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1. 发明专利

TW202004958A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW202004958A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108139039
申请日：2013-01-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20
摘要：本發明之基板處理裝置係將沿著圓筒面而保持之光罩之圖案形成於基板之表面所形成之光感應層者，且具備：光罩保持部，其具備沿著該圓筒面保持該光罩之光罩保持面，且可繞既定之軸線旋轉；環繞保持部，其具備接觸保持該基板之基板保持面，且可繞與該既定之軸線大致平行之軸線環繞；及間距形成部，其於該光罩保持面與該基板保持面之間形成既定量之間距。
简体摘要：本发明之基板处理设备系将沿着圆筒面而保持之光罩之图案形成于基板之表面所形成之光感应层者，且具备：光罩保持部，其具备沿着该圆筒面保持该光罩之光罩保持面，且可绕既定之轴线旋转；环绕保持部，其具备接触保持该基板之基板保持面，且可绕与该既定之轴线大致平行之轴线环绕；及间距形成部，其于该光罩保持面与该基板保持面之间形成既定量之间距。

2. 发明专利

TW201919974A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW201919974A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW108101214
申请日：2013-01-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 小宮山弘樹 , KOMIYAMA, HIROKI
IPC分类号： B65G49/07
摘要：本發明之曝光裝置係於具有可撓性之長條之基板上轉印電子電路之圖案，其特徵在於：具備旋轉筒，具有離第二軸線一定之半徑之圓筒狀之外周面，在將前述基板之長條方向之一部分捲繞於前述外周面之狀態下繞前述第二軸線旋轉，將前述基板於前述長條方向搬送；光罩保持機構，將沿著以離第一軸線既定半徑彎曲為圓筒面狀之外周面形成有光罩圖案且可繞前述第一軸線旋轉之複數個圓筒光罩，在使前述第一軸線與前述第二軸線平行之狀態下，於與前述基板之長條方向交叉之寬度方向和前述旋轉筒之前述外周面之周方向非接觸保持，並將形成於前述複數個圓筒光罩之各個之前述外周面之前述光罩圖案與被以前述旋轉筒支持之前述基板之表面設定為既定間隔；驅動部，發生用來使前述圓筒光罩之各個繞前述第一軸線旋轉之旋轉推力和用來使前述圓筒光罩之各個於與前述第一軸線平行之方向微動之並進推力。
简体摘要：本发明之曝光设备系于具有可挠性之长条之基板上转印电子电路之图案，其特征在于：具备旋转筒，具有离第二轴线一定之半径之圆筒状之外周面，在将前述基板之长条方向之一部分卷绕于前述外周面之状态下绕前述第二轴线旋转，将前述基板于前述长条方向搬送；光罩保持机构，将沿着以离第一轴线既定半径弯曲为圆筒面状之外周面形成有光罩图案且可绕前述第一轴线旋转之复数个圆筒光罩，在使前述第一轴线与前述第二轴线平行之状态下，于与前述基板之长条方向交叉之宽度方向和前述旋转筒之前述外周面之周方向非接触保持，并将形成于前述复数个圆筒光罩之各个之前述外周面之前述光罩图案与被以前述旋转筒支持之前述基板之表面设置为既定间隔；驱动部，发生用来使前述圆筒光罩之各个绕前述第一轴线旋转之旋转推力和用来使前述圆筒光罩之各个于与前述第一轴线平行之方向微动之并进推力。

3. 发明专利

TW201842420A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201842420A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107127840
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

4. 发明专利

TW201841237A 基板之切斷或接合裝置、及基板處理系統审中-公开
简体标题：基板之切断或接合设备、及基板处理系统
公开(公告)号：TW201841237A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107125904
申请日：2013-05-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： H01L21/301 , H01L21/677
摘要：基板處理系統，具備：第1處理單元，對以速度V1搬送之基板連續地施加第1處理；以及第2處理單元，以速度V2搬送以第1處理單元處理後之基板，對基板連續地施加第2處理；其特徵在於：視第1、第2處理單元之各個之性能，可將速度之關係設定成V1>V2之情形，設置複數個第2處理單元，且進一步具備切斷機構、與選擇投入機構；視第1、第2處理單元之各個之性能，可將速度之關係設定成V1
简体摘要：基板处理系统，具备：第1处理单元，对以速度V1搬送之基板连续地施加第1处理；以及第2处理单元，以速度V2搬送以第1处理单元处理后之基板，对基板连续地施加第2处理；其特征在于：视第1、第2处理单元之各个之性能，可将速度之关系设置成V1>V2之情形，设置复数个第2处理单元，且进一步具备切断机构、与选择投入机构；视第1、第2处理单元之各个之性能，可将速度之关系设置成V1

5. 发明专利

TWI695235B 圖案描繪裝置及元件製造方法有权
简体标题：图案描绘设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI695235B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108135217
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

6. 发明专利

TWI684836B 圖案描繪裝置有权
简体标题：图案描绘设备
公开(公告)号：TWI684836B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW108114726
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68

7. 发明专利

TWI674645B 圖案形成裝置有权
简体标题：图案形成设备
公开(公告)号：TWI674645B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：TW108112908
申请日：2012-12-10
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI
IPC分类号： H01L21/68 , B65G15/58

8. 发明专利

TWI649784B 圓筒構件之位置檢測裝置、基板處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：圆筒构件之位置检测设备、基板处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI649784B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104123905
申请日：2015-07-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：堀正和 , HORI, MASAKAZU , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

9. 发明专利

TW201842419A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201842419A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107127841
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

10. 发明专利

TWI640835B 基板處理裝置、元件製造方法及基板處理裝置之調整方法有权
简体标题：基板处理设备、组件制造方法及基板处理设备之调整方法
公开(公告)号：TWI640835B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104110607
申请日：2015-04-01
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

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