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21. 发明专利

TWI443378B 反射折射投影光學系統、反射折射光學裝置、掃描曝光裝置以及微元件的製造方法有权
简体标题：反射折射投影光学系统、反射折射光学设备、扫描曝光设备以及微组件的制造方法
公开(公告)号：TWI443378B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW096107462
申请日：2007-03-05
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G02B27/18 , G02B26/10 , G03B27/16 , H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791

22. 发明专利

TW202018436A 圖案描繪裝置及圖案描繪方法审中-公开
简体标题：图案描绘设备及图案描绘方法
公开(公告)号：TW202018436A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW109101148
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

23. 发明专利

TWI691805B 元件製造方法有权
简体标题：组件制造方法
公开(公告)号：TWI691805B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107144809
申请日：2012-11-29
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/23

24. 发明专利

TWI691799B 光束掃描裝置及描繪裝置有权
简体标题：光束扫描设备及描绘设备
公开(公告)号：TWI691799B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW105108383
申请日：2016-03-18
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 小宮山弘樹 , KOMIYAMA, HIROKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24 , G02B26/12 , H01L21/027

25. 发明专利

TW202004850A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW202004850A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108137624
申请日：2015-07-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：堀正和 , HORI, MASAKAZU , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種圓筒構件之位置檢測裝置，其具備第2筒構件22、沿第2筒構件22之旋轉方向排列成環狀且與第2筒構件22一起繞第2中心軸AX2旋轉用以測量在第2筒構件22之周方向之位置變化的複數個刻度GP、讀取刻度GP之編碼器讀頭EN4、以及配置在與編碼器讀頭EN4相異位置以讀取刻度GP之編碼器讀頭EN5。圓筒構件之位置檢測裝置，根據編碼器讀頭EN4之讀取值與編碼器讀頭EN5之讀取值之差，修正刻度GP之誤差。
简体摘要：本发明提供一种圆筒构件之位置检测设备，其具备第2筒构件22、沿第2筒构件22之旋转方向排列成环状且与第2筒构件22一起绕第2中心轴AX2旋转用以测量在第2筒构件22之周方向之位置变化的复数个刻度GP、读取刻度GP之编码器读头EN4、以及配置在与编码器读头EN4相异位置以读取刻度GP之编码器读头EN5。圆筒构件之位置检测设备，根据编码器读头EN4之读取值与编码器读头EN5之读取值之差，修正刻度GP之误差。

26. 发明专利

TWI681261B 元件製造系統有权
简体标题：组件制造系统
公开(公告)号：TWI681261B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW107115588
申请日：2014-07-07
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 小宮山弘樹 , KOMIYAMA, HIROKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

27. 发明专利

TWI668736B 片狀基板之搬送裝置有权
简体标题：片状基板之搬送设备
公开(公告)号：TWI668736B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW107137773
申请日：2015-07-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：堀正和 , HORI, MASAKAZU , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

28. 发明专利

TWI648601B 基板處理裝置以及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI648601B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106109149
申请日：2012-11-29
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/23

29. 发明专利

TW201843538A 元件製造方法审中-公开
简体标题：组件制造方法
公开(公告)号：TW201843538A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107128621
申请日：2015-09-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24
摘要：本發明提供一種即使是在以任一處理裝置對片狀基板實際實施之處理之狀態與目標之處理狀態不同時，亦能在無需停止製造系統全體之情形下，進行電子元件之製造之處理系統及元件製造方法。一種將長條之可撓性片狀基板(P)沿長條方向依序搬送至第1~第3處理裝置(PR2~PR4)之各個，以在片狀基板(P)形成既定圖案的處理系統(10)，第1~第3處理裝置(PR2~PR4)依據設定於各個處理裝置之設定條件對片狀基板(P)施以既定處理，在第1~第3處理裝置(PR2~PR4)之各個中對片狀基板(P)實施之實處理狀態中之至少1者相對目標之處理狀態呈現處理誤差(E)之情形時，使呈現處理誤差(E)之設定條件以外之其他設定條件因應處理誤差(E)變化。
简体摘要：本发明提供一种即使是在以任一处理设备对片状基板实际实施之处理之状态与目标之处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体之情形下，进行电子组件之制造之处理系统及组件制造方法。一种将长条之可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1~第3处理设备(PR2~PR4)之各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1~第3处理设备(PR2~PR4)依据设置于各个处理设备之设置条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1~第3处理设备(PR2~PR4)之各个中对片状基板(P)实施之实处理状态中之至少1者相对目标之处理状态呈现处理误差(E)之情形时，使呈现处理误差(E)之设置条件以外之其他设置条件因应处理误差(E)变化。

30. 发明专利

TW201832017A 元件製造系統审中-公开
简体标题：组件制造系统
公开(公告)号：TW201832017A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107115588
申请日：2014-07-07
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 小宮山弘樹 , KOMIYAMA, HIROKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：本發明之目的在降低對曝光單元之振動，更合適的進行使用曝光單元之曝光。基板處理裝置(U3)，具備設在設置面(E)上之除振台(131)、設在除振台(131)上對被供應之基板(P)進行曝光處理之曝光單元(121)以及設在設置面(E)上並與曝光單元(121)成非接觸之獨立狀態設置、作為進行對曝光單元(121)之處理之處理單元的位置調整單元(120)及驅動單元(122)。
简体摘要：本发明之目的在降低对曝光单元之振动，更合适的进行使用曝光单元之曝光。基板处理设备(U3)，具备设在设置面(E)上之除振台(131)、设在除振台(131)上对被供应之基板(P)进行曝光处理之曝光单元(121)以及设在设置面(E)上并与曝光单元(121)成非接触之独立状态设置、作为进行对曝光单元(121)之处理之处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

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