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1. 发明专利

TW202004368A 圖案描繪裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：图案描绘设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW202004368A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108135217
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

2. 发明专利

TW201843757A 處理系統审中-公开
简体标题：处理系统
公开(公告)号：TW201843757A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107128620
申请日：2015-09-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種即使是在以任一處理裝置對片狀基板實際實施之處理之狀態與目標之處理狀態不同時，亦能在無需停止製造系統全體之情形下，進行電子元件之製造之處理系統。一種將長條之可撓性片狀基板(P)沿長條方向依序搬送至第1~第3處理裝置(PR2~PR4)之各個，以在片狀基板(P)形成既定圖案的處理系統(10)，第1~第3處理裝置(PR2~PR4)依據設定於各個處理裝置之設定條件對片狀基板(P)施以既定處理，在第1~第3處理裝置(PR2~PR4)之各個中對片狀基板(P)實施之實處理狀態中之至少1者相對目標之處理狀態呈現處理誤差(E)之情形時，使呈現處理誤差(E)之設定條件以外之其他設定條件因應處理誤差(E)變化。
简体摘要：本发明提供一种即使是在以任一处理设备对片状基板实际实施之处理之状态与目标之处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体之情形下，进行电子组件之制造之处理系统。一种将长条之可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1~第3处理设备(PR2~PR4)之各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1~第3处理设备(PR2~PR4)依据设置于各个处理设备之设置条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1~第3处理设备(PR2~PR4)之各个中对片状基板(P)实施之实处理状态中之至少1者相对目标之处理状态呈现处理误差(E)之情形时，使呈现处理误差(E)之设置条件以外之其他设置条件因应处理误差(E)变化。

3. 发明专利

TW201820671A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201820671A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106126506
申请日：2017-08-07
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本發明係一種將長條之片狀基板於長條方向上搬送並對片狀基板實施既定之處理之基板處理裝置，且設置有：處理機構，其對片狀基板之長條方向之每一部分實施既定之處理；搬送機構，其一面對通過處理機構之片狀基板賦予既定之張力，一面將片狀基板按照既定速度於長條方向上搬送；卡留機構，其配置於片狀基板之搬送路徑中之既定位置，且能夠將片狀基板卡留於既定位置；以及控制裝置，其於暫時停止片狀基板之搬送之情形時，以使片狀基板之搬送速度降低之方式控制搬送機構，並且以於搬送速度成為既定值以下之時點將片狀基板卡留於既定位置之方式控制卡留機構。
简体摘要：本发明系一种将长条之片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定之处理之基板处理设备，且设置有：处理机构，其对片状基板之长条方向之每一部分实施既定之处理；搬送机构，其一面对通过处理机构之片状基板赋予既定之张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板之搬送路径中之既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制设备，其于暂时停止片状基板之搬送之情形时，以使片状基板之搬送速度降低之方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下之时点将片状基板卡留于既定位置之方式控制卡留机构。

4. 发明专利

TWI695235B 圖案描繪裝置及元件製造方法有权
简体标题：图案描绘设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI695235B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108135217
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

5. 发明专利

TWI692830B 處理系統有权
简体标题：处理系统
公开(公告)号：TWI692830B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW107128620
申请日：2015-09-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20

6. 发明专利

TWI684836B 圖案描繪裝置有权
简体标题：图案描绘设备
公开(公告)号：TWI684836B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW108114726
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68

7. 发明专利

TWI649784B 圓筒構件之位置檢測裝置、基板處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：圆筒构件之位置检测设备、基板处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI649784B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104123905
申请日：2015-07-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：堀正和 , HORI, MASAKAZU , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

8. 发明专利

TW201842419A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201842419A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107127841
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

9. 发明专利

TWI640835B 基板處理裝置、元件製造方法及基板處理裝置之調整方法有权
简体标题：基板处理设备、组件制造方法及基板处理设备之调整方法
公开(公告)号：TWI640835B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104110607
申请日：2015-04-01
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

10. 发明专利

TWI639064B 基板處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI639064B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104109884
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68

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