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1. 发明专利

TW201843535A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201843535A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107129634
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

2. 发明专利

TW201827321A 電子元件之製造系統审中-公开
简体标题：电子组件之制造系统
公开(公告)号：TW201827321A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW107110611
申请日：2012-02-22
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677
摘要：搬送裝置，其具備：供應滾筒，送出形成為帶狀且具有可撓性之基板；回收滾筒，捲取從前述供應滾筒送出之前述基板；以及驅動部，將供應滾筒與回收滾筒驅動於相對從供應滾筒往回收滾筒之基板之運送方向交叉之方向。
简体摘要：搬送设备，其具备：供应滚筒，送出形成为带状且具有可挠性之基板；回收滚筒，卷取从前述供应滚筒送出之前述基板；以及驱动部，将供应滚筒与回收滚筒驱动于相对从供应滚筒往回收滚筒之基板之运送方向交叉之方向。

3. 发明专利

TW201820671A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201820671A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106126506
申请日：2017-08-07
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本發明係一種將長條之片狀基板於長條方向上搬送並對片狀基板實施既定之處理之基板處理裝置，且設置有：處理機構，其對片狀基板之長條方向之每一部分實施既定之處理；搬送機構，其一面對通過處理機構之片狀基板賦予既定之張力，一面將片狀基板按照既定速度於長條方向上搬送；卡留機構，其配置於片狀基板之搬送路徑中之既定位置，且能夠將片狀基板卡留於既定位置；以及控制裝置，其於暫時停止片狀基板之搬送之情形時，以使片狀基板之搬送速度降低之方式控制搬送機構，並且以於搬送速度成為既定值以下之時點將片狀基板卡留於既定位置之方式控制卡留機構。
简体摘要：本发明系一种将长条之片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定之处理之基板处理设备，且设置有：处理机构，其对片状基板之长条方向之每一部分实施既定之处理；搬送机构，其一面对通过处理机构之片状基板赋予既定之张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板之搬送路径中之既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制设备，其于暂时停止片状基板之搬送之情形时，以使片状基板之搬送速度降低之方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下之时点将片状基板卡留于既定位置之方式控制卡留机构。

4. 发明专利

TWI679717B 旋轉光罩單元及基板處理裝置有权
简体标题：旋转光罩单元及基板处理设备
公开(公告)号：TWI679717B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107134446
申请日：2013-01-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20

5. 发明专利

TWI672568B 曝光裝置有权
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TWI672568B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW107130374
申请日：2014-03-31
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/82

6. 发明专利

TWI701206B 電子元件之製造系統有权
简体标题：电子组件之制造系统
公开(公告)号：TWI701206B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW107110611
申请日：2012-02-22
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677

7. 发明专利

TW202022505A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW202022505A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW109102647
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件（DR），其具有自特定之中心線（AX2）以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板（P）；處理機構，其於基板之一部分之特定位置（PA、EL2），對基板實施特定處理；標尺構件（SD），其具有標尺部（GP），該標尺部（GP）與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構（EN1、EN2），其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件（DR），其具有自特定之中心线（AX2）以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板（P）；处理机构，其于基板之一部分之特定位置（PA、EL2），对基板实施特定处理；标尺构件（SD），其具有标尺部（GP），该标尺部（GP）与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构（EN1、EN2），其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

8. 发明专利

TWI686678B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI686678B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107129634
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

9. 发明专利

TW202004958A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW202004958A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108139039
申请日：2013-01-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20
摘要：本發明之基板處理裝置係將沿著圓筒面而保持之光罩之圖案形成於基板之表面所形成之光感應層者，且具備：光罩保持部，其具備沿著該圓筒面保持該光罩之光罩保持面，且可繞既定之軸線旋轉；環繞保持部，其具備接觸保持該基板之基板保持面，且可繞與該既定之軸線大致平行之軸線環繞；及間距形成部，其於該光罩保持面與該基板保持面之間形成既定量之間距。
简体摘要：本发明之基板处理设备系将沿着圆筒面而保持之光罩之图案形成于基板之表面所形成之光感应层者，且具备：光罩保持部，其具备沿着该圆筒面保持该光罩之光罩保持面，且可绕既定之轴线旋转；环绕保持部，其具备接触保持该基板之基板保持面，且可绕与该既定之轴线大致平行之轴线环绕；及间距形成部，其于该光罩保持面与该基板保持面之间形成既定量之间距。

10. 发明专利

TWI626515B 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI626515B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

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