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31. 发明专利

TW201727382A 可撓式照明器审中-公开
简体标题：可挠式照明器
公开(公告)号：TW201727382A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105139192
申请日：2016-11-29
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：科爾卡派瑞格法那雅克 , KELKAR, PARAG VINAYAK
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/283 , G02B27/142 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/70566 , G03F7/70633
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：將一輻射光束分裂成具有一第一偏振的該光束之一第一部分及具有一第二偏振的該光束之一第二部分；形成具有在該第一偏振與該第二偏振之間之一第一偏振分佈及/或藉由調變該光束之該第一部分而形成具有一第一強度分佈之一第一光束；形成具有在該第一偏振與該第二偏振之間之一第二偏振分佈及/或藉由調變該光束之該第二部分而形成具有一第二強度分佈之一第二光束；及組合具有該第二偏振之該第一光束之至少一部分與具有該第一偏振之該第二光束之至少一部分。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：将一辐射光束分裂成具有一第一偏振的该光束之一第一部分及具有一第二偏振的该光束之一第二部分；形成具有在该第一偏振与该第二偏振之间之一第一偏振分布及/或借由调制该光束之该第一部分而形成具有一第一强度分布之一第一光束；形成具有在该第一偏振与该第二偏振之间之一第二偏振分布及/或借由调制该光束之该第二部分而形成具有一第二强度分布之一第二光束；及组合具有该第二偏振之该第一光束之至少一部分与具有该第一偏振之该第二光束之至少一部分。

32. 发明专利

TWI488008B 快速交換裝置及光罩載物台之共用順應性有权
简体标题：快速交换设备及光罩载物台之共享顺应性
公开(公告)号：TWI488008B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW099107675
申请日：2010-03-16
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：強森理查約翰 , JOHNSON, RICHARD JOHN , 凡丹慕蘭佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 韋斯特伯艾瑞克伯納德 , WESTPHAL, ERIC BERNARD , 希斯頓傑瑞米克雷斯 , HEASTON, JEREMY REX
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70691 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70741 , H01L21/67 , H01L21/67739 , H01L21/67745 , Y10S901/45

34. 发明专利

TW201435518A 在光罩載台環境中之氣流最佳化审中-公开
简体标题：在光罩载台环境中之气流最优化
公开(公告)号：TW201435518A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103105692
申请日：2014-02-20
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：賽伯斯科恩 , CUYPERS, KOEN , 迪安得烈歐力拉瑪切洛亨利克 , DE ANDRADE OLIVEIRA, MARCELO HENRIQUE , 瑞米瑪里努斯珍 , REMIE, MARINUS JAN , 席恩查泰博 , SINGH, CHATTARBIR , 凡柏克哈文羅倫堤斯約翰納斯安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS , 范戴凡亨利可思安妮塔橋瑟夫威西莫司 , VAN DE VEN, HENRICUS ANITA JOZEF WILHEMUS , 風賽卡裘尼爾荷西倪爾頓 , FONSECA JUNIOR, JOSE NILTON , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 波本克丹尼爾奈森 , BURBANK, DANIEL NATHAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 昂夫里喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 史雀司特馬克喬瑟夫 , SCHUSTER, MARK JOSEF , 范巴利高伊羅博特尼可丹賈庫巴 , VAN BALLEGOIJ, ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS , 華德克里斯多弗查爾斯 , WARD, CHRISTOPHER CHARLES , 威斯特雷肯禎史蒂芬克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要：本發明揭示一種用於藉由控制圍繞一微影裝置之一圖案化器件之氣流來縮減疊對誤差的系統。該微影裝置包括一照明系統，該照明系統經組態以調節一輻射光束。該微影裝置進一步包括一可移動載台，該可移動載台包含一支撐結構，該支撐結構可經組態以支撐一圖案化器件。該圖案化器件可經組態以在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束。另外，該微影裝置包含一板，該板定位於該可移動載台與投影系統之間。該板包括一開口，該開口包含一第一側壁及一第二側壁。該板可經組態以在該可移動載台與該投影系統之間的一區中提供一氣體流型，該氣體流型實質上垂直於該照明系統之一光軸。
简体摘要：本发明揭示一种用于借由控制围绕一微影设备之一图案化器件之气流来缩减叠对误差的系统。该微影设备包括一照明系统，该照明系统经组态以调节一辐射光束。该微影设备进一步包括一可移动载台，该可移动载台包含一支撑结构，该支撑结构可经组态以支撑一图案化器件。该图案化器件可经组态以在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。另外，该微影设备包含一板，该板定位于该可移动载台与投影系统之间。该板包括一开口，该开口包含一第一侧壁及一第二侧壁。该板可经组态以在该可移动载台与该投影系统之间的一区中提供一气体流型，该气体流型实质上垂直于该照明系统之一光轴。

