子束成像系統本發明所提議之方法。
简体摘要：本发明揭露增效带电粒子束显微镜影像品质之方法，其影像是带电粒子束成像系统所形成之影像。本方法包含利用第一扫描电子束在至少一第一扫描在线扫描样品之表面，利用第二扫描电子束在至少一第二扫描在线扫描样品之表面，其中该第二扫描电子束系于第一扫描线之尾端与下一第一扫描线之开端期间，扫描样品之表面。同时揭示应用带电粒子束成像系统本发明所提议之方法。

79. 发明专利

TW201030875A 晶圓檢驗方法及其機台結構 METHOD AND MACHINE FOR EXAMINING WAFERS 审中-公开
简体标题：晶圆检验方法及其机台结构 METHOD AND MACHINE FOR EXAMINING WAFERS
公开(公告)号：TW201030875A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：TW098145560
申请日：2009-12-29
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：周建宏 , 戴文鼎
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L22/20 , G05B19/41875 , G05B2219/32205 , G05B2219/37224 , Y02P90/20 , Y02P90/22
摘要：一種晶圓檢測方法及其機台,係利用即時修改的程式於積體電路製程中依序檢測晶圓。每一即時修改的程式主要係對應一待驗晶圓的實際製造過程,及/或對應同一批量中已檢測晶圓的檢測結果。因此,即使係由一檢測機台所接收的同一批量的晶圓,仍可以不同的程式檢測不同的晶圓,而每一程式可以針對一待檢測晶圓的特定情況進行檢驗。
简体摘要：一种晶圆检测方法及其机台,系利用实时修改的进程于集成电路制程中依序检测晶圆。每一实时修改的进程主要系对应一待验晶圆的实际制造过程,及/或对应同一批量中已检测晶圆的检测结果。因此,即使系由一检测机台所接收的同一批量的晶圆,仍可以不同的进程检测不同的晶圆,而每一进程可以针对一待检测晶圆的特定情况进行检验。

80. 发明专利

TW201025404A 真空環境中加熱基板的方法及系統與辨識基板上缺陷的方法及系統 METHOD AND SYSTEM FOR HEATING SUBSTRATE IN VACUUM ENVIRONMENT AND METHOD AND SYSTEM FOR IDENTIFYING DEFECTS ON SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：真空环境中加热基板的方法及系统与辨识基板上缺陷的方法及系统 METHOD AND SYSTEM FOR HEATING SUBSTRATE IN VACUUM ENVIRONMENT AND METHOD AND SYSTEM FOR IDENTIFYING DEFECTS ON SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201025404A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW098141869
申请日：2009-12-08
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：蕭宏 , 王義向
IPC分类号： H01J , H01L
CPC分类号： H05B3/0047 , G01N23/2202
摘要：提供一種於一真空環境中加熱一基板的方法及系統。此系統包括一腔室以及一光源,腔室用以固定位於真空環境中的基板,而光源用以僅於基板的一部分上投射一光束。此方法包括下列步驟。首先,放置基板於真空腔室中。之後,發射自光源的光束投射於部分的基板上,以在全部的基板被加熱之前加熱此部分。當此光束為一帶電粒子束組件所投射出的一帶電粒子束,且其投射於位於基板上的缺陷上時,缺陷可在終止投射光束之後藉由一檢視組件所提供的一檢視結果來進行辨識。
简体摘要：提供一种于一真空环境中加热一基板的方法及系统。此系统包括一腔室以及一光源,腔室用以固定位于真空环境中的基板,而光源用以仅于基板的一部分上投射一光束。此方法包括下列步骤。首先,放置基板于真空腔室中。之后,发射自光源的光束投射于部分的基板上,以在全部的基板被加热之前加热此部分。当此光束为一带电粒子束组件所投射出的一带电粒子束,且其投射于位于基板上的缺陷上时,缺陷可在终止投射光束之后借由一视图组件所提供的一视图结果来进行辨识。

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