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    • 31. 发明专利
    • 製造電路板之方法及電路板 METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD AND CIRCUIT BOARD
    • 制造电路板之方法及电路板 METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD AND CIRCUIT BOARD
    • TWI377623B
    • 2012-11-21
    • TW097105967
    • 2008-02-20
    • 新力股份有限公司
    • 中村卓矢
    • H01L
    • C23C26/00H01L21/76898Y10T29/49155Y10T29/49165
    • 本發明提供一種製造電路板之方法。該方法包括在一半導體基板中形成複數個第一孔,該等第一孔之各孔係敞開朝向該半導體基板的一前表面;用一絕緣層填充該複數個第一孔的一底部側;用一第一導電層填充在其該底部側上用該絕緣層所填充之該等第一孔;從該半導體基板之背部表面將其拋光,直至曝露填充在該複數第一孔內之個別絕緣層;及在該等經曝露絕緣層之各層內形成一第二孔以致達到該第一導電層,及藉由用該第二導電層填充各第二孔來形成一第二導電層以連接該第一導電層。
    • 本发明提供一种制造电路板之方法。该方法包括在一半导体基板中形成复数个第一孔,该等第一孔之各孔系敞开朝向该半导体基板的一前表面;用一绝缘层填充该复数个第一孔的一底部侧;用一第一导电层填充在其该底部侧上用该绝缘层所填充之该等第一孔;从该半导体基板之背部表面将其抛光,直至曝露填充在该复数第一孔内之个别绝缘层;及在该等经曝露绝缘层之各层内形成一第二孔以致达到该第一导电层,及借由用该第二导电层填充各第二孔来形成一第二导电层以连接该第一导电层。
    • 32. 发明专利
    • 多層基板的製造方法、去膠渣處理方法 METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER SUBSTRATE, DESMEAR TREATMENT METHOD
    • 多层基板的制造方法、去胶渣处理方法 METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER SUBSTRATE, DESMEAR TREATMENT METHOD
    • TW201247073A
    • 2012-11-16
    • TW101102892
    • 2012-01-30
    • 富士軟片股份有限公司
    • 植木志貴濱威史加納丈嘉
    • H05K
    • H05K3/4685H05K3/108H05K3/421H05K3/423H05K3/4652Y10T29/49128Y10T29/49147Y10T29/49155Y10T29/49165
    • 一種所形成的金屬層的密接性及圖案的高精細性佳,且經由孔的金屬層間的連接可靠性高、良率佳的多層基板的製造方法,包括:基材預處理步驟,其按不同順序進行孔形成步驟及金屬附著步驟的2個步驟,其中孔形成步驟是對至少具有絕緣層與第1金屬層的核心基材實施開孔加工,以在絕緣層中設置從絕緣層的另一面到第1金屬層的孔,金屬附著步驟則是在絕緣層的另一面附著特定的金屬或金屬離子;基材預處理步驟後的去膠渣步驟,以電漿蝕刻作去膠渣處理;去膠渣步驟後的清洗步驟,使用酸性溶液清洗核心基材;鍍敷步驟,其對絕緣層供給鍍敷觸媒或其前驅物,並進行鍍敷處理,以在絕緣層上形成經由孔與第1金屬層導通的第2金屬層。
    • 一种所形成的金属层的密接性及图案的高精细性佳,且经由孔的金属层间的连接可靠性高、良率佳的多层基板的制造方法,包括:基材预处理步骤,其按不同顺序进行孔形成步骤及金属附着步骤的2个步骤,其中孔形成步骤是对至少具有绝缘层与第1金属层的内核基材实施开孔加工,以在绝缘层中设置从绝缘层的另一面到第1金属层的孔,金属附着步骤则是在绝缘层的另一面附着特定的金属或金属离子;基材预处理步骤后的去胶渣步骤,以等离子蚀刻作去胶渣处理;去胶渣步骤后的清洗步骤,使用酸性溶液清洗内核基材;镀敷步骤,其对绝缘层供给镀敷触媒或其前驱物,并进行镀敷处理,以在绝缘层上形成经由孔与第1金属层导通的第2金属层。