35. 发明专利

TWI433213B 可調節波長照明系統有权
简体标题：可调节波长照明系统
公开(公告)号：TWI433213B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW099109700
申请日：2010-03-30
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹伯夫艾瑞傑佛瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賽威爾哈利 , SEWELL, HARRY , 安德森凱斯威廉 , ANDRESEN, KEITH WILLIAM , 艾伯特二世鄂爾威廉 , EBERT JR., EARL WILLIAM , 席恩山傑夫庫馬 , SINGH, SANJEEV KUMAR
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/14 , G02F1/116 , G03F7/70191 , G03F9/7065

36. 发明专利

TWI429018B 用於微影裝置的剪切層夾盤有权
简体标题：用于微影设备的剪切层夹盘
公开(公告)号：TWI429018B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW098111528
申请日：2009-04-07
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：納非耶山米爾A , NAYFEH, SAMIR A. , 威廉斯馬克艾迪 , WILLIAMS, MARK EDD , 凡迪萊姆賈斯汀馬修 , VERDIRAME, JUSTIN MATTHEW
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/683 , H01L21/68714 , H01L21/6875 , Y10S414/141 , Y10T279/34

37. 发明专利

TWI425185B 低及高壓近接感測器有权
简体标题：低及高压近接传感器
公开(公告)号：TWI425185B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW099121550
申请日：2010-06-30
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：里昂喬瑟夫H , LYONS, JOSEPH H.
IPC分类号： G01B13/12 , G03F7/20
CPC分类号： B26F1/00 , B26F2001/4418 , B26F2001/4427 , C08F220/14 , C08F222/1006 , G01B13/12 , G02B1/04 , G03F9/7057 , Y10T428/24843 , Y10T428/26 , Y10T428/31855 , C08L33/00 , C08F2222/1013 , C08F2222/108

38. 发明专利

TWI407266B 光學補償單方向性之主光罩扭曲器有权
简体标题：光学补偿单方向性之主光罩扭曲器
公开(公告)号：TWI407266B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW098136050
申请日：2009-10-23
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：載爾普魯托聖堤亞哥E , DEL PUERTO, SANTIAGO E.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/68 , G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70783

39. 发明专利

TWI397784B 微影方法及裝置有权
简体标题：微影方法及设备
公开(公告)号：TWI397784B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW097147852
申请日：2008-12-09
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：哈利史威爾 , SEWELL, HARRY , 喬茲夫佩勒斯韓瑞卡班斯洽普 , BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/0043 , G03F7/70466

40. 发明专利

TW200912384A 散射量測之折射反射式光學系統 CATADIOPTRIC OPTICAL SYSTEM FOR SCATTEROMETRY 审中-公开
简体标题：散射量测之折射反射式光学系统 CATADIOPTRIC OPTICAL SYSTEM FOR SCATTEROMETRY
公开(公告)号：TW200912384A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097126818
申请日：2008-07-15
申请人： ASML控股公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：葉伊慈康斯坦那屈薛瑪 SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 史坦尼斯拉夫Y 史密諾 SMIRNOV, STANISLAV Y. , 艾莉娜I 波辛斯卡雅 POZHINSKAYA, IRINA I.
IPC分类号： G02B , G03F
CPC分类号： G01N21/47 , G01N2021/4714 , G02B17/0808 , G02B17/0856 , G02B21/04 , G02B27/0025 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要：本發明揭示一種具有一高數値孔徑之折射反射式光學系統,其在一寬光譜範圍內操作。該折射反射式光學系統包括一校正板、一第一反射表面及一第二反射表面。該校正板調節電磁輻射以校正至少一像差。該第一反射表面經定位以反射由該校正板所調節之該電磁輻射。該第二反射表面經定位以將由該第一反射表面所反射之該電磁輻射聚焦至一基板之一目標部分上。由該第一反射表面所反射且由該第二反射表面所聚焦之該電磁輻射未由一折射元件折射,藉此使該折射反射式光學系統能夠在一寬光譜範圍內操作。
简体摘要：本发明揭示一种具有一高数値孔径之折射反射式光学系统,其在一宽光谱范围内操作。该折射反射式光学系统包括一校正板、一第一反射表面及一第二反射表面。该校正板调节电磁辐射以校正至少一像差。该第一反射表面经定位以反射由该校正板所调节之该电磁辐射。该第二反射表面经定位以将由该第一反射表面所反射之该电磁辐射聚焦至一基板之一目标部分上。由该第一反射表面所反射且由该第二反射表面所聚焦之该电磁辐射未由一折射组件折射,借此使该折射反射式光学系统能够在一宽光谱范围内操作。

